「light pattern」を含む例文一覧(7056)

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  • To provide a resist composition having a broad process window in contact hole formation in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, and capable of suppressing pit formation in flow baking, and to provide a method of forming a pattern using the same.
    遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションに於いて、コンタクトホール形成において広いプロセスウインドウをもち、かつフローベーク時のピット形成を抑制出来るレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • A three-dimensional simulator 30 simulates the transmitted light for the structure having the pattern 11 and the three-dimensional groove structure 21 to obtain the intensity deviation D of the transmitted light for the apertures of odd numbers having no groove and the apertures of even numbers having a groove.
    三次元シミュレータ30により、パターン11および三次元溝構造21を有する構造体についての透過光シミュレーションを実行し、溝のない奇数番目の開口窓と溝のある偶数番目の開口窓とについて、透過光の強度偏差Dを求める。 - 特許庁
  • When a 0.5 linewidth equivalent at the tip of the storage medium 83 reaches just below a first light receiving face 73a and a second light receiving face 73b, first and second irradiation movements are performed respectively, and read luminance information is stored as first and second luminance pattern information G1 and G2.
    記録媒体83の先端の0.5ライン幅分が第1受光面73a、第2受光面73bの直下にきたとき1回目、2回目の照射動作をそれぞれ行い、読み取った輝度情報を第1、第2輝度パターン情報G1、G2として格納する。 - 特許庁
  • A light from a surface light source 1 irradiates the diffusion plate 3 through a pattern mask 2, the diffusion plate 3 is photographed by a camera 4, and the degree of dispersion of the pixel outputs of the taken image is calculated and processed to evaluate the quality of the diffusion plate, based on the degree of dispersion thereof.
    面光源1の光をパターンマスク2を通して拡散板3に当て、その拡散板3をカメラ4で撮像し、撮像された像の各画素出力のばらつきの程度を算出処理し、このばらつきの程度に基づいて、拡散板を品質評価する。 - 特許庁
  • Then, the intensity of interference light regarding a second material to be treated whose constitution is identical to that of the first material to be treated is measured regarding a plurality of wavelengths, and an actual pattern using a wavelength as a parameter fro the differential value of the measured intensity of the interference light is found.
    次いで、前記第1の被処理材と同一構成の第2の被処理材についての干渉光の強度を複数波長についてそれぞれ測定し、該測定された干渉光強度の微分値の、波長をパラメータとする実パターンを求める。 - 特許庁
  • To provide a unit which images a plane subject with a translucent pattern while giving a sufficient quantity of light to a translucent part and without causing a CCD element to have the problem of blooming, etc., due to light quantity saturation at a completely transparent part.
    半透明パターンを持つ平面状被写体の撮像装置であって、半透明部に十分な光量を与えて、かつ完全透明部でCCD素子が光量飽和によるブルーミング等の問題を発生させることなしに撮像する装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a halftone phase shift mask which gives a symmetric spatial image with respect to an image plane even when the dimension of a pattern formed on the mask is in the size of around wavelengths of light from a light source, and to provide an exposure method using the mask.
    ハーフトーン型位相シフトマスクであってこれに形成されたパターンの寸法が光源光の波長程度の大きさであっても、空中像が像面に関して対称となるようなハーフトーン型位相シフトマスク及びこれを用いた露光方法を提供すること。 - 特許庁
  • Since filtering of scale light, containing a scale grid pattern image performed by a phase mask 120 having a light shielding-featured periodic structure, enables acquisition of more detailed information on the relative displacement, measurement accuracy can be improved.
    スケール格子パターンの画像を含むスケール光を、遮光要素を含んだ周期構造を有する位相マスク120によってフィルタリングすることによって、前記相対変位に関するより詳細な情報を取得できるから、測定精度を向上させることができる。 - 特許庁
  • Various elements (a multiple light simultaneous polarization conversion element, multiple-light selective polarization conversion element, etc.) are manufactured by periodically disposing a plurality of transparent magnetic bodies differed in wavelength dependency in a pattern shape or changing the wire-to-wire period of the wire grid polarizer.
    波長依存性が異なる複数の透明磁性体をパターン状に周期的に配置するか、ワイヤグリッド偏光子のワイヤ間周期を変化させて構成して各種素子(複数光の同時偏光変換素子、複数光の選択的偏光変換素子等)を作製する。 - 特許庁
  • The biometric authentication device 1 includes a light source 10, a detection section 11, a microlens array 12, a shade section 13, an imaging element 14, an image processing section 15, a pattern-holding section 16, an authentication section 17, a light source drive section 181, an imaging element drive section 182, and control section 19.
    生体認証装置1は、光源10と、検知部11と、マイクロレンズアレイ12と、遮光部13と、撮像素子14と、画像処理部15と、パターン保持部16と、認証部17と、光源駆動部181と、撮像素子駆動部182と、制御部19とを備える。 - 特許庁
  • In a pattern formation method in which a photosensitive composition containing a photochromic compound showing photochromism by inserting modification groups into a basic skeleton with rings reversibly opening and closing by light and/or heat, the base skeleton has a structure represented by formula I, and the photosensitive composition is irradiated with a ring-opening wavelength light so that the substance migration of the photosensitive composition is performed.
    光及び/又は熱によって可逆的に開環−閉環する環を有する基本骨格に修飾基が導入されてフォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、基本骨格は、式I - 特許庁
  • To provide an article management system, a radio tag, and radio tag communication equipment for enabling a user to surely grasp a radio tag to be retrieved by the light emission pattern of the light emission means of a radio tag in the case of retrieving his or her desired radio tag by a plurality of radio communication equipment.
    複数の無線タグ通信装置でそれぞれ所望の無線タグを探索した場合に、無線タグの発光手段の発光パターンにより、探索対象の無線タグを確実に把握できる物品管理システム、無線タグ、無線タグ通信装置を提供する。 - 特許庁
  • Thus, even when the position of the laser beam L incident on the spatial light modulator is deviated or the like for example, the position of the modulation pattern H can be changed according to this deviation, and the laser beam L can be always modulated favorably by the spatial light modulator.
    そのため、例えば空間光変調器に入射するレーザ光Lの位置がズレた場合等においても、かかるズレに応じて変調パターンHの位置を変化させることができ、空間光変調器でレーザ光Lを常に好適に変調させることが可能となる。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor laser device in which a desired lateral mode is stable and a far-field pattern of light intensity has a solely-high main peak and extremely low side-lobes although a width of a light emitting stripe region is wide and high power is extracted, and to provide an optical wireless communication system employing the same.
    発光ストライプ領域の幅が広くて大出力であるにも拘らず、横モードが安定して、かつ、遠視野像の光強度が、主ピークのみが強くてサイドローブが極めて小さい半導体レーザ装置と、それを用いた光無線通信システムを提供する。 - 特許庁
  • To prevent dropping of production efficiency and quality degradation in an integrated circuit pattern by stabilizing spectrum width of laser light within one burst period by causing the spectrum width of laser light outputted during an unstable period in one burst period to approach a target spectrum width.
    1バースト期間のうちの不安定期間に出力されるレーザ光のスペクトル幅を目標とするスペクトル幅に近づけて、1バースト期間内でレーザ光のスペクトル幅を安定させることによって、集積回路パターンの品質悪化や生産効率の低下を防止する。 - 特許庁
  • This optical element is formed of a light-transmitting material and is provided with a pattern constituted of a part of the peripheral surface of a truncated cone 81 and reflecting a part of incident light in a direction to separate it from an optical axis passing through the center of an element in the vicinity of the optical axis.
    光学素子34は、光透過材料で形成されており、素子の中心を通る光軸近傍に、円錐台形の周面の一部で構成され、入射される光の一部を前記光軸から離れる方向に反射するパターンを設けた。 - 特許庁
  • When all five picture pattern stop lines L1-L5 are validated, the emission of the full color LED 142 and 144 on the upper and lower sides of the back light illuminators 14A and 14C and the full color LED 143 in the center of the back light illuminator 14B is controlled to blue.
    5本の図柄停止ラインL1〜L5のすべてが有効化された場合には、バックライト照明装置14A,14Cの上下のフルカラーLED142,144およびバックライト照明装置14Bの中央のフルカラーLED143が青色に発光制御される。 - 特許庁
  • The light diffusing body is characterized in that, in a foamed sheet, pattern print is formed on at least either side of the foamed sheet provided with a light diffusing part involving bubbles foamed by the application of radiation energy and/or heat energy, by ink.
    放射線エネルギーおよび/又は熱エネルギーの付与により発泡した気泡が内在する光拡散部を備える発泡シートにおいて、該発泡シートの少なくとも片面に、インキによりパターン印刷を形成していることを特徴とする光拡散体である。 - 特許庁
  • To provide a lens sheet and a light diffusable substrate or a transmission type screen for a projection television having good color balance by suppressing the deterioration of a photosensitive resin layer forming a light shielding pattern without using a UV absorbent.
    本発明の課題とするところは、紫外線吸収剤を使用することなく、遮光パターンを形成する感光性樹脂層の劣化を改善し、良好なカラーバランスのプロジェクションテレビ用のレンズシート及び光拡散性基板もしくは透過型スクリーンを提供することにある。 - 特許庁
  • To provide a photomask blank in which the surface reflectance of a light shielding film in a short wavelength region of 190 to 300 nm (particularly near 200 nm) is sufficiently decreased and favorable pattern transfer accuracy is obtained even for an exposure light source in the tendency of shorter wavelengths.
    190〜300nmの短波長域(特に200nm近傍)における遮光膜の表面反射率を十分に低減させ、短波長化の傾向にある露光光源に対しても良好なパターン転写精度が得られるフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁
  • An intermediate layer having a light degrading activity is provided between the base layer and the uppermost layer to improve the resolution of a water repellent/hydrophilic pattern, and selective decomposition is performed to impart hydrophilicity to the surface layer having the water repellency by light irradiation through a photomask.
    撥水/親水パターンの解像度を向上させるため、光分解活性を有する中間層を下地層と最上層の間に設け、フォトマスクを介した光照射による撥水性を有する表面層の選択的分解、親水化を可能とする。 - 特許庁
  • Also the aligner, being an aligner having an optical system containing a diffraction optical element such as a BO element to project the original plate pattern illuminated with light from the light source on the substrate, is characterized by having the diffraction optical element.
    また、本発明の露光装置は、光源からの光で照明した原版のパターンを基板上に投影するため、BO素子のような回析光学素子を含む光学系を有する露光装置において、本発明の回折光学素子を有することを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide an optical printer head which facilitates the mounting of a light emitting element array chip and a head substrate and can easily achieve the electrical connection between a connecting terminal electrode of the light emitting element array chip and a wiring pattern of the head substrate, and a method of manufacturing the optical printer head and an optical printer.
    本発明は、発光素子アレイチップとヘッド基板との搭載が容易となり、発光素子アレイチップの接続端子電極とヘッド基板の配線パターンとの電気的な接続が非常に容易に達成できる光プリンタヘッドおよびプリンタを提供することにある。 - 特許庁
  • The image sensor unit 71 emits a light onto the upper side of the 2nd reference white board 68 to detect a reflected light pattern with a luminous quantity distribution corresponding to the mount position of the image sensor unit 71 from the first index faces S1.S1 and the second index faces S2.S2.
    イメージセンサユニット71は第2基準白板68の上面に光照射を行って、第1指標面S1・S1および第2指標面S2・S2からの、イメージセンサユニット71の取り付け位置に応じた光量分布の反射光パターンを検出する。 - 特許庁
  • A biometric apparatus 1 consists of a light source 10, a glass substrate 11, an image capture lens 12, an image pickup device 13, an image processing section 14, a pattern retention section 15, an authentication section 16, a light source drive section 17, an image pickup device drive section 18, and a control section 19.
    生体認証装置1は、光源10と、ガラス基板11と、撮像レンズ12と、撮像素子13と、画像処理部14と、パターン保持部15と、認証部16と、光源駆動部17と、撮像素子駆動部18と、制御部19とから構成されている。 - 特許庁
  • To provide a driving method of a light emitting device and the light emitting device for reducing pattern noise when taking in the image of a subject and observing an image full of color reproducibility with little color tone unevenness, in the application to an endoscope or the like.
    内視鏡装置等の用途において、被写体の画像を取り込んだ際のパターンノイズを低減させることができ、色調バラツキの少ない色再現性に富む画像を観察することができる発光装置の駆動方法及び発光装置を提供する。 - 特許庁
  • The light reflection pattern 15 is formed along the axial direction of a linear light guide 3 arranged close to one side 6 of the transparent substrate 2, and constructed by groove parts 16a, 16b, 16c... with trapezoidal cross section, and approximately flat parts 17a, 17b, 17c... adjacent to the groove part.
    光反射パターン15は、透明基板2の一側面6に近接して配置される直線状の導光体3の軸方向に沿って形成され、その断面形状がほぼ台形の溝部16a、16b、16c…と、溝部に隣接する略平坦部17b、17c、17d…とから構成されている。 - 特許庁
  • An information recording medium constituted by forming a light reflective film 4 inhibiting or allowing DRAW of information on a preformat pattern forming surface 3 of a transparent substrate 2 and laminating an optical recording film on the light reflective film 4 is used as the optical information recording medium 1.
    光情報記録媒体1としては、透明基板2のプリフォーマットパターン形成面3に、情報の追記が不能又は可能な光反射性膜4が形成され、この光反射性膜4上に光学的記録膜が積そうされたものを用いる。 - 特許庁
  • To provide a relief printing plate for a highly precise printing capable of forming an ink pattern requiring an extremely high printing accuracy represented by a case where an organic light emitting layer in an organic EL element is formed by using an organic light emitting ink by a relief printing process.
    有機EL素子における有機発光層を有機発光インキを用いて凸版印刷法により形成する場合に代表される、非常に高い印刷精度が必要とされるインキパターンを形成することが可能な高精細印刷用凸版を提供する。 - 特許庁
  • Changing the pattern of the marker, providing a step or a tilt to the mount of the marker, and changing the lightness of the marker or the light source corresponding to the reading operation can distinguish the lightness from other lightness to prevent wrong detection and missing detection of a fault in the exclusive light source.
    マーカ部の模様や取付け方に段差や傾斜をもたせること、さらには読取り動作と対応してマーカあるいは光源の明るさに変化をつけることにより、他の明るさと区別し専用光源の異常について誤検知と検知漏れを防止する。 - 特許庁
  • The image-forming optical system forms a light from a part on an extension of the read line of a position read pattern drawn on a position read board 11, and the CCD sensor 30 detects the light so as to detect deviations in the scanning position in the subscanning direction based thereon.
    位置読取用板11に描かれた位置読取用パターンの読み取りライン延長上の部分からの光も結像光学系により結像されCCDセンサ30により検出され、これに基づいて副走査方向の走査位置ずれが検出される。 - 特許庁
  • To provide a positive resist composition which shows sufficient transmitting property when an exposure light source at ≤160 nm, specifically, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used and which is improved in surface roughness, development defect, scum and resolving power, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.
    160nm以下、具体的にはF_2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源使用時に十分な透過性を示し、表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • The marker light applied by a marker light application part 16 to the subject of reading for indicating a reading position consists of four L-shaped patterns that match four corners of the imaging field of view of a photosensor, and a cruciform pattern indicating the center among the four patterns.
    マーカ光照射部16により読取対象に対して照射される読取位置を示すためのマーカ光は、受光センサの撮像視野の4つのコーナー部に対応した4個のL字状のパターンと、その中心部を示す十字状のパターンとからなる。 - 特許庁
  • To provide an optical transmitter circuit operable at a low voltage which prevents the waveform deterioration due to the parasitic capacitance of a light emitting element drive stage common emitter in a light emitting element drive circuit and outputs a stable waveform which does not depend on the pulse current and input pattern.
    発光素子駆動回路の発光素子駆動段コモンエミッタ部の寄生容量に起因する波形劣化を防止し、パルス電流及び入力パターンに依存しない安定した波形を出力する、低電圧動作可能な光送信回路を提供する。 - 特許庁
  • To provide a highly accurate phosphor-powder-application process of a light-emitting diode capable of making an accurate pattern by an optical lithography process and capable of precisely controlling an application part and an amount of the phosphor powder, solving the problem of the conventional phosphor powder application process of the light-emitting diode.
    光リソグラフ処理によって精確なパターンを作り上げ、蛍光粉の塗布部分の形態や量を精確に制御できる高い精度の発光ダイオードの蛍光粉塗布工程を提供し、従来の発光ダイオードの蛍光粉塗布工程の問題点を解決する。 - 特許庁
  • When the transparent conductive film 4 on the insulating transparent substrate 3 is irradiated with pulse laser light through the laminate film 10, the pulse laser light transmits the laminate film 10 to reach the transparent conductive film 4, and removes the transparent conductive film 4 in a specified pattern.
    パルスレーザ光をラミネートフィルム10を介して絶縁性透明基板3上の透明導電膜4に照射すると、該パルスレーザ光はラミネートフィルム10を透過して、透明導電膜4に到達し、該透明導電膜4を所定のパターンに除去する。 - 特許庁
  • The exposure system 100 irradiates an original plate 6 by an illumination optical system 4 containing the phase adjustment optical element 2 which converts linearly polarized light to non-polarized light, and projects a pattern of the original plate 6 on a substrate 8 by a projection optical system 7 to expose the substrate 8.
    露光装置100は、直線偏光を無偏光化する位相調整光学素子2を含む照明光学系4によって原版6を照明し、原版6のパターンを投影光学系7によって基板8に投影して基板8を露光する。 - 特許庁
  • The patterns are made visible by forming the diffraction grating for the pattern so that the natural light passing the diffraction grating is reflected and diffracted on the guide grooves and the reflected light inputted to the back of the diffraction grating is outputted vertically to the disk.
    回折格子を透過した自然光が、案内溝で反射回折し回折格子の裏面に入射した反射光が光りディスクに対して垂直に出射するように、表示すべきパターン対応して回折格子を形成することでパターンを可視化する。 - 特許庁
  • Since the catalyst layer absorbs the light ray of specific wavelength which cures the plating resist, the light ray hitting the plating resist does not cause halation at the interface with the catalyst layer and the plating resist is patterned into an accurate shape capable of forming a metal pattern into an accurate shape.
    メッキレジストを硬化させる特定波長の光線を触媒層が吸収するので、メッキレジストを露光する光線が触媒層との界面でハレーションを発生せず、メッキレジストを正確な形状にパターニングできるので金属パターンも正確な形状に形成できる。 - 特許庁
  • In the liquid crystal device, the backlight is constructed by forming light emission layers 75 emitting respective three primary colors R, G, B with addition of dopant materials of respective colors and by arranging the light emission layers 75 corresponding to pixels 70 of the liquid crystal element in a pattern.
    液晶装置において、バックライトは、光の三原色R、G、Bの各色を発光する発光層75を、各色のド−パント材料を添加することによって形成し、これら発光層75を液晶素子の画素70に対応させてパターン配置する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of an EL element avoiding a condition of excessive layers laminated on each light-emitting part formed in a pattern, and processing a peeling treatment of the excessive layers easily and rapidly, when a light-emitting part is formed using a photolithography method.
    フォトリソグラフィー法を用いて発光部を形成する際に、パターン状に形成された各発光部上に余分な層が積層されている状態を回避し、当該余分な層の剥離処理を容易かつ迅速に行えるEL素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The method of crystallization includes: providing a cap film on a laser beam incident surface of a non-single crystal semiconductor film; and irradiating the non-single crystal semiconductor film with a laser light of a light intensity distribution having an upside-down triangularly-profiled peak pattern formed of an alternate repetition of monotonous increase and monotonous decrease.
    非単結晶半導体膜のレーザ光入射面上にキャップ膜を設け、単調増加と単調減少を繰り返す断面逆三角形状ピークパターンを有する光強度分布のレーザ光を非単結晶半導体膜に照射する。 - 特許庁
  • To provide a flaw inspection device capable of suppressing the influence of scattered light from the roughness of a sample surface and a normal circuit pattern, and detecting a flaw or the like of the sample surface at high sensitivity by increasing the gain of the scattered light from the flaw or a foreign substance.
    試料表面の面粗さや正常な回路パターンからの散乱光の影響を抑制し、かつ、欠陥や異物からの散乱光の利得を高くして、高感度に試料表面の欠陥等を検出することが可能な欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁
  • When control light 25 is made incident on the optical switch thin film 18, the parallel signal light beams 26 having passed through the respective mask patterns are transmitted and converted into parallel signals and each of them is detected by an optical detector out of an optical detector array 24 corresponding to the mask pattern.
    光スイッチ薄膜18では、制御光25が入射されると、各マスクパターンを透過した平行信号光26を透過すると共にパラレル信号に変換し、光検出器列24の当該マスクパターンに対応する光検出器により各々検出される。 - 特許庁
  • The optical disk device 1 generates the pull-in signal PI1 by eliminating the influence of stray light pattern W formed by interlayer stray light beam LN from a plurality of recording layers Y, and accurately performs focus jump and focus control.
    これにより光ディスク装置1は、複数の記録層Yからの層間迷光ビームLNによりそれぞれ形成される迷光パターンWの影響を排除したプルイン信号PI1を生成でき、精度良くフォーカスジャンプ及びフォーカス制御を行うことができる。 - 特許庁
  • In this color filter 1 for display device provided with a transparent substrate 2, an image receiving layer 3, a matrix light shielding layer 5 and a pattern coloring layer 4 formed by the ink jet method, the material of the light shielding layer is defined as the mixture of carbon black or organic pigment.
    透明基板2と、受像層3と、マトリックス状遮光層5と、インクジェット法により形成されたパターン状着色層4を具備する表示装置用カラーフィルタ1において、遮光層の材料をカーボンブラックまたは有機顔料の混合物とすること。 - 特許庁
  • To provide an illumination optical device which can achieve appropriate lighting conditions required for transferring a mask pattern having various characteristics faithfully, e.g. diverse lighting conditions for the light intensity distribution or the polarization state of a secondary light source.
    様々な特性を有するマスクパターンを忠実に転写するために必要な適切な照明条件、たとえば二次光源の光強度分布や偏光状態などに関して多様性に富んだ照明条件を実現できる照明光学装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a positive resist composition which solves problems in a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, and to specifically provide a positive resist composition excellent in various properties such as PEB temperature dependency and exposure margin without deteriorating sensitivity, pattern profile, etc., and a pattern forming method using the same.
    遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケーション本来の性能向上のための技術における課題を解決したポジ型レジスト組成物、より具体的には、感度・パターンプロファイル等を劣化させることなく、PEB温度依存性・露光マージンなどの諸性能に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • A light-emitting device 1 of the present invention comprises: a substrate 2 having an insulating layer; a plurality of electrically non-connected mounting pads 3 and an electrically connected wiring pattern 4 which are formed on a surface of the substrate 2 and have electrical conductivity; and a plurality of light-emitting elements 5 mounted on the mounting pads 3 and electrically connected to the wiring pattern 4.
    本発明は、絶縁層を有する基板2と、この基板2の表面上に形成された導電性を有し、電気的に導通されない複数の実装パッド3及び電気的に導通される配線パターン4と、前記実装パッド3上に実装されるとともに、前記配線パターン4に電気的に接続される複数の発光素子5とを備える発光装置1である。 - 特許庁
  • This stereoscopic image display device has a display part where pixels whose positions are determined within a display surface of concave or convex shape when viewed from the observer are arranged in matrix, a two-dimensional pattern display means of displaying a two-dimensional pattern on the display surface of the display part, and a light beam control part which has a plurality of aperture parts or lenses and control light beams from the pixels.
    観測者からみて凹面状または凸面状の表示面内に位置が定められた画素がマトリクス状に配置される表示部と、2次元パターンを前記表示部の前記表示面に表示する2次元パターン表示手段と、複数の開口部または複数のレンズを有し前記画素からの光線を制御する光線制御部とを備えていることを特徴とする。 - 特許庁
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