「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 109 110 111 112 113 114 115 116 117 .... 141 142 次へ＞- The present invention relates to the photosensitive resin composition containing (a) a polyimide resin having a specified repetition unit, (b) a compound generating a sulfonic acid when irradiated with light, and (c) a crosslinking agent having an alkoxymethyl or acyloxymethyl group on a nitrogen atom, a pattern manufacturing method using the composition, and the electronic device having the pattern.
（ａ）特定の繰り返し単位を含むポリイミド樹脂、（ｂ）光照射によりスルホン酸を発生する化合物、及び（ｃ）アルコキシメチル基又はアシルオキシメチル基を窒素原子上に有する架橋剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁 - To provide a fiber optical plate enabling a detector to be miniaturized or thinned and an illumination means to efficiently illuminate an object to be measured in a recessed and projected pattern detector utilizing scattered light inside the object to be measured, and the recessed and projected pattern detector to which the fiber optical plate is applied.
被測定対象内部の散乱光を利用する凹凸パターン検出装置において装置が小型化又は薄型化されること及び照明手段が効率良く被測定対象を照明することを可能ならしめるファイバ光学プレート及びファイバ光学プレートが適用された凹凸パターン検出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an authenticity discriminating method for an invisible printed matter, the uneven pattern of which can be recognized under observation by adhering a discriminator to or by irradiating white light or the like on the invisible printed matter having an uneven pattern hard to be distinguished with naked eyes, its invisible printed matter and its discriminator.
本発明は、肉眼では識別困難な凹凸模様を設けた不可視印刷物に、判別具を密着させて観察した場合又は白色光等を照射して観察した場合に、凹凸模様を視認することができる不可視印刷物の真偽判別方法及びその不可視印刷物並びにその判別具に関する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and development defect performance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray as an exposure light source, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.
特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、現像欠陥性能を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The plasma display panel device includes: a plasma display panel; and an external light shielding sheet having a base portion where a groove is formed, and a pattern portion formed on the groove of the base portion, wherein an upper end is arranged nearer the panel than a lower end of the pattern portion among the upper end and the lower end being broader in width than the upper end.
プラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルと、溝の形成されたベース部と、前記ベース部の溝上に形成されるパターン部と、を含む外光遮断シートを備え、前記パターン部は、上端と前記上端より幅の大きい下端のうち、前記上端が前記パネルにより隣接するように配置される。 - 特許庁 - The image forming apparatus which forms a toner density detection pattern at a no-image part on a photoreceptor 1 and detects the density of the toner density detection pattern by a light reflection sensor 8 to perform toner supply control, and uses a two-component developer is constituted to perform toner supply control based upon the ratio of a toner supply time in a prescribed time.
感光体１上の非画像部にトナー濃度検知パターンを作成し、光反射センサ８によりトナー濃度検知パターンの濃度を検知し、トナー補給制御を行う２成分現像剤を用いる画像形成装置において、規定の時間内のトナー補給時間の比率によりトナー補給制御を行う。 - 特許庁 - To form an insulation pattern whose forming process is simple and which has high extraction efficiency of light, can securely prevent a short circuit between an anode and a cathode and breaking of a display element due to an edge portion of an electrode pattern, and is sectioned in a forward tapered shape or trailing shape.
形成プロセスが簡便で、光の取り出し効率が高く、陰極を断線させることなく、電極パターンのエッジ部に起因する陽極−陰極間の短絡及び表示素子の破壊を確実に防止できる順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成する。 - 特許庁 - An illumination optical system IOP switches (or simultaneously) first and second lights of different wavelengths to irradiate a reticle R1 having a first pattern positioned on a first surface and a reticle R2 having a second pattern positioned on a second surface via a sub optical system 60 with the lights as an illumination light IL.
照明光学系ＩＯＰにより、波長の異なる第１の光と第２の光とが、切り替えて（又は同時）に、第１面上に配置された第１パターンを有するレチクルＲ１、及び第２面上に配置された第２パターンを有するレチクルＲ２に副光学系６０を介して、照明光ＩＬとして照射される。 - 特許庁 - In the three-dimensional molding circuit substrate 4, a concave part 41 into which the metal ferrule is inserted, a wiring pattern to mount the light receiving element 1, the concave part 42 to mount the TIA element 3, and a wiring pattern to mount the TIA element 3 and the post-amp element 6 are formed, and a conductor film 40 is formed at the outer periphery.
立体成形回路基板４には、金属フェルール２が挿入される凹部４１、受光素子１を実装するための配線パターン、ＴＩＡ素子３を実装するための凹部４２、及びＴＩＡ素子３とポストアンプ素子６を実装するための配線パターンが形成され、外周面に導体膜４０が形成されている。 - 特許庁 - The device is provided with a projector unit for projecting an optical flux generated from an optical source unit via a projection lens as predetermined projection information; an image pattern forming unit for forming a predetermined pattern for projection, corresponding to the projection information; and an instructing means for giving an instruction so that only the power source of the light source unit becomes on state.
投影レンズを介して光源部から発生した光束を所定の投影情報として投影するプロジェクタ部と、投影情報に対応した所定の投影用パターンを形成する画像パターン形成部と、光源部の電源のみがオン状態となるように指示する指示手段とを備える。 - 特許庁 - By projecting an irregular track of a wave pattern created when the liquid 15 having viscosity is flowing down along the surface of the wall surface body, and its motion on the display surface 14 by using the light projection device 13, slow fantastic motion of the wave pattern can be visually enjoyed as an image.
粘稠性を有する液体１５が壁面体の表面に沿って流れ落ちるときにつくりだす波紋様の不規則な軌跡とその動きを、投光装置１３を用いて表示面１４に投影することにより、ゆっくりした波紋様の幻想的な動きを映像として視覚的に楽しむことができる。 - 特許庁 - The method for manufacturing a semiconductor device includes a step of forming a resist pattern on a surface to be processed by forming a resist film on the surface using the resist composition for immersion exposure, irradiating the resist film with exposure light by immersion exposure, and developing it, and a step of transferring the pattern to the surface to be processed by etching through the resist pattern as a mask.
本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に、本発明の前記液浸露光用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、該レジスト膜に対して液浸露光により露光光を照射し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面にパターンを転写するパターン転写工程とを少なくとも含む。 - 特許庁 - In the light transmittivity electromagnetic wave shield seat 1 in which a conductive layer 7 is formed in one surface of a transparent substrate 3 in a pattern shape at least and a resin layer 9 is laminated on the pattern conductive layer 7 formed in the pattern shape, the resin layer 9 contains a monoolefin series hydrocarbon or a diolefin series hydrocarbon as a constituent at least.
透明基材３の一方の面に少なくとも導電性層７がパターン状に形成され、前記パターン状に形成されたパターン導電層７上に樹脂層９が積層された光透過性電磁波シールドシート１であって、該樹脂層９は、少なくともモノオレフィン系炭化水素もしくはジオレフィン系炭化水素を構成成分として含有することを特徴とする光透過性電磁波シールドシートである。 - 特許庁 - The exposure apparatus projects and exposes a pattern formed on a reticle using EUV light on an object to be processed through a projection optical system, illuminates the mark with second light whose wavelength differs from that of the EUV light, and comprises a detection means to detect the information about the position of the mark by receiving the second light from the mark through the projection optical system.
ＥＵＶ光を用いてレチクルに形成されたパターンを投影光学系を介して被処理体上に投影露光する露光装置であって、 前記露光装置は、前記ＥＵＶ光とは異なる波長の第２の光でマークを照明し、該マークからの前記第２の光を前記投影光学系を介して受光することにより該マークの位置に関する情報を検出する検出手段を有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁 - The lighting system of vehicles which lights forward a vehicle comprises a plurality of light sources each of which lights different area to form a predetermined light distribution pattern as a whole and a controller which figures out traffic scenes in which the vehicle runs and varies at least one of directions or intensity of the plural light sources independently to form target light distribution patterns preset dependently on the traffic scenes.
車両の前方を照らす車両用照明システムは、それぞれが異なる照射領域を照らし、全体として所定の配光パターンを形成する複数の光源と、車両が走行する交通シーンを判断し、複数の光源の向き及び光量の少なくとも一方を光源毎に独立して変化させることにより、交通シーンごとに予め設定された目標の配光パターンを形成する制御部とを備える。 - 特許庁 - A plurality of emission parts for composing one portion of a display image such as each segment of a number are divided on a substrate 1 where a wiring pattern 1 is formed, and a light-shielding wall part 3 adheres to the substrate 1 so that an area on the plurality of emission parts becomes a light-guiding part 32 and light is shielded between adjacent emission parts.
たとえば数字の各セグメントなどの表示画像の一部をそれぞれ構成する複数の発光部を形成し得るように配線パターン１１が形成された基板１上に、前記複数の発光部をそれぞれ区画し、その複数の発光部上が導光部３２となり、隣接する発光部間で相互に遮光するように、遮光壁部３が基板１と接着して設けられている。 - 特許庁 - The game machine has an electric immumination control means for changing the electric spectacular pattern of a fluorescent lamp 25 for a decorative panel according to inside prize winning roles, an illumination degree detector 55 for detecting the illumination degree outside, and a light intensity set means setting the light intensity of the light intensity detector 55 by the electric illumination control means according to the illumination degree detected by the illumination degree detector.
内部当選役に応じて、化粧パネル用蛍光灯２５の電飾形態を変化させる電飾制御手段と、外部の照明度を検出する照度検出器５５と、照明度検出手段によって検出された照明度に応じて、電飾制御手段による照度検出器５５の光量を設定する光量設定手段とを有する。 - 特許庁 - The optical master disk exposing device in which an exposing pattern is formed by intensity-modulating the laser light emitted from a gas laser 12 with a light modulator 13 and irradiating the surface to be exposed of a resist plate 29 with the intensity-modulated laser light by means of an objective lens 28, is provided with a beam expander 17 which expands the beam diameter of the exposed beam emitted from the gas laser 12.
ガスレーザ（１２）から発射されたレーザ光を光変調器（１３）により強度変調し、強度変調されたレーザ光を対物レンズ（２８）によりレジスト板（２９）の被露光面に照射することにより露光パターンを形成する光ディスク原盤露光装置において、ガスレーザ（１２）から発射された露光ビームのビーム径を拡大するビームエキスパンダ（１７）を設けた。 - 特許庁 - To raise an arranging degree of freedom of the additional lighting fixture in a vehicular headlight equipped with an elementary lighting fixture capable of forming a light distribution pattern for low beam and an additional lighting fixture capable of temporarily lighting while the elementary lighting fixture is lighted, and to carry out the light irradiation in quick response to the travelling condition of the vehicle while sufficiently securing the life of a light source.
ロービーム用配光パターンを形成可能な基本灯具ユニットと、この基本灯具ユニットの点灯中に一時的に点灯可能な付加灯具ユニットとを備えてなる車両用前照灯において、付加灯具ユニットの配置自由度を高めるとともに、その光源の寿命を十分に確保した上で、車両走行状況に即応した光照射を行えるようにする。 - 特許庁 - To provide: a reflection type mask such that the reflection type mask having been used and contaminated has its EUV light reflectivity restored to original reflectivity when the EUV light reflectivity decreases as a result of cleaning with respect to a reflection type mask for EUV exposure used to transfer a mask pattern onto a wafer using EUV light; and a method of repairing the same.
本発明は、ＥＵＶ光を用いてマスクパターンをウェハ上に転写するためのＥＵＶ露光用の反射型マスクに関し、使用により汚染した反射型マスクを、洗浄することにより生じるＥＵＶ光反射率の低下に対し、ＥＵＶ光反射率を元の反射率に復元することが可能な反射型マスクおよびその修復方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁 - A photomask includes a substrate, a film part provided on the principal plane of the substrate and having light transmissivity lower than light transmissivity of the substrate, a pattern provided on the film part and transferred to a transferred body, and a detection mark which is provided on the film part and suppresses the intensity of transmitted light so as to suppress a transfer to the transferred body.
実施形態に係るフォトマスクは、基板と、前記基板の主面に設けられ、前記基板の光の透過率よりも低い光の透過率を有する膜部と、前記膜部に設けられ、被転写体に転写されるパターンと、前記膜部に設けられ、前記被転写体への転写が抑制されるように透過光の強度が抑制された検出マークと、を備えている。 - 特許庁 - To provide a mold for injection compression molding of a light guide plate with pattern forming surfaces formed in blocks arranged in relation to other mold composing members through small clearances without using a stamper in the mold for injection compression-molding the light guide plate which carries out the molding of the light guide plate by pressurizing a molten resin in a cavity formed between a fixed mold and a movable mold.
固定金型と可動金型の間に形成されるキャビティ内で溶融樹脂を加圧して導光板の成形を行う導光板の射出圧縮成形金型において、スタンパを使用せずに、他の金型構成部材に対して僅かな間隙を介して配設されたブロックに、パターン形成面が設けられた導光板の射出圧縮成形金型を提供する。 - 特許庁 - The first pattern exposure is performed to a resist film, consisting of negative type resist material by using the first photomask A, having a first hole light-shielding part 1 for forming the first hole patterns to be arranged sparsely, a second dummy light-shielding part 2 arranged in the periphery of the part 1 and a second hole light-shielding part 3 for forming the second hole patterns to be arranged densely.
ネガ型のレジスト材料からなるレジスト膜に対して、疎に配置される第１のホールパターンを形成するための第１のホール用遮光部１と、該第１のホール用遮光部１の周辺に配置されたダミー遮光部２と、密に配置される第２のホールパターンを形成するための第２のホール用遮光部３を有する第１のフォトマスクＡを用いて第１回目のパターン露光を行なう。 - 特許庁 - Focusing is performed by using the spatial optical modulator constituted to include a plurality of mirrors set so that the inclination of their reflection surfaces can be independently controlled, radiating light in which a mirror pattern carried on the spatial optical modulator is reflected to an object, detecting reflected light on the object and moving the object in accordance with the blur condition of a detected light image.
反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーを含んで構成される空間光変調器を使用し、前記空間光変調器に担持されるミラーパターンを反映した光を対象物に照射し、前記対象物での反射光を検出し、その検出された光像のぼけ具合に応じて前記対象物を移動させることによりフォーカス合わせを行う。 - 特許庁 - In the method of manufacturing an organic EL display, a first electrode is formed on a substrate, an organic light-emitting medium layer including an organic light-emitting layer wherein the same ink or ink with changed density is repeatedly coated on the same pattern by dividing into multiple times is formed by using letterpress printing on the first electrode, and a second electrode is formed on the organic light-emitting medium layer.
基板上に第１電極を形成し、第１電極上に凸版印刷法を用いて、同一、または濃度を変化させたインキを複数回に分けて、同一パターン上に重ね塗りする有機発光層を含む有機発光媒体層を形成し、有機発光媒体層上に第２電極を形成することを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。 - 特許庁 - Then, the signal light 5 is broken, reading light 6 of S polarization is applied to the optical storage medium 10, the first hologram is reproduced as diffraction light 8 of S polarization, its intensity is detected by a photo detector 53s, and the recording/reproducing head 20 is aligned to the optical storage medium 10 based on the detection signal of the alignment pattern included in the first hologram.
次に、信号光５は遮断し、Ｓ偏光の読み出し光６を光記録媒体１０に照射して、第１のホログラムをＳ偏光の回折光８として再生し、その強度を光検出器５３ｓにより検出して、第１のホログラムに含まれている位置合わせ用パターンの検出信号に基づいて、記録再生ヘッド２０と光記録媒体１０の位置合わせをする。 - 特許庁 - In the pattern- forming method, the positive photosensitive resin composition is applied and subjected successively to first exposure, development, second exposure and heating, with the quantity of light in the second exposure being 2-15 times that in the first exposure.
前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - When the plates 1, 6 opposed in this state are inclined, a plurality of the foams 3 of irregular sizes are formed at the time of moving the filler 2, and a difference of light transmitting amounts of the bubbles 3 and the filler 2 can create a delicate pattern.
この状態で対向させたガラス板１，６を傾けると充填材が移動するとき気泡３が不揃いの大きさで複数でき、その気泡と充填材の光透過量の差が微妙な模様を作り出す。 - 特許庁 - To provide an auxiliary light projecting device for projecting a pattern for focus detection having shape suitable for a focus detection area to a subject regardless of the focal distance of a photographic lens and having compact and simple constitution.
撮影レンズの焦点距離にかかわらず焦点検出エリアに好適な形状の焦点検出用パターンを被写体に投影する小型で簡単な構成の補助光投影装置を提供すること。 - 特許庁 - The headlight device control ECU increases or decreases the illuminance of the high-beam light distribution pattern according to a distance r from one's own vehicle to the vehicle ahead, and an angle formed between the advance direction of one's own vehicle and the advance direction of the vehicle ahead.
前照灯装置制御ＥＣＵは、自車から前走車までの距離ｒと、自車の進行方向と前走車の進行方向とのなす角度とに応じてハイビーム用配光パターンの照度を増減させる。 - 特許庁 - To provide a projector type headlight capable of obtaining a stable overhead light distribution pattern in a simple structure, by eliminating a second reflecting face that used to cause defects in the past.
本発明は、従来の欠点を引き起こす原因となっていた第２反射面を無くすことにより、簡単な構成で安定したオーバーヘッド用配光パターンを得ることができるプロジェクター型ヘッドランプを提供する。 - 特許庁 - Then, the first lens pattern 24 is partially or entirely exposed to light via a second photo mask 20 to conduct a second exposure process for making at least part of each portion that will become a microlens thinner.
次に、第２のフォトマスク２０を介して第１のレンズパターン２４を部分的もしくは全面的に露光し、マイクロレンズとなるべき各部分について、少なくとも一部の膜厚を薄くする第２の露光処理を行う。 - 特許庁 - A gray scale light proximity effect compensating device feature conducts the convolution of a device feature and two-dimensional compensation kernel or two one-dimensional compensation kernel, added to a mask pattern by generating an OPC feature of the gray scale.
グレースケール光近接効果補正デバイスフィーチャは、デバイスフィーチャと２次元補正カーネル又は２つの１次元補正カーネルとの畳み込みを行いグレースケールのＯＰＣフィーチャを生成することによりマスク・パターンに追加される。 - 特許庁 - When the counter substrate 2 is completed, inspection to detect a missing part 21 of the edge portion light-shielding film pattern 23 is not carried out or even if a missing part is detected, the substrate as completed is used to fabricate a liquid crystal display apparatus.
対向基板２の完成時には、周縁部遮光膜パターン２３の欠落部２１について検出する検査を行わないか、または検出されても、そのまま、液晶表示装置を作成するのに用いる。 - 特許庁 - An optical communication control unit 22 of each slave determines whether or not a predetermined pattern signal transmitted from the master is normally recognized, and notifies the master of light intensity commonly receivable between respective PDs of the slave.
各スレーブの光通信制御部２２では、マスタから送信された所定パターン信号を正常に認識できたか否かを判断し、そのスレーブの各ＰＤで共通に受信可能な光強度をマスタに通知する。 - 特許庁 - To provide a liquid for light-sensitive coating with superior stability, which forms a stannic-oxide based undercoat having a very delicate pattern for selective plating with superior mechanical and chemical stability.
安定性に優れた感光性塗布液であって、非常に繊細なパターン化された、機械的および化学的安定性に優れた酸化錫系選択メッキ下地膜を形成することができる感光性塗布液を提供する。 - 特許庁 - To provide a wafer peripheral aligner which can perform accurate step-like exposures along an outer edge of a circuit pattern for a semiconductor wafer peripheral part and can realize easy maintenance and inspection of an exposure light projecting part and a wafer mounting stand.
半導体ウエハ周辺部を回路パターンの外縁に沿って正確に階段状露光することができ、露光光出射部やウエハ載置台の保守点検が容易なウエハ周辺露光装置を提供する。 - 特許庁 - To solve a problem wherein, when a motor, a screw conversion mechanism and an advancing/retracting rod are used instead of a solenoid and a plunger of a shade changeover device of a conventional vehicular headlamp, deviation is generated in a light distribution pattern.
従来の車両用前照灯のシェード切替装置のソレノイドおよびプランジャの代わりにモータおよびねじ変換機構および進退ロッドを使用した場合において配光パターンにぶれが生じる点にある。 - 特許庁 - Drawing of a plurality of patterns having different radii is carried out with respect to a resist coated on a substrate S, while a substrate S is rotated at an arbitrary angular velocity, to find one of the pattern radii providing an optimum quantity of light exposure after development.
基板Ｓ上に塗布されたレジストに対し、任意の角速度で基板Ｓを回転しながら半径の異なる複数のパターンの描画を行い、現像後に露光量が最適なパターンの半径を求める。 - 特許庁 - To provide a resist material which excels not only in transmittance to vacuum UV light but in an etching resistance and more particularly a chemically amplified resist material and a pattern forming method using the same.
一般式（１）に示される繰り返し単位ｋ及びｍを含む高分子化合物（ｉ）と、カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換された繰り返し単位を含む高分子化合物（ｉｉ）とを含むするレジスト材料。 - 特許庁 - A cubic hologram or a diffraction grating 14 has been recorded in the optical fiber 1, and the optical fiber 1 having display function with which the light 15 guided into the optical fiber is diffracted and a specified pattern 17 is output from the lateral face.
内部に体積型ホログラム若しくは回折格子１４が記録されており、内部を導波する光１５が回折されて側面から特定のパターン１７が出射される表示機能を持つ光ファイバー１。 - 特許庁 - To provide a photosensitive black composition having high light-shielding property and high resistance, excellent developability, resolution (sensitivity), pattern features (linearity) and the like, and to provide a color filter having a black matrix using the composition.
高い遮光性と高い抵抗値とを有し、現像性、解像性（感度）、及びパターン形状（直線性等）に優れる感光性黒色組成物、並びにそれを用いたブラックマトリックスを備えたカラーフィルタの提供。 - 特許庁 - The holes 3 in large numbers are irradiated by the light 61 projected to the inside of the calibration plate from the outer peripheral lateral side of the plate and the pattern 4 of the irradiated holes is made to appear on the holed surface side of the calibration plate.
そして、前記キャリブレーションプレートの外周側面から光６１をその内部に投射し前記多数穴３を照らしてキャリブレーションの穴明け面側に照射された多数穴のパターン４を現出する。 - 特許庁 - The inside of the first and second regions in the resist film is exposed to the light having third intensity weaker than the first intensity that is transmitted through a region where a pattern to be transferred is formed of the second reticle.
レジスト膜の第１の領域内及び第２の領域内を、第２のレチクルの、転写すべきパターンの形成された領域を透過し、第１の強度よりも弱い第３の強度をもった光で露光する。 - 特許庁 - Also, the control unit corrects deviation of measurement data generated by the angle of view of a lens 5a of the CCD camera 5, based on height Lco of the CCD camera 5 and an irradiation angle α of pattern light applied to the printed board.
また、制御装置は、ＣＣＤカメラ５のレンズ５ａの画角により生じ得る計測データのズレを、ＣＣＤカメラ５の高さＬcoと、プリント基板に対し照射されるパターン光の照射角αとに基づき補正する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive colorant dispersion resin composition for color filters, which can obtain a photosensitive layer with high sensitivity, high color purity and high light shielding effect and is excellent in adhesion in development and a pattern shape.
高感度で、高い色純度及び遮光性の感光層を得ることができ、現像時の密着性やパターン形状において優れるカラーフィルタ用感光性着色剤分散樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an algorithm for analyzing the polarization state of incident light from an intensity distribution pattern to be measured, in a polarization analysis apparatus and an ellipsometer using a wave plate array and a polarizer array and having no driving part.
波長板アレイおよび偏光子アレイを用いた、駆動部のない偏光解析装置およびエリプソメータにおいて、測定される強度分布パターンから入射光の偏光状態を解析するアルゴリズムを提供する。 - 特許庁 - A mask R wherein a prescribed pattern is formed is illuminated under cross pole illumination conditions, a wafer W is exposed via a projection optical system PL by light IL projected from the mask, and a hole array is formed on the wafer.
クロスポール照明条件下で所定のパターンが形成されたマスクＲを照明し、該マスクから射出される光ＩＬで投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光し、そのウエハ上にホールアレイを形成する。 - 特許庁 - To provide a transfer device that can transfer a fine transfer pattern to an accurate position of a molded article even if a mold is formed of a material that does not transmit light and the molded article is not provided with an alignment mark.
型が光を透過しない材質で構成され、また、被成型品にアライメントマークが設けられていなくても、被成型品の正確な位置に微細な転写パターンを転写できる転写装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a hard coat film having high whole light transmittance and a good surface state, reduced in the occurrence of a curl and not almost recognized in the iris pattern caused by an interference fringe when used as a scattering preventing film of glass.
全光線透過率が高く、表面状態が良好であり、カールの発生がなく、ガラスの飛散防止用フィルムとして用いたとき、干渉縞による虹彩模様がほとんど認められないハードコートフィルムを提供する。 - 特許庁
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