「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 104 105 106 107 108 109 110 111 112 .... 141 142 次へ＞- A drawing control section (71) provides driving circuits (27) of a light beam radiating device with drawing data of a scanning range which is shorter than the length in the scanning direction of a pattern to be drawn in the scanning area.
描画制御部（７１）は、描画するパターンの走査領域における走査方向の長さよりも短い走査範囲の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路（２７）へ供給する。 - 特許庁 - Laser light S radiated from a laser output device 38 is caused to scan in a direction of an arrow G by a polygon mirror 41 to expose the pattern of the core onto a photosensitive layer of a belt-shaped work 11 through a photomask 29.
レーザ出力器３８から照射されたレーザ光Ｓをポリゴンミラー４１で矢印Ｇ方向に走査し、フォトマスク２９を介して帯状ワーク１１の感光層にコアのパターンを露光する。 - 特許庁 - A backlight 6 is installed in the vicinity of a detecting electrode 2 to detect approach of a human body, and a mask plate 3 for display in which a light transmission pattern 3a is formed is installed on the backlight 6.
人体の接近を検出する検知電極２の近傍にバックライト６が設けられ、バックライト６の上に光透過パターン３ａが形成された表示用マスク板３が設けられている。 - 特許庁 - Upper and lower pixel electrodes 6 adjacent to each other are separated from each other by a Cs (additional capacitance) wiring 4 and a peripheral light shielding pattern 9 in the display area is also used as the Cs wiring of the outermost peripheral pixel electrodes 6.
隣り合う上下の画素電極６の分割を、Ｃｓ（付加容量）配線４上で行い、表示領域の周辺遮光パターン９を最外周画素電極６のＣｓ配線と兼ねる。 - 特許庁 - When the conductive film 36 or the ferroelectric film 32 is subjected to patterning through lithography, exposure incident light is never reflected in various directions, so that a desired pattern can be formed as designed.
フォトリソグラフィーにより導電膜３６や強誘電体膜３２をパターニングする際に、露光入射光が色々な方向に反射することなく、設計通りの所望のパターンを形成することができる。 - 特許庁 - To provide a simple production process of a light transmitting electromagnetic wave shielding material having a mesh pattern of high precision and excellent in optical transmittance, electromagnetic wave shielding performance, appearance, and visibility.
光透過性、電磁波シールド性、外観性、および視認性に優れ、高精度のメッシュパターンを有する光透過性電磁波シールド材を、簡易な方法で製造することができる製造方法を提供する。 - 特許庁 - The control part irradiates the corresponding irradiation area after a predetermined lighting delay time passes when the information is the content for allowing the expansion of irradiation of the irradiation area of the light distribution pattern for the high beam.
制御部は、情報がハイビーム用配光パターンの照射領域の照射拡大を許可する内容である場合、所定の点灯遅延時間の経過後に対応する照射領域を照射する。 - 特許庁 - The light reflecting sheet (5 or 5A) is formed by forming an aluminum foil layer (53) on a base cloth (52), fixing a glass bead layer (55) thereon with adhesive (54) and further forming the pattern layer (51 or 51A) thereon.
前記光反射シート（５，５Ａ）は、基布（５２）の上にアルミニウム薄層（５３）を形成し、その上に接着剤（５４）によりガラスビーズ層（５５）を固定し、さらにその上に前記模様層（５１，５１Ａ）を形成している。 - 特許庁 - To provide a display device with a simple structure without using a matrix segment structure, the display device being capable of independently controlling an emission of lights in a plurality of colors and displaying a light pattern with a high luminance.
表示装置において、マトリクス型のセグメント構成を用いることなく簡易な構造としながらも、複数色の発光を独立して制御することができ、しかも、高輝度な光パターンを表示する。 - 特許庁 - To provide techniques of a lighting device each having a structure adaptive to a different wiring pattern of light source portions, and a lighting fixture having the lighting device.
照明装置毎に光源部の異なる配線パターンに対応することが可能な構造を有した基板を備える照明装置とこの照明装置を具備した照明器具の技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for producing an interlayer for laminated glass, with which an interlayer for laminated glass on which unevenness in the appearance is suppressed and a pattern is hardly visually recognized when light passes therethrough, can be obtained.
光が透過した際に、外観むらが抑制されており、模様が視認され難い合わせガラス用中間膜を得ることができる合わせガラス用中間膜の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a reflective optical sensor and image forming device having high light use efficiency, a good S/N ratio, and high detection accuracy, for detecting toner concentration or a toner position even in a contracted toner pattern.
光利用効率が高く、ＳＮ比が良く、検出精度が高く、縮小化されたトナーパターンでも、トナー濃度またはトナー位置の検出が可能な反射型光学センサおよび画像形成装置を得る。 - 特許庁 - To provide a sulfonium salt which can be used as a resist material in the photolithography using high energy rays as a light source, a polymer compound, a resist material, and a pattern-forming method.
本発明は、高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、レジスト材料として用いることのできるスルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The partial driving processing part 42 further generates a light emission pattern signal BL1 and a partial driving image signal D4, respectively, using each pixel signal (the image signal D2) after the gain correction is performed.
部分駆動化処理部４２はまた、ゲイン補正が行われた後の各画素信号（映像信号Ｄ２）を用いて、発光パターン信号ＢＬ１および部分駆動用映像信号Ｄ４をそれぞれ生成する。 - 特許庁 - When the determined period comes, the EUV mask is replaced or cleaned and the replaced EUV mask or the EUV mask having been cleaned is irradiated with EUV light to transfer the pattern to resist formed on a wafer.
決定された時期が到来した場合にＥＵＶマスクを交換又はクリーニングし、該交換後又はクリーニング後のＥＵＶマスクにＥＵＶ光を照射してウエハ上に形成されたレジストにパターンを転写する。 - 特許庁 - In the sub-mount member 30, a reflecting film 32 for reflecting a light, radiated from the side surface of the LED chip 10, is provided around a conductor pattern 31 that is a junction portion of the LED 10.
サブマウント部材３０は、ＬＥＤチップ１０の接合部位である導体パターン３１の周囲にＬＥＤチップ１０の側面から放射された光を反射する反射膜３２が設けてある。 - 特許庁 - Moreover, a minute unevenness pattern is put design on the lighting faces 33a and 33b and/or coloring agent, as needed, fluorescence material and light diffusion agent and others are blended in molding resin of the cover ring 32.
また、必要に応じて採光面３３ａ、３３ｂに微小な凹凸模様を形成したり、見返しリング３２の成形樹脂の中に着色剤や蛍光材、光拡散材などを配合する。 - 特許庁 - A light intensity pattern following a sine-wave-shaped periodic function is irradiated to an object with a phase being shifted, and the three- dimensional shape of the object is measured based on an imaging result obtained by imaging it.
正弦波状の周期関数に従う光強度パターンを、位相をずらしながら対象に照射し、これを撮像した撮像結果に基づいて、対象の三次元形状を計測する。 - 特許庁 - Further, provided is a wiring pattern whereby a faulty element is made replaceable on an identical wiring, or a light emitting diode is made mountable as necessary for an intended use and having a high luminance and a large size.
さらに同じ配線上で、不良素子を置き換え可能であり、或いは用途によって必要であり高輝度でサイズが大きい発光ダイオードを実装可能とする配線パターンを提供する。 - 特許庁 - To provide a hologram observation tool which enables a specified pattern to be seen replacing a light source in a scene in a specified style and is easily manufactured and assembled, having such characteristics, and also to provide a computer hologram for the same.
所定のパターンがシーン中の光源に所定の形態で正しく置き替わって見え、かつ、このような特性のものの作製、組立が容易なホログラム観察具とそのための計算機ホログラム。 - 特許庁 - To solve the following problem wherein: a lower aligning mark can not be detected; and a pattern is hardly formed, when a metal film not transparent to visible light is interposed between the lower aligning mark and a photoresist.
下層合わせマークとホトレジストの間に、可視光に対し不透明な金属膜が介在した場合、下層合わせマークが検出できなくなり、パターン形成を困難にする問題を解決する。 - 特許庁 - To provide an exposure method, or the like, for easily forming an exposure pattern with a line width in a sub-micron size using a photoresist for g-line and i-line by using a solid laser or a gas laser which is inexpensive and stable as an exposure light source.
安価で安定性のある個体レーザやガスレーザを露光光源として使用し、ｇ線用、ｉ線用のフォトレジストを使用して、簡便にサブミクロンサイズの線幅の露光パターンを形成する。 - 特許庁 - The light source device 1 uses a wiring board 10 that is composed of a metal base board 11 which is provided with inorganic material insulating layers 11b each formed on its front and rear surface, and a wiring pattern 13 formed on the insulating layer 11b.
光源装置１は、金属製ベース基板１１の表裏面に無機材料の絶縁層１１ｂを形成し、絶縁層１１ｂの上に配線パターン１３を形成した配線基板１０を用いる。 - 特許庁 - The photosensitive permanent resist has a resist pattern formed and cured by imagewisely irradiating the above photosensitive resin composition with active rays to cure an exposed portion with light and developing an unexposed portion to remove.
前記の感光性樹脂組成物に活性光線を画像状に照射し露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去してレジストパターンを形成し硬化してなる感光性永久レジスト。 - 特許庁 - A pattern formed on a mask M is scanned and exposed in plural exposed areas A1-A6 on a substrate P by synchronous moving of the mask M and the substrate P in a predetermined direction-X with respect to exposure light.
マスクＭと基板Ｐとを露光光に対して所定の方向−Ｘに同期移動させて、マスクＭに形成されたパターンを基板Ｐ上の複数の露光領域Ａ１〜Ａ６に走査露光する。 - 特許庁 - Photoresists 3a and 3b, where the photoresist patterns are drawn, are irradiated with light beams 11a to 11d, 12a, and 12b for heating through masks 5a and 5b forming opening parts corresponding to the photoresist pattern.
フォトレジストパターンを描画しているフォトレジスト３ａ，３ｂに対して、該フォトレジストパターンに対応した開口部を構成するマスク５ａ，５ｂを介して加熱用の光１１ａ〜１１ｄ，１２ａ，１２ｂを照射する。 - 特許庁 - The ceramic substrate light source is fixed to the metal base with pressing force generated by a substrate fixing member formed on the resin substrate and made of a metal and is electrically connected with a wiring pattern of the resin substrate.
セラミック基板光源は、樹脂基板に形成された金属からなる基板固定部材により、金属基台に押圧力に固定されるとともに、樹脂基板上の配線パターンと電気的に接続される。 - 特許庁 - To obtain ink for spacer formation which allows spacer particles to be selectively deposited just on a light shielding film pattern position on a color filter substrate by an ink jet system, and a manufacturing method of a color filter substrate with spacers.
インクジェット方式によってカラーフィルタ基板上にスペーサ粒子を遮光膜パターン位置の直上に選択的に配置できるスペーサ形成用インク、スペーサ付カラーフィルタ基板の製造方法を得る。 - 特許庁 - Consequently, Vsg adjustment processing and detection of a gray scale pattern image can be performed after the quantity of light emission of the LED is sufficiently stabilized, so a wait time for stabilization can be eliminated.
これにより、ＬＥＤの発光量を十分に安定化させてから、Ｖｓｇ調整処理や階調パターン像の検知を行うことができるので、安定化のための待ち時間を不要にすることができた。 - 特許庁 - At a timing when the specific pattern is displayed at a prescribed position in the display windows 4L, 4C, and 4R, all the LED lamps 173a and 173b are lighted to increase the intensity of the illumination light 180.
特定図柄が表示窓４Ｌ・４Ｃ・４Ｒの所定位置に表示されるタイミングで全ＬＥＤランプ１７３ａ・１７３ｂを点灯して照明光１８０の光強度を大きくする。 - 特許庁 - To form a high precision pattern while attaining adaptation to the shortening of the wavelength of light for exposure and the increase of throughput and to produce a microdevice having high performance, high quality and high reliability.
露光光の短波長化や高スループット化に十分に対応しつつ、高精度なパターン形成を可能とし、高性能、高品質、高信頼なマイクロデバイスを製造できるようにすることである。 - 特許庁 - To provide an optical disk cartridge which does not require processing accuracy of a diffraction grating when a pattern such as characters, figures or the like is to be displayed by diffracted light by a diffraction grating formed in the shell of an optical disk.
光ディスクのシェルに形成された回折格子による回折光によって文字、図形等のパターンを表示する際に、回折格子の加工精度を必要としない光ディスクカートリッジを提供する。 - 特許庁 - A section on the first region of a resist film formed on the surface of the substrate is exposed to the light, having first intensity transmitted through a region where a pattern to be transferred within the first reticle is formed.
基板の表面上に形成されたレジスト膜の第１の領域上の部分を、第１のレチクル内の、転写すべきパターンの形成された領域を透過した第１の強度の光で露光する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition having high sensitivity in pattern formation by irradiation with active light and to provide a radiation sensitive composition further having high resolution and excellent also in margin for exposure.
活性光線の照射によるパターン形成において、高感度を有する感放射線性組成物、また、更に高解像度を有し露光マージンにも優れた感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - Since a resist pattern under the light-shielding film is not developed but remains at a wafer periphery, a copper wiring layer in the damascene process is prevented from being exposed without reducing the number of chips to be obtained by dummy shot.
遮光膜下のレジストパターンは現像されずに、ウェハ周辺部に残ることから、ダミーショットによる取れ数を減少することなくダマシンプロセスにおける銅配線層の露出を防止することができる。 - 特許庁 - By aligning an extending direction of a stripe pattern on the mask M to the direction where the viewing angle α of the incident light is large, illuminance can be increased while keeping preferable exposure accuracy.
マスクＭのストライプパターンの伸びる方向と、入射する光の視角αが大きい方向とを一致させることにより、良好な露光精度を維持した状態で、照度を大きくすることができる。 - 特許庁 - The game information notifying device 700 refers to the value of the duty ratio of the received external rendering pattern signal and carries out light emission rendering of a color set according to the value of the duty ratio.
遊技情報報知装置７００においては、受信した該外部演出パターン信号のデューティ比の値を参照し、該デューティ比の値に対応して設定された色の発光演出を行う。 - 特許庁 - To provide an optical sheet, which has high front luminance, reduces decrease in visibility due to generation of a moire pattern, and can be easily produced, and to provide a surface light source device and a transmissive display device having the optical sheet.
正面輝度が高く、かつ、モアレの発生による視認性の低下を低減し、容易に製造可能な光学シート、これを備える面光源装置及び透過型表示装置を提供することである。 - 特許庁 - In manufacturing a light emitting device, a second substrate 600a has a recess 607a and a recess 608a, thereby, the width of a seal pattern 605b can be maintained narrow and moreover, exudation of the sealing material can be prevented.
凹部６０７ａ及び凹部６０８ａを有する第二の基板６００ａで発光装置を作製することで、シールパターン６０５ｂの幅を細く保つことができ、また、シール材のしみ出しを防止できる。 - 特許庁 - A light emission level table 41 generates a first display control signal to control each brightness of LED 23 with a display pattern pre-set according to an operation control signal.
発光レベルテーブル４１は、動作制御信号に応じて予め設定された表示パターンでもってＬＥＤ２３のそれぞれの明るさを制御するための第１の表示制御信号を生成する。 - 特許庁 - To provide a light-sensitive polymer composition capable of improving adhesion to a substrate without reducing sensitivity, resolution, heat resistance and chemical resistance, while maintaining a pattern of good shape.
感度、解像度、耐熱性及び耐薬品性を低下させず、良好な形状のパターンを維持したまま、基板との密着性を向上することが出来る感光性重合体組成物を提供する。 - 特許庁 - Light entering the mountain part 31m is transmitted or reflected to a wide range so that a bold Y shaped dark pattern is created, thereby improving the design appearance of the retroreflection mirror.
山部３１ｍに入射した光は透過され、あるいは広い範囲に向けて反射されるため太幅のＹ字状の暗いパターンに見えるようになり、再帰反射鏡の外観の意匠性を高める。 - 特許庁 - To constitute an optical receiving system in which a semiconductor optical amplifier is used as an optical preamplifier, a pattern effect is reduced, changes in characteristics caused by an input light level are reduced, and an input dynamic range is widened.
半導体光増幅器を光プリアンプとして使用し、パターン効果が小さく、入力光レベルによって特性の変化が少なく、入力ダイナミックレンジの広い光受信系を構成する。 - 特許庁 - The width of the dot D itself is set to be 0.1-0.5 mm for instance, and the gap S and respective color concentrations are adjusted and set according to the light reflection by the metallic layer 5 and a design pattern, etc.
ドットＤ自体の幅は、例えば０．１ｍｍ〜０．５ｍｍに設定され、隙間Ｓや各色濃度は、メタリック層５による光反射や下記意匠パターンなどに応じて調整、設定がなされている。 - 特許庁 - When the transmitter is utilized as the second remote controller 2B, a second electronic component group 220 for supplying second current to the infrared light emitting diode D1 is mounted on the wiring pattern 12 for the second transmitting circuit.
第１リモコン２Ｂとして利用されるとき、第２送信回路用配線パターン１２には赤外線発光ダイオードＤ１に第２電流を供給するための第２電子部品群２２０が実装される。 - 特許庁 - An LED chip (light emitting diode element) 1 is mounted on a foundation substrate 4 provided with a circuit pattern by a copper foil 42, and an annular surrounding part 2 surrounding the mounted LED chip 1 is formed.
銅箔４２による回路パターンが設けられた基礎基板４上に、ＬＥＤチップ（発光ダイオード素子）１が実装され、実装されたＬＥＤチップ１を囲繞する環状の囲繞部２が形成されている。 - 特許庁 - Subsequently, the resist film 102 is selectively irradiated with an exposure light via a liquid 104 and the barrier film 103 while the liquid 104 is disposed on the barrier film 103, thereby executing pattern exposure.
続いて、バリア膜１０３の上に液体１０４を配した状態で、液体１０４及びバリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。 - 特許庁 - The inspection pattern 400 is formed of a light transmission part 420 which is a contact hole and of a phase shifter 410 and exposure is performed by using this mask 100 for semiconductor manufacture to inspect whether there is a dimple.
検査パターン４００は，コンタクトホールである光透過部４２０と，位相シフタ４１０とで形成し，この半導体製造用マスク１００を用いて露光を行いディンプル発生の有無を検査する。 - 特許庁 - After the light emitting material having a plurality of colors adheres by a second mask through a first mask arranged so as to adhere to the basic body closely, the second mask is removed, and a pattern of a back face electrode adheres by the first mask.
基体に密着配置した第一のマスクを介して第二のマスクにより複数色の発光材料を付着した後、第二のマスクを取り去り、第一のマスクで背面電極のパターンを付着する。 - 特許庁 - To provide a vehicle headlamp with a simple structure which can form an optimum light distribution pattern for each of a passing beam and a driving beam.
本発明は、簡単な構成により、すれ違いビーム時及び走行ビーム時にそれぞれ最適な配光パターンを形成することができるようにした車両前照灯を提供することを目的とする。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
