「light pattern」を含む例文一覧(7056)

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  • POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR USE IN STEP OF EXPOSURE USING AT LEAST TWO EXPOSURE LIGHT SOURCES SELECTED FROM G-LINE, I-LINE, KrF EXCIMER LASER AND ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
    ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光する工程に用いられるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
  • The laser medium 6 is excited by light having a lateral multi-mode pattern, and the wavelength conversion element 10 is irradiated with linear fundamental waves provided by oscillation of the laser medium 6 to output linear converted waves.
    横マルチモードパターンの光でレーザ媒質６が励起され、レーザ媒質６の発振により得られる線状の基本波を波長変換素子１０に照射して線状の変換波を出力する。 - 特許庁
  • Subsequently, while a nonaqueous liquid such as hexane is disposed on the barrier film 103, the resist film 102 is selectively irradiated with exposure light through the barrier film 103 to carry out pattern exposure.
    続いて、バリア膜１０３の上に非水液である例えばヘキサンを配した状態で、バリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。 - 特許庁
  • When the prescribed voltage is applied to transparent electrodes 15a, 15b, an electrode pattern for adjusting rim strength of the light beam for BD is formed in the transparent electrode 15b.
    また、透明電極１５ｂには、透明電極１５ａ、１５ｂに所定の電圧を印加した場合に、ＢＤ用の光ビームについてリム強度の調整を可能とする電極パターンが形成されている。 - 特許庁
  • The fabric was the same as that used in casual imperial wear (white koaoi mon aya (a type of arabesque pattern) cloth with bluish purple plain-silk lining in winter and bluish purple or light-blue mie dasuki (a triple design of crossed swords) silk gauze in summer), and was worn with a kanmuri adorned with gold-leaf paper, white short sleeves and red oguchi-bakama.
    生地は御引直衣に準じ（冬は白小葵文綾に二藍平絹裏・夏は二藍や縹の三重襷の紗）、御金巾子冠に白小袖、紅大口袴とともに使用した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • The shadow mask 12 is interposed between the slope of the multi-stage prism 11 and the image receiver 23 and interrupts a part of the reflected light from the detection plane (11a) by a predetermined intrinsic pattern.
    シャドウマスク１２は、多段プリズム１１の傾斜面と受像装置２３との間に介装されて上記検出面１１ａからの反射光の一部を予め決めた固有のパターンで遮断する。 - 特許庁
  • To provide an optical pickup device that improves C (carrier)/N (noise) by setting a light receiving area so as to make a rate of the part including a track pattern large in a photodetector for detecting wobbles.
    ウォブル検出する受光素子におけるトラックパターンを含む部分の割合が大きくなるように受光領域を設定することによりＣ（キャリア）／Ｎ（ノイズ）を向上させる光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a microscope apparatus capable of enhancing image quality of an in-vivo observation image of a bio-sample, and capable of freely selecting a scanning speed, a scanning pattern and an operating condition of a light source etc.
    生物標本のｉｎ-ｖｉｖｏ観察画像の画質を向上させ、走査速度や走査パターン、光源等の使用条件を自由に選択することができる顕微鏡装置を提供する。 - 特許庁
  • To prevent a decline in fidelity of an image transferred onto a wafer (pattern shape) by making a correction to a mask for exposure which can respond to extreme ultraviolet light in consideration of the influence by the oblique incidence effect.
    極短紫外光に対応する露光用マスクについて、斜め入射効果による影響を考慮したマスク補正を行えるようにして、ウエハ上転写像の忠実度低下を回避する。 - 特許庁
  • To provide a radiosensitive resin composition having a chemically amplifying light-sensitive film to far-ultraviolet radiation with improved pattern form together with improved resolving performance, sensitivity and focal depth latitude.
    遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、解像性能、感度及び焦点深度余裕の向上と共に、パターン形状の向上ができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide a touch panel which can surely seal an aperture of a sealing agent and prevent generation of interference pattern, while of which pressure in data input is light, and which is excellent in operability, reliability and moisture resistance.
    シール剤の開口部を確実に封止し、干渉縞の発生を防止すると共にデータ入力時の押圧力が軽く、且つ操作性、信頼性に優れ、且つ耐湿性に優れたタッチパネルを提供する。 - 特許庁
  • The concentration at predetermined points of the coating image which is illuminated and photographed by using the light-and-shade pattern is measured (S200), and the predetermined points are classified into white and black groups by using the average value (S202 and S204).
    明暗パターンを用いて照明され撮影された塗装画像の所定ポイントの濃度を測定し（Ｓ２００）、その平均値を用いて所定ポイントを白黒グループに分類する（Ｓ２０２，Ｓ２０４）。 - 特許庁
  • A flat portion 29 is disposed at an end of a part adjacent to a fluorescent tube 5, i.e. a part receiving strong incident light, and a satin-finish pattern 29a having sine wave-shaped boundary is formed in the flat portion 28.
    蛍光管５の近接部分（入射光の強い部分）の端部に平坦部分２８を配し、その内側に、正弦波形状の境界線を有する梨地パターン２９ａとを形成する。 - 特許庁
  • To prevent problems of reduction in saturation charge quantity due to fluctuation of a well potential, a fixed pattern noise and saturation shading, in a CMOS sensor in which a unit pixel is formed of a light-receiving element and three transistors.
    受光素子と３つのトランジスタで単位画素が構成されたＣＭＯＳセンサにおいて、ウェル電位の揺れに起因した飽和電荷量の減少、固定パターンノイズ、飽和シェーディングなどの問題を防止する。 - 特許庁
  • In a TFT array substrate 10 of the reflection type electro-optical device 100, on the lower layer side of the light reflection film 8a, a recess and projection forming layer 13a forming the recessed and projected pattern 8g is formed.
    反射型電気光学装置１００のＴＦＴアレイ基板１０において、光反射膜８ａの下層側には、凹凸パターン８ｇを形成する凹凸形成層１３ａが形成されている。 - 特許庁
  • To provide a color filter black matrix resist composition with which a thin-film pattern with high light shielding property can easily be formed by a photolithographic method and superior storage stability, and sufficient sensitivity and resolution can be obtained.
    薄膜・高遮光性を有するパターンをフォトリソグラフィー法で容易に形成でき、保存安定性に優れ、十分な感度、解像性が得られるカラーフィルターブラックマトリックスレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide an ink jet image wherein such the properties are improved that generation of a mottled pattern at a solid printing part (beading), color mixing at a borderline part between different colors (bleeding), irregular bleeding at an image outline (feathering) and, in addition, light resistance.
    べた印字部でのまだら模様の発生（ビーディング）、色間での混ざり（ブリーディング）、画像の輪郭に不規則なにじみ（フェザリング）、更には耐光性を改良したインクジェット画像を提供すること。 - 特許庁
  • A Cu pattern on which Ni is adhered is formed on a metallic board 11, and light emitting elements 10 are mounted thereon in a serial circuit, and then the serially connected metallic boards are connected in parallel.
    金属基板１１の上には、Ｎｉが被着されたＣｕパターンを形成し、この上に発光素子１０を直列回路で実装し、この直列接続された金属基板を並列接続する。 - 特許庁
  • The data pattern is reproduced by projecting the second reference light to the optical information recording medium, two-dimensional equalization is performed by using the tap coefficient stored as a learning value (S4, S5).
    続いて、第２の参照光を光情報記録媒体に照射してデータパターンを再生し、学習値として記憶しておいたタップ係数を利用して２次元ＥＱ処理を行う（Ｓ４，Ｓ５）。 - 特許庁
  • A repeated pattern by the light-shielding film of a non-resolution pitch to the exposure condition of the exposure device is formed across the area corresponding to the first area in the exposure mask.
    前記露光用マスクにおける前記第１の領域に対応する領域に亘って、前記露光装置の露光条件に対して非解像のピッチの前記遮光膜による繰り返しパターンが形成されている。 - 特許庁
  • This stamper is provided with a resin film 12 of light transmissivity attached to a frame 14, and a hardened resin layer 10 formed on the resin film 12 and having a rugged pattern on a surface.
    枠材１４に取り付けられている光透過性の樹脂フィルム１２と、樹脂フィルム１２上に形成され、表面に凹凸パターンを有する光透過性の硬化性樹脂層１０とを備える。 - 特許庁
  • For a pixel line group family having a bundled plurality of pixel line group, a period detector 32 is provided for obtaining the period of a light and dark stripe pattern on the image caused by the flicker noise, based on the luminance information.
    複数の画素ライン群を束ねた画素ライン群ファミリーにおいて、輝度情報に基づいてフリッカノイズによる画像上の明暗の縞模様の周期を求める周期検知部３２を備える。 - 特許庁
  • To provide a moisture-adjusting building material that is superb in moisture adsorption and desorption properties, fireproofness, fire-resistance, mechanical machining properties, dimensional stability, and nail-striking characteristics, is light, and has an irregular pattern in a sandstone style on the surface.
    吸放湿特性、防火性、耐火性、機械加工性、寸法安定性、釘打ち特性に優れるとともに軽量で表面に砂岩調の凹凸模様を有する調湿性建材を提供すること。 - 特許庁
  • An incident light 51 emitted from a laser optical source 50 on the field sensor 10 positioned by the stage 30 is modulated with an electric field E applied between the electrode 12 and the circuit pattern 41 in a waveguide 11b, and outputted as an output guide light 52 which is then taken in by a detecting and decision means 90 to execute a processing of detecting and deciding the wiring circuit pattern condition.
    Ｘ−Ｙステージ３０で位置決めされた光導波路型電界センサ１０に対して、レーザー光源５０から入射された入射光５１は、導波路１１ｂにて電極１２と配線回路パターン４１との間で印加されている電界Ｅによって変調され、出射導波光５２として出力され、検出・判定手段９０に取り込まれ、配線回路パターン状態の検出・判定処理が行われる。 - 特許庁
  • In the lens sheet in which a light shielding pattern is arranged on a lens substrate having a lens array, the light shielding pattern is formed using a resin layer comprising a photosensitive resin composition containing at least (a) a heat adhesive binder comprising an organic polymer, (b) a compound having at least one or more radical-polymerizable ethylenic double bonds and (c) three or more photopolymerization initiators.
    レンズアレイを有するレンズ基板に遮光パターンが設けられたレンズシートにおいて、前記遮光パターンが、少なくとも、（ａ）有機重合体からなる熱粘着性の結合剤、（ｂ）ラジカル重合性を有するエチレン性二重結合を少なくとも一つ以上有する化合物、（ｃ）３種類以上の光重合開始剤、を含む感光性樹脂組成物からなる樹脂層を用いて形成されているものとする。 - 特許庁
  • In this image reader, the plurality of LEDs are made to simultaneously emit light toward a shading reference plate, a luminance value pattern corresponding to the arrayed LEDs from a detection result of an optical sensor based on reflected light from the shading reference plate, is obtained, and when a recessed part lower than a first predetermined threshold exists in the luminance value pattern, it is determined that the defect occurs in the LED single article corresponding to the recessed part.
    画像読取装置において、複数のＬＥＤに同時にシェーディング基準板に向けて発光させ、シェーディング基準板からの反射光に基づく光センサの検出結果からアレイ状のＬＥＤに対応した輝度値を取得し、当該輝度値に所定の第１のしきい値より低い凹箇所が存在する場合に、凹箇所に対応したＬＥＤ単品に異常が発生していると判定する。 - 特許庁
  • The machining device having a chuck table which has a holding surface for holding the workpiece and on which the workpiece is mounted by an operator, and a machining means for machining the workpiece held on the chuck table, includes a pattern projection means including at least a light source disposed to face the holding surface of the chuck table, and a filter arranged between the light source and the chuck table and having a pattern for positioning the workpiece.
    被加工物を保持する保持面を有し作業者が被加工物を載置するチャックテーブルと、該チャックテーブルで保持された被加工物へ加工を施す加工手段とを備えた加工装置であって、該チャックテーブルの該保持面に対面して配設された光源と、該光源と該チャックテーブルとの間に配設され被加工物位置合わせ用パターンを有するフィルタとを少なくとも含むパターン投影手段を具備したことを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive planographic printing plate having high sensitivity and giving satisfactory printing resistance even under exposure conditions which irradiate the plate with small energy per unit area and to particularly provide a photosensitive planographic printing plate suitable for pattern formation with laser light, suitable particularly for plate making by direct pattern formation with laser light having 300-1,200 nm wavelength and exhibiting higher printing resistance than a conventional planographic printing plate.
    単位面積当たりの照射エネルギーが小さい露光条件に於いても充分な耐刷性を与え、高い感度を有する感光性平版印刷版、特にレーザー光による描画に適し、さらに、３００〜１，２００ｎｍの波長を有するレーザー光での直接描画での製版に特に好適であり、従来の平版印刷版に比べ、高い耐刷性を発現する感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁
  • The diffractive optical element 4 has a first diffraction grating pattern formed to control the distribution of light in a predetermined first direction on an incident surface 41 for ultraviolet rays and a second diffraction grating pattern formed to control the distribution of light in a second direction orthogonal to the first direction on an outgoing surface 42 for ultraviolet rays such that ultraviolet rays radiated to the irradiation object 5 are shaped in a spot.
    上記回折光学素子４は、照射対象５に照射される紫外線の形状がスポット状になるように、紫外線の入射面４１に、予め決められた第１の方向の配光を制御する第１の回折格子パターンが形成され、紫外線の出射面４２に、第１の方向と直交する第２の方向の配光を制御する第２の回折格子パターンが形成されている。 - 特許庁
  • This is a manufacturing method for a blank of a double-sided masks which manufactures a bank of a double-sided mask of a structure having a pattern made of a light shielding metal film on both sides of a transparent base plate, and characterized in forming a light shielding metal film layer on a rear glass plate of a mask having a pattern already formed on its one side.
    透明基板の両面に遮光用金属膜により形成されたパターンをもつ構造の両面マスクのブランクを製造する両面マスク用ブランクの製造方法において、一方の面にパターンがすでに形成されたマスクの裏面のガラス上に遮光用金属膜の層を形成して、両面マスク用ブランクを製造することを特徴とする両面マスク用ブランク及び両面マスクの製造方法。 - 特許庁
  • To provide a positive type silicone-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region with ArF or KrF as a light source in the production of a semiconductor device, having high resolving power and giving a resist pattern excellent in density dependency and margin for exposure particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm.
    半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に０．１８μｍ以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコーン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁
  • To provide an optical recording medium wherein a plurality of data are optically multiplexed in one hologram pattern by suitably combining a mask pattern with recording data and multiplexed data can be promptly and smoothly read by simultaneously reading scattered light introduced to an external part from upper and lower surfaces and to provide a reproducing device therefor.
    記録データにマスクパターンを適宜組み合わせることにより、一つのホログラムパターンに複数のデータを光学的に多重化し、上下面から外部に導かれる散乱光を同時に読み取ることで多重化データを迅速且つ円滑に読み取り得る、光記録媒体およびその再生装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a photocatalyst lithography method using a template provided with a predetermined pattern made of a photocatalyst on a light-transmissive substrate, the photocatalyst lithography method being characterized in that a high-precision fine pattern with a high contrast can be formed on a work surface in a short time; and to provide the template used therefor.
    光透過性基板上に光触媒よりなる所定のパターンを設けたテンプレートを用いた光触媒リソグラフィ法において、被加工物表面にコントラストが高く高精度の微細パターンを短時間に形成することができる光触媒リソグラフィ法およびそれに用いるテンプレートを提供する。 - 特許庁
  • To provide a hologram recording system and hologram reproducing system which always coincide position of an entrance pupil surface of an objective lens and an image location of a dot pattern of a spatial light modulator, and the position of the entrance pupil surface of the objective lens and a location for imaging a dot pattern reproduced on a surface of an optical receiver.
    対物レンズの入射瞳面の位置と空間光変調器のドットパターンの結像位置及び対物レンズの入射瞳面の位置と受光器の面で再生したドットパターンを結像させるための位置とを常に一致させることが可能なホログラム記録装置及びホログラム再生装置を提供することにある。 - 特許庁
  • To provide a photomask blank having a light shielding film that can respond to effects by the depth of focus when a high NA exposure method is employed for an exposure device upon transferring a pattern and that is suitable for transferring a fine pattern having a half pitch of 45 nm or smaller with high accuracy, and to provide a method for manufacturing a photomask.
    パターン転写時の露光装置に高ＮＡの露光方法を利用した場合の焦点深度による影響に対応でき、ハーフピッチ４５ｎｍ以降の微細パターンを精度良くパターン転写するのに好適な遮光膜を備えたフォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • This optical module comprises a wiring board 30 including a base board 32 and a wiring pattern 34 formed on the base board 32, an optical chip 10 including the optical component 12 and an electrode 24 for electrically connecting the optical component 12 and the wiring pattern 34, and a substrate 40 holding the lens 42 that converges light beams on the optical component 12.
    光モジュールは、基板３２及びそれに形成された配線パターン３４を含む配線基板３０と、光学的部分１２と、光学的部分１２及び配線パターン３４を電気的に接続する電極２４と、を含む光学チップ１０と、光学的部分１２に集光するレンズ４２を保持する基材４０と、を含む。 - 特許庁
  • To obtain techniques to improve the performance in microprocessing of a semiconductor element using high energy rays, in particular, KrF excimer laser light, X-rays, electron beams or EUV (extreme UV) rays, and to provide a negative resist composition satisfying the requirements for high sensitivity, high resolution, a preferable pattern profile and preferable dependence on the pattern density.
    高エネルギー線、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
  • Therefore, photoresist is applied onto the top surface of the polycrystalline silicon layer 6 and then exposed to light for the formation of a resist pattern conforming to the resistor 22, where the top surface of the polycrystalline silicon layer 6 is flat, and the photoresist film can be set uniform in thickness, so that the influence of a standing wave effect becomes uniform, and a resist pattern can be set uniform in width.
    このため、多結晶シリコン層６の上面にフォトレジストを塗布させ、フォトレジストを露光して抵抗素子２２に応じたレジストパターンを形成させるが、多結晶シリコン層６の上面は平坦でフォトレジストの膜厚を均一にできるので、定在波効果の影響が均一になり、レジストパターンの幅を均一にできる。 - 特許庁
  • The display purpose light source of the display device 12 is blinked according to a blink pattern corresponding to the selected device or blinked according to the blink pattern corresponding to the operation in the case of accepting the prescribed operation on the basis of the cross-reference between the devices and the blink patterns or on the basis of the cross-reference between the prescribed operations and the blink patterns.
    また、機器と点滅パターンとの対応、又は、所定の操作と点滅パターンとの対応に基づいて、表示器１２の表示用光源を、選択された機器に対応する点滅パターンで点滅、又は、所定の操作を受付けた場合は前記操作に対応する点滅パターンで点滅させる。 - 特許庁
  • To provide a permanent pattern forming method by which fine permanent patterns such as a protective film, an insulating film and a solder resist pattern can be formed with a high degree of accuracy, by making each drawing unit uniform in light quantity while curbing costs, in exposure using a digital exposure apparatus equipped with an exposure head in which drawing units are two-dimensionally distributed.
    描画単位が２次元的に分布した露光ヘッドを備えるデジタル露光装置を用いた露光において、コストを抑えつつ、各描画単位の光量を均一化することにより、保護膜、絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなどの微細な永久パターンを高精度に形成可能な永久パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • At this time, an image for which the background pattern 52 is imaged by the light receiving sensor 23 is fetched, the position and speed of the cellular phone 90 are detected on the basis of the change of the contrast image of the background pattern 52 generated by being intercepted by the cellular phone 90, and a photographing condition is set from the detected position and speed.
    この際に、背景パターン５２を受光センサ２３で撮像した画像を取り込み、携帯電話９０により遮られることで生じる背景パターン５２のコントラスト画像の変化に基づき携帯電話９０の位置と速度とを検出し、検出した位置、速度から撮影条件を設定する。 - 特許庁
  • A pattern detecting section 50 detects whether or not a line is a vertical line in a width of one dot based on a target pixel and a pattern of two-bit data of a peripheral pixel adjacent thereto in a main scanning direction and a data converting section 60 converts multi-value data of the pixel forming the vertical line to light emission data so as to enlarge the width of the vertical line.
    パターン検出部５０は注目画素とその主走査方向に隣接する周辺画素の２ビットデータのパターンに基づいて１ドット幅の縦線か否かを検出し、データ変換部６０は縦線の幅が太くなるようにその縦線を構成する画素の多値データを発光データに変換する。 - 特許庁
  • The resist film 11 is selectively irradiated with light from a KrF excimer laser 12 for pattern exposure and developed by using a tetramethylammonium hydroxide aqueous solution having the weight concentration lower than 2.38 wt.% to form a resist pattern 14 comprising the unexposed part 11b of the resist film 11.
    レジスト膜１１に対してＫｒＦエキシマレーザ１２を選択的に照射してパターン露光を行なった後、２．３８ｗｔ％よりも重量濃度が小さいテトラメチルアンモニウムハイドロキサイド水溶液を用いて現像を行なうことにより、レジスト膜１１の未露光部１１ｂよりなるレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁
  • To provide a pattern formation method, for forming a pattern on a resist film by using close filed light by the transmissivity change of a film formed on the resist film for reversibly generating the transmissivity change of the film formed on the resist film with high sensitivity, without causing mix-in of contamination sources.
    レジスト膜上に形成された膜の透過率変化による近接場光を用いて前記レジスト膜にパターンを形成する方法であって、レジスト膜上に形成された膜の透過率変化を高感度で可逆的に生じさせるとともに、汚染源の混入を引き起こさないパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • In the paper exclusive for the electronic pen on which a dot pattern to be read by the electronic pen in which an imaging part is built is printed, the printed dot pattern is printed with the ink containing the fluorescent body emitting visible light by ultraviolet rays or infrared rays.
    前記課題の目的を達成するために、撮像部を内蔵する電子ペンで読み取られるためのドットパターンが印刷された電子ペン専用用紙であって、前記印刷されたドットパターンは、紫外線または赤外線により可視光を発光する蛍光体を含むインキで印刷された電子ペン専用用紙を提供する。 - 特許庁
  • By using a photomask or a reticle installed with an auxiliary pattern with a function of light intensity reduction, which consists of diffraction grating pattern or semi-translucent film, a barrier rib having portions with different heights is formed on pixel electrodes (also called first electrodes) in a display region and around a pixel electrode layer.
    回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極（第１の電極とも呼ぶ）上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁
  • To mainly provide an optical waveguide which is free of the possibility of deterioration since the need for postprocessing after exposure when a lyophilic pattern is formed on a wettability changing layer is eliminated, the pattern is precisely formed, and the optical waveguide itself contains no light catalyst.
    本発明は、濡れ性変化層上に親液性のパターンを形成する際の露光後の後処理を不要とし、かつこのパターンが精度良く形成されたものであり、また光導波路自体に光触媒を含まない構成であることから、劣化の心配がない光導波路を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁
  • The cosmetic container includes: an inner plate which has a transparent bottom and in which translucency cosmetic is filled up; a container body which has a concave storage part equipped with the inner plate; a pattern element prepared in the bottom part of the inner plate; a light source which is held in the container body and illuminates the pattern element from the rear side.
    化粧料容器は、透明な底部を有し且つ透光性化粧料が充填される中皿と、中皿を装着する凹状収容部を有する容器本体と、中皿の底部に設けられる絵柄要素と、容器本体に収容されて絵柄要素をその背面側から照明する光源とを備える。 - 特許庁
  • To provide an electromagnetic wave shield material which has a large conductivity in spite of having a conductive pattern layer formed from a conductive ink, and which is reduced in reflection of external light from the side of a transparent base, and has an untinted adhesive layer made of acrylic resin on the side of the conductive pattern layer.
    導電性インキにより導電性パターン層を形成する電磁波シールド材であるにもかかわらず導電性が高く、透明基材側からの外光の反射が低減され、また、導電性パターン層側のアクリル樹脂からなる粘着剤層の着色がない電磁波シールド材を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a colored curable composition, which has excellent color purity, heat resistance and light resistance and which can be formed into a thinner layer: a color resist having favorable pattern formability; inkjet ink having excellent jetting stability; and a color filter having a favorable pattern shape and a method for producing a color filter using the composition.
    色純度に優れ、耐熱性、耐光性に優れ、薄層化が可能な着色硬化性組成物を提供し、パターン成形性の良好なカラーレジスト、吐出安定性に優れたインクジェット用インク、およびこれを用いたパターン形状の良好なカラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁
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