「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 111 112 113 114 115 116 117 118 119 .... 141 142 次へ＞- To provide a gray mask by which positioning to a surface to be exposed is easy and even when reducing projection is performed, a concentration pattern of a light shielding agent dispersed layer can be surely image-formed on the surface to be exposed.
露光対象面に対する位置合わせが容易で、縮小投影を行うときでも遮光剤分散層の濃度パターンを露光対象面に確実に結像させることが可能なグレイマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition improved in exposure latitude, thinness-denseness dependency and line edge roughness and improved also in sensitivity to exposure with EUV light and in dissolution contrast, and to provide a pattern forming method and a specific organic acid.
露光ラチチュード、疎密依存性、ラインエッジラフネスが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、パターン形成方法及び特定の有機酸を提供する。 - 特許庁 - To enhance the visibility of a front area of a vehicle without causing glare on the driver of an oncoming or a leading vehicle, in a lighting tool for a vehicle which is so structured as to form an additional high-beam light distribution pattern.
ハイビーム用の付加配光パターンを形成するように構成された車両用照明灯具において、対向車や先行車のドライバにグレアを与えてしまうことなく車両前方領域の視認性を高める。 - 特許庁 - A work 25 coated with a photosensitizer such as a resist is irradiated with a light emitted from the integrator 20 through a collimator 21 and a mask 23, and a pattern formed to the mask 23 is exposed and formed to the photosensitizer on the work 25.
インテグレータ２０から出射した光は、コリメータ２１、マスク２３を介してレジスト等の感光剤が塗布されたワーク２５に照射されマスク２３に形成されたパターンがワーク２５上の感光剤に露光形成される。 - 特許庁 - An alignment pattern 10 is substantially formed in parallel to the scanning direction of the rays of light to scan in exposure in one scribe line 6 positioned at the rightmost end of the exposure region 4 of a semiconductor wafer 1.
半導体ウェハ１の露光領域４の最右端に位置する１本のスクライブライン６に、露光時に走査される光の走査方向に対して実質的に平行にアライメントパターン１０が形成されている。 - 特許庁 - After a resist film 102 containing a hygroscopic compound is formed, the resist film 102 is selectively irradiated with exposure light 104 for pattern exposure while water 103 is supplied onto the resist film 102.
吸湿性化合物を含むレジスト膜１０２を形成した後、該レジスト膜１０２の上に水１０３を供給した状態で、レジスト膜１０２に対して露光光１０４を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁 - The resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 laser light 13 having 157 nm wavelength through a mask 12 and the patternwise exposed resist film 11 is developed to form the objective resist pattern 14.
レジスト膜１１に、１５７ｎｍ帯の波長を持つＦ_2 レーザ光１３をマスク１２を介して照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像してレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁 - When the wavelength of a laser beam of a wavelength variable laser is controlled (step S0), an optical system or a hologram recording medium is moved (step S1), and a state where a light beam is made incident on a wavelength control pattern is made.
波長可変レーザのレーザ光の波長を制御する際（ステップＳ０）には、光学系ないしはホログラム記録媒体を移動して（ステップＳ１）、波長制御パターンに光ビームが入射される状態にする。 - 特許庁 - The EUV light scattered/reflected by the mask 8 passes through a projection optical system and is perpendicularly inputted onto a wafer loaded on a wafer stage 12 to shrink/transfer the device pattern 21 to a resist on the wafer.
マスク８によって、散乱・反射されたＥＵＶ光は、投影光学系を通過して、ウェハステージ１１上に載置されているウェハに垂直に入射し、デバイスパターン２１がウェハ上のレジストに縮小・転写される。 - 特許庁 - Then the resist film 102 is selectively irradiated with exposure light 105 through the barrier film 103 while a liquid 104 comprising water is placed on the barrier film 103 to carry out pattern exposure.
続いて、成膜したバリア膜１０３の上に水よりなる液体１０４を配した状態で、バリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光１０５を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。 - 特許庁 - To increase information density when information recording is performed by irradiating a thin film of polymer compound including azobenzene structure with light and forming an unevenness pattern on the surface.
発明は、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に光照射して、表面に凹凸パターンを形成させて情報記録を行う際に、情報密度を増大させることを目的としてなされたものである。 - 特許庁 - The resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 laser light having 157 nm wavelength through a mask 12 and the patternwise exposed resist film 11 is developed to form the objective resist pattern 14.
レジスト膜１１に、１５７ｎｍ帯の波長を持つＦ_2レーザ光１３をマスク１２を介して照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像してレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁 - To provide a lens of a vehicular lighting fixture reducing the occurrence of glare light even in the vehicular lighting fixture having a pattern such as a decorative design rib on a lens surface and to provide the vehicular lighting fixture.
本発明は、意匠リブ等のパターンをレンズ面に有する車両用灯具であってもグレア光の発生を低減した車両用灯具のレンズおよび車両用灯具を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To enhance visibility of a front area of a vehicle, without imparting glares on a driver of an oncoming vehicle or to a leading vehicle, in a lighting tool for a vehicle so structured to form an additional high-beam light distribution pattern.
ハイビーム用の付加配光パターンを形成するように構成された車両用照明灯具において、対向車や先行車のドライバにグレアを与えてしまうことなく車両前方領域の視認性を高める。 - 特許庁 - In the pattern forming method, light intensity applied in the second exposure is 1-15 times of that of a first exposure in performing the processes of spreading, the first exposure, development, the second exposure, and heat treatment one by one for the positive photosensitive resin composition.
前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の１〜１５倍であるパターン形成方法。 - 特許庁 - The headlight system 20 has a second lens system 52 with at least one lens operably related to at least one second light source 36 so as to prepare a hot spot section of the desired beam pattern.
本発明のヘッドライトシステム（20）は、所望のビームパターンのホットスポット部分を提供するよう少なくとも１つの第２の光源（36）と作動的に関連している少なくとも１つのレンズを備えた第１のレンズ系（52）を有する。 - 特許庁 - Each liquid crystal mask can optionally set a cell that the laser light can pass through among cells arranged in matrix, and consequently the machining pattern of the HDD head can be set arbitrarily.
各液晶マスクは、マトリクス状に配置された複数のセルのうちレーザ光の通過を可能にするセルを任意に設定することができ、これによって前記ＨＤＤヘッドに対する加工パターンを任意に設定できるようにした。 - 特許庁 - This device is constituted of a recording part 10 displaying a picture, an optical write part 12 writing a picture on the recording part 10 with a light pattern and a control part 14 controlling the recording part 10 and the optical write part 12.
画像を表示する記録部１０、光のパターンにより記録部１０に画像を書き込む光書き込み部１２、及び記録部１０と光書き込み部１２とを制御する制御部１４とから構成されている。 - 特許庁 - A part of a light 51a illuminated to the surface of the wafer 100 to be analyzed is reflected by metal wiring, and is imaged as the first wiring pattern image of a reflecting image of the wafer 100 to be analyzed by a CCD 11.
被解析ウェハ１００の表面に照射された光５１ａの一部は、メタル配線により反射され、ＣＣＤ１１により被解析ウェハ１００の反射像である第１の配線パターン像として撮像される。 - 特許庁 - A Cu pattern coated with Ni is formed on a metal substrate 11, over which light-emitting elements LED1-LED(N) are mounted in a serial circuit, and the metal substrates SUBs connected in series are connected in parallel.
金属基板１１の上には、Ｎｉが被着されたＣｕパターンを形成し、この上に発光素子ＬＥＤ１〜ＬＥＤ（Ｎ）を直列回路で実装し、この直列接続された金属基板ＳＵＢを並列接続する。 - 特許庁 - Moreover, even if the resin member is used for the frame 6, since thermal deformation of the frame 6 can be made smaller, displacement of the projector lens 4 can be made smaller, and no effect is given to a light distribution pattern P.
また、この発明は、フレーム６に樹脂部材を使用しても、フレーム６の熱変形を小さくすることができるので、投影レンズ４の変位を小さくすることができ、配光パターンＰに影響を与えない。 - 特許庁 - To sufficiently improve visibility in a distant region on a road surface in front of a vehicle when a projector type lamp unit forming a light distribution pattern for a low beam is used as a lamp unit of a vehicular headlamp.
車両用前照灯の灯具ユニットとして、ロービーム用配光パターンを形成するプロジェクタ型の灯具ユニットを採用した場合において、車両前方路面における遠方領域の視認性を十分に高める。 - 特許庁 - The dummy hole 10D forms a dummy pattern 20 of an organic layer on a substrate 1 in the outside of the outermost edge E (display area) of the light emitting area, and inside an adhesive agent forming area F for sealing.
疑似開口部１０Ｄは、発光領域の最外縁（表示領域）Ｅより外側の基板１上であって、封止用の接着剤形成領域Ｆより内側に、有機層の疑似パターン２０を形成する。 - 特許庁 - The control means controls the stage driving means and the focus position variation means so that the focus position is varied by making the movement of the stage correspond to the irradiation of light to the pattern position.
前記制御手段は、前記ステージの移動と前記パターンの位置への前記光の照射とを対応させて前記フォーカス位置が変動するように前記ステージ駆動手段と前記フォーカス位置変動手段とを制御する。 - 特許庁 - A shading position control part 43 controls the position of the shading pattern to be an area for shading the light on the shading surface of the shade 13 through the sun shade control part 44 so that the driver's eyes is included in the shading range.
遮光位置制御部４３は、運転者の目が遮光範囲に含まれるように、日除け制御部４４を介して、日除け１３の遮光面において光を遮る領域である遮光パターンの位置を制御する。 - 特許庁 - As a result, since the vertical vibration of the vehicle is not transmitted to a shade 5 via a spring member 7 jointed to the advancing/returning rod 14, light distribution pattern can be switched and controlled accurately and surely.
この結果、進退ロッド１４と連結されているばね部材７を介してシェード５に車両の上下方向の振動が伝達されないので、配光パターンを正確にかつ確実に切り替えて制御することができる。 - 特許庁 - The external light is reflected by upper end parts of the projection portions 31 and the valley portion 32 and a natural indistinct pattern which corresponds to an uneven shape portion consisting of the recessed grooves 21 and projection streak part 22 is viewed to appear to be straight-grained of ivory.
外部光は、突条部３１の上端部、谷部３２で反射し、凹溝２１及び突条部２２で成る凹凸形状部に応じたぼんやりとした自然な縦縞模様が視認され、象牙の柾目のように見える。 - 特許庁 - Two or more kinds of pattern lights having at least cross-shaped and ring-shaped irradiation patterns produced on a surface of an inspection object are emitted on the surface of the inspection object from a light-emitting portion 601.
検査対象物の表面に生成される照射パターンが少なくとも十字形状及びリング形状となる２種類以上のパターン光を発光部６０１から検査対象物の表面に照射する。 - 特許庁 - A hole pattern is transferred to a photoresist film 6 on a wafer 4 by reduced projection exposure with an edge emphasized phase shifting resist mask RM1 having a phase shifting film 2 and a light shielding film 3 each comprising a resist film.
位相シフト膜２および遮光膜３をレジスト膜で構成したエッジ強調型位相シフトレジストマスクＲＭ１を用いた縮小投影露光処理によってウエハ４上のフォトレジスト膜６にホールパターンを転写する。 - 特許庁 - Then, by constructing a desired light distribution pattern without using a reflector or the like in this manner, a simple structure is realized and, in particular, the dimensions in optical axial direction of the lighting device 1 can be shortened drastically.
そして、このようにリフレクタ等を用いることなく所望の配光パターンを構成することにより、構造の簡素化を実現し、特に、照明装置１の光軸方向の寸法を飛躍的に短縮する。 - 特許庁 - In a rear surface of the wiring board 26 in the light emitting diode 20, a lamination pattern 34 for preventing an adhesive agent 36 from flowing into a through-hole 26b is provided on a bonding surface to be bonded to the metal base 24.
発光ダイオード２０における配線基板２６の裏面には、金属ベース２４に接着する接着面に、接着剤３６が貫通孔２６ｂ内に流れ込むことを防ぐ積層パターン３４が設けられている。 - 特許庁 - In the method for manufacturing an optical substrate, a light transmitting member 10 is processed in such a manner that the easiness for deposition of the material to form a film pattern 30 differs between projections 12 and recesses 14 of the member 10.
光学基板の製造方法では、光透過性部材１０の凸部１２と凹部１４において、膜パターン３０を形成するための材料の堆積されやすさが異なるように、光透過性部材１０を加工する。 - 特許庁 - For the EL display device, a hydrophilic layer part is formed so as to get over the level difference of a substrate and cover wider area than that of an electrode opening, and a light emitting layer is formed depending on the selection pattern of hydrophilic/water repellent property.
本発明のＥＬ表示装置は、基板段差を乗り越えて電極開口部よりも広い範囲にわたって親水層部を設け、親水性／撥水性の選択パターンによって発光層を形成する。 - 特許庁 - To provide an optical encoder capable of obtaining desired precision by regulating the relation among the necessary phase precision, distance between index scale and main scale, divergent angle of a parallel light beam, and a period of a periodic pattern.
必要位相精度と、インデックススケールとメインスケールとの距離と、平行光線のビーム発散角度と、周期パターンの周期との関係を規定することにより、所望の精度をもつ光学式エンコーダ装置を提供する。 - 特許庁 - Due to a known quantum-mechanical effect, the light in the 1-photon state interferes as a pattern of a cycle 1/2 times that of incidence to form an image, thereby materializing the definition double an image formation limit in the prior art.
そして、周知の量子力学的効果のため、１光子状態の光子が入射したときの１／２倍の周期のパターンとして干渉、結像され、従来の結像限界の２倍の精細さが実現できる。 - 特許庁 - The display apparatus is so constituted that the display pattern 20 is formed of minute recesses 29 provided at least on one face of a translucent base plate 10, and at least one light source 30 is arranged on a side end face of the translucent base plate 10.
透光性基板１０の少なくとも片面に設けた微小な凹部２９で表示パターン２０を形成するとともに、前記透光性基板１０の側端面に少なくとも一つの光源３０を配置する。 - 特許庁 - In the case of calibrating a display characteristic measurement device 1, a color display device 4 of a measured object applies white light emission to a calibration chart to display a prescribed calibration pattern, an image pickup device 2 picks up the image to capture image data (luminance data).
表示特性測定装置１の校正に際し、測定対象のカラーディスプレイ４で校正チャートを白色発光して所定の校正パターンを表示し、撮像装置２で撮像して画像データ（輝度データ）を取り込む。 - 特許庁 - After the regular patterns are formed, the entry position is moved and is subjected to reciprocative movement, in a direction of orthogonally crossing the first direction, at such a speed that will not form a pattern on a surface of the substrate to position it into a light irradiating position.
また、規則的なパターンが形成された後は、入射位置を、基板表面にパターンが形成されない速度で第１方向と直交する方向へ往復移動させながら、照射位置へ位置決めする。 - 特許庁 - To provide an optical shutter device in which dispersion in the amount of light beams being transmitted through each optical shutter element is suppressed regardless of the differences in the positions of the elements on a substrate and the pattern shapes of the electrodes located in the vicinity of the elements.
各光シャッタ素子の基板上での位置や周辺に位置する電極のパターン形状の相違に拘わらず、各光シャッタ素子ごとの透過光量のばらつきを抑えることのできる光シャッタ装置を得る。 - 特許庁 - To provide a full-color display material, in a large display screen with a high quality and high function at a low cost by using an organic light- emitting material which conventionally has been considered that it could not reproduce the shape precisely nor pattern with the evenness of the film thickness.
従来、形状再現精度が悪く、また、膜厚の均一性のあるパターニングができないとされていた有機発光材料を用いて、安価で高品質高機能の大画面のフルカラー表示体を実現する。 - 特許庁 - Therefore, the light distribution pattern for low beam can be displaced to the driver's own lane side as a whole without sacrificing the diffusion angle of the driver's own lane side, and the hot zone can be formed to center a position to the driver's own lane.
そしてこれにより、自車線側の拡散角を犠牲にすることなく、ロービーム用配光パターンを全体的に自車線側に変位させ、そのホットゾーンも自車線寄りの位置を中心として形成する。 - 特許庁 - The control device controls the revolving angle and turning-on/off of the spot lamp 3 based on the positional information of the pedestrian M, and changes an emission pattern of the spot light S in accordance with the characteristic information of the pedestrian M.
制御装置は、歩行者Ｍの位置情報に基づいてスポットランプ３の旋回角度と点消灯を制御するとともに、歩行者Ｍの特性情報に応じてスポット光Ｓの照射パターンを変化させる。 - 特許庁 - In the inspection, the inspection is executed quickly without requiring labors and times for regulating luminous energy, by computing the luminous energy controlled variable, based on a lightness converted value when registering a correct answer pattern, and the light source characteristic data therein.
検査時は、正解パターン登録時の明るさ換算値及び光源特性データに基づいて、光量制御量を演算することで、光量調整の手間を要することなく、迅速に検査が実行可能である。 - 特許庁 - When correcting the quantity of light based on the correction data of the EEPROM, a test pattern is printed (step 108), its density is measured (step 110), and correction data for making density distribution substantially flat is determined (step 112).
ＥＥＰＲＯＭの補正データに基づいて光量補正を行いながら、テストパターンを印字させ（ステップ１０８）、この濃度を測定して（ステップ１１０）、濃度分布を略フラットにするような補正データを求める（ステップ１１２）。 - 特許庁 - When it is recognized that the light control signal has changed in a pattern to satisfy a prescribed command condition, a control circuit returns an accumulated lighting time to the initial value according to the recognized command condition, and switches a movement mode.
制御回路は、調光信号が所定の指令条件を満たすパターンで変化したことが認識されたときに、認識された指令条件に応じて累積点灯時間を初期値に戻したり、動作モードを切り換える。 - 特許庁 - To provide an illumination method generating a proximity field light capable of reaching a deep point of resist to form a deep resist pattern, and to provide a proximity field exposure method and a proximity field exposure device.
近接場光がレジストに対して深くまで到達し、深いレジストパターンを形成することが可能となる近接場光を発生させる照明方法、近接場露光方法、および近接場露光装置を提供する。 - 特許庁 - This invention relates to the fine pattern forming material which is provided on the surface side of a substrate, and in which holes are formed by melting according to the irradiation of laser light, and which is composed of an In alloy containing 30 to 60 atomic% Co.
基板の表面側に設けられ、レーザー光の照射によって溶融することで穴が形成される微細パターン形成材料であって、Ｃｏを３０〜６０原子％含有するＩｎ合金からなる。 - 特許庁 - The main control circuit 22 performs correction on the image pickup signal obtained by the photographic operation, according to a distortion pattern of the photographic image caused by incident light toward the image pickup device transmitting through the cover.
該主制御回路２２は、撮影動作によって得られる撮像信号に対して、撮像装置へ向かう入射光が前記カバーを透過することによって生じる撮影画像の歪パターンに応じた補正処理を施す。 - 特許庁 - Then, by performing second-stage exposure, another areas G to be irradiated of the photoresist film are irradiated with light by using another phase shift mask formed in another straight line pattern extended in the longitudinal direction A of active areas L.
次に、同じフォトレジスト膜に第２段階の露光を行い、活性領域Ｌの長辺方向と同じＡ方向に延在する直線パターンからなる位相シフトマスクを用いて照射領域Ｇに光を照射する。 - 特許庁 - To provide a stress history recording system in which a stress-induced light-emitting pattern can be selectively recorded, by reducing an influence of afterglow recording when luminescence obtained from a stress illuminant is integrated and recorded for a certain period of time.
応力発光体から得られる発光を一定期間積算記録する時の残光記録の影響を低減し、応力発光パターンを選択的に記録することのできる応力履歴記録システムを提供する。 - 特許庁
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