「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 115 116 117 118 119 120 121 122 123 .... 141 142 次へ＞- A light, reflected from a finger as the subject irradiated with the light source 21 and pressed against a reading part, is transmitted through the transparent rotating roller 29, focused by the Selfoc lens 22 and subjected to photoelectric conversion by the one-dimensional image pickup element 24, and is further converted into image data representing a fingerprint pattern by an A/D conversion circuit.
光源２１から照射され読み取り部に圧接される被検体である指先において反射した光は、透明回転ローラ２９を透過してセルフォックレンズ２２により集光されて１次元撮像素子２４により光電変換され、さらにＡ／Ｄ変換回路により指紋パターンを表す画像データとして変換される。 - 特許庁 - The first reflection layer 32 and the second reflection layer 34 are formed by vacuum vapor deposition or sputtering, the light made incident from the translucent window 31 repeats total reflection on the first reflection layer 32, the second reflection layer 34 and the total reflection surface, illumination distribution is equalized and the light is emitted from the translucent pattern 33.
第１反射層３２及び第２反射層３４は真空蒸着あるいはスパッタによって成膜され、前記透光窓３１から入射した光が、第１反射層３２、第２反射層３４及び全反射面で全反射を繰り返し、照度分布が均一化されて透光パターン３３より出射される。 - 特許庁 - In the hologram reflector 12 having a hologram to form a display pattern by reflecting the incident light to a specified direction in a specified range, the hologram consists of a volume phase transmission type hologram layer 11 and an image 12c of figures, characters or the like are formed in a light reflecting layer 12a disposed under the hologram layer.
入射光を所定方向と所定範囲に反射して表示パターンを形成するために用いられるホログラムを備えた反射板において、ホログラムが体積位相透過型ホログラム層１１であり、ホログラム層下に設ける光反射層１２ａに絵柄、文字等の画像１２ｃを形成したホログラム反射板１２である。 - 特許庁 - When the pneumatic tire 10 rotates as the vehicle travels and the coloring regions 18 consisting of regions with different light reflectivity rotate, the pattern of bright and dark portions is sensed as the spectrum of light and the annular zone 20 appears to be colored (e.g. red, yellow, blue or the like; indicated by net points in the figure).
車両の走行により空気入りタイヤ１０が回転し、光の反射率の異なる領域からなる発色領域１８が回転すると、明暗が光のスペクトルとして感知され、図１（Ｂ）に示すように、環状帯２０に色（例えば、赤、黄、青等。図では網点で指示。）が付いたように見える。 - 特許庁 - The mask blank is characterized in that chemically amplified resist film 4 is formed on a light shielding film 3 and deactivation suppressing film (not illustrated) having film density at least higher than the film density in the vicinity of the surface of the light shielding film 3 and for suppressing deactivation of the resist film 4 is formed when a resist pattern 4a is formed.
遮光性膜３上に化学増幅型レジスト膜４を形成し、レジストパターン４ａを形成する際に、少なくとも前記遮光性膜３の表面近傍の膜密度よりも高い膜密度を有し、前記レジスト膜４の失活を抑制する失活抑制膜（図示せず）が形成されていることを特徴とするマスクブランク。 - 特許庁 - As non-collimate light being a more outer side than a beam spot diameter ϕ1 out of actual light beams having beam spot diameter ϕ2 made incident on a hologram recording medium 101 is reflected by a slant plane 103b of the convex pattern and diffused, can be functioned as a space filter, and quality of hologram recording and reproducing can be improved.
ホログラム記録媒体１０１に入射したビームスポット径φ２を持つ実際の光ビームのうち、ビームスポット径φ１よりも外側の非コリメート光は凸パターンの斜面１０３ｂで反射して拡散するので、空間フィルタとして機能させることができ、ホログラム記録再生の品質を向上させることができる。 - 特許庁 - A projection method for projecting position information to a projection plane projected by the projector has a first step for projecting projection data to the projection plane 430 by visible light and a second step for projecting an image pattern 400 with gradation different in accordance with a coordinates position of the projection plane 430 to the projection plane 430 by infrared light.
プロジェクタにより投影される投影面に位置情報を投影する投影方法は、可視光により投影面４３０に投影データを投影する第１のステップと、投影面４３０の座標位置に応じて階調の異なる画像パターン４００を赤外光で投影面４３０に投影する第２のステップとを有する。 - 特許庁 - A light projection part 15 receives a print finish detection signal when a squeegee 13 detects the finish of print by a detecting part 14, and emits light toward a cream solder 12 of an inspection object filled in an inspection hole 111a, out of pattern holes 11a formed in a printing mask 11.
検出部１４によりスキージ１３が印刷を終了したことを検出すると、投光部１５は印刷完了検知信号を受け取り、印刷用マスク１１に形成されたパターン孔１１ａのうち検査孔１１１ａに充填された検査対象のクリーム半田１２に対し光を照射する。 - 特許庁 - With this, a combination (RGBY) of light beams of each color reflected at the reflecting member is reversed as to a relative relation in a progressing direction line position of each color from a combination of light beams not reflected at the reflecting member to cancel color unevenness at end parts of an illumination pattern, so that color-mixing properties are improved with restraint of efficiency degradation.
これにより、反射部材で反射された各色の光線の組（ＲＧＢＹ）は、各色の進行方向の相対関係が、反射部材で反射されない光線の組と比較して逆転し、照射パターン端部の色むらが打ち消されるため、効率低下を抑えて、混色性を向上することができる。 - 特許庁 - When malfunction is caused in the shade driving actuator 44, an irradiation control part releases the engagement by the joint mechanism 46, and the light distribution pattern suitable for traveling is preferentially formed by preferentially rotating the rotary shade 38 to a prescribed light distribution forming position by a preferential rotary mechanism 48.
そして、シェード駆動アクチュエータ４４に不具合が生じた場合には、照射制御部は、ジョイント機構４６による係合を解除して回転シェード３８を優先回転機構４８により所定の配光パターン形成位置に優先回転させて走行に適した配光パターンを優先的に形成する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition simultaneously satisfying sensibility, high resolution, a pattern profile, line edge roughness and dry etching resistance, particularly in lithography using an electron beam, an X-ray or EUV light as an exposure light source, as well as a resist film and a patterning method using the composition.
特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The pattern part 7 gets luminous in the luminous layer 73 by light transmitted through the translucent color display layer 71 while exhibiting a color of the display layer 71 in a bright site, and the color of the display layer 71 in the front side of the luminous layer 73 is exhibited in a dark site by the light emission of the luminous layer 73.
この模様部７は、明所において、透光性カラー表示層７１の色を呈しつつ、透光性カラー表示層７１を透過した光によって蓄光層７３にて蓄光し、暗所において、蓄光層７３の発光によってその前方の透光性カラー表示層７１の色を呈する。 - 特許庁 - Then, by combination of light from the low beam filament 18a which is reflected by each of a plurality of reflection elements 20c formed at the reflection face 20 of the reflector 20, two nearly spot-like distribution patterns PA, PB are formed at the mutually separated positions in right and left direction as the rainy weather running light distribution pattern PR.
そして、リフレクタ２０の反射面２０ａに形成された複数の反射素子２０ｓの各々で反射したロービーム用フィラメント１８ａからの光の組合せにより、雨天走行時用配光パターンＰＲとして、左右方向に互いに離れた位置に２つの略スポット状の配光パターンＰＡ、ＰＢを形成する。 - 特許庁 - To improve position detection precision of a scanning part of an image reader, which detects a reference position in a sub-scanning direction by detecting an image pattern for position detection irradiated with light by a light source, while reducing an increase in processing time.
光源によって光が照射された位置検出用画像パターンを検出することにより副走査方向の基準位置を検出する画像読取装置において、処理時間の増大を低減しつつ走査部の位置検出精度を向上することができる画像読取装置、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a vehicular display device capable of improving visibility of the design pattern illuminated by the light source even if an ordinary display color of a plurality of design patterns in the indicator part of the displaying board is the complementary color of the light sources individually illuminating the plurality of design patterns.
表示盤のインジケータ部の複数の意匠パターンの常時の表示色が、前記複数の意匠パターンを個別に照明する光源の光源色と補色関係にある場合でも、前記光源が照明する意匠パターンの視認性を向上させることができるようにした車両用表示装置を提供する。 - 特許庁 - Disclosed is the electromagnetic wave shield member having a transparent base and a conductive layer formed on the transparent base in a predetermined pattern, the conductive layer comprising a mixed-color pigment comprising a combination of (1) metal particles, (2) a binder resin, and (3) two or more of pigments, and absorbing light in the whole visible light range.
透明基材と、該透明基材上に所定のパターンで形成された導電層とを有する電磁波シールド部材であって、前記導電層が、（１）金属粒子、（２）バインダー樹脂、及び（３）２種以上の色素を組み合わせた、可視光域全域で吸収を有する混合色素からなることを特徴とする電磁波シールド部材。 - 特許庁 - A second contact hole 42a passing through a second interlayer dielectric 42 and a third interlayer dielectric 43 is formed at a position off the upper layer side light reflecting film 7a, and a reflecting film pattern 5c comprising the lower layer side light reflecting film is formed at a position overlapped with the second contact hole 42a in the plane view.
第２層間絶縁膜４２および第３層間絶縁膜４３を貫通する第２コンタクトホール４２ａは、上層側光反射膜７ａからずれた位置に形成され、第２コンタクトホール４２ａに対して平面視で重なる位置には下層側光反射膜からなる反射膜パターン５ｃが形成されている。 - 特許庁 - To thin a light-shielding layer (i.e., to thin a light-shielding film and a transfer pattern) necessary for generations of DRAM half-pitch (hp) 45 nm and after in a semiconductor design rule, especially for a generation of hp 32-22 nm, as to a photomask blank to be used for manufacturing a photomask for ArF eximer laser exposure.
ＡｒＦエキシマレーザー露光用フォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクに関し、半導体デザインルールにおけるＤＲＡＭハーフピッチ（ｈｐ）４５ｎｍ以降の世代、特にｈｐ３２−２２ｎｍ世代に必要な遮光層の薄膜化（ひいては遮光膜、転写パターンの薄膜化）を目的とする。 - 特許庁 - To provide an alkali-developable photosensitive resin composition which is capable of forming a resist pattern having a good opening shape with high sensitivity and resolution not only to all-wavelength exposure using a mercury-vapor lamp as a light source but to laser including light having a wavelength of 365 or 405 nm, and which can be made halogen-free.
水銀灯を光源とする全波長露光だけでなく波長３６５や４０５ｎｍの光を含むレーザに対しても、高い感度及び解像度で良好な開口形状のレジストパターンを形成することが可能であり、ハロゲンフリー化に対応可能なアルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The aligner exposes a pattern formed in a negative plate on a substrate, such as a wafer and a plate, while irradiating the negative plate, such as a reticle and a mask via a lighting optical system by exposing light from an exposure light source, including at least respectively one air supply port and one exhaust port in the stage space so as to control air current distribution in the space.
露光光源からの露光光により照明光学系を介してレチクル、マスク等の原板を照明し、前記原板に形成されたパターンをウエハ、プレート等の基板上に露光する露光装置であって、ステージ空間に少なくとも１個づつの給気ポートと排気ポートを備え、その空間内の気流分布を制御する。 - 特許庁 - With respect to concave-convex structures using self-organization, a concave-convex structure having a high light extraction efficiency is provided to allow self-organization pattern of a block copolymer having a high separability, in a shorter heat treatment time than conventional that, and a concave-convex structure having high light extraction efficiency can be formed.
本発明では、自己組織化を利用した凹凸構造において、高い光取り出し効率を有する凹凸構造を備えることにより、分離性の高いブロックコポリマーの自己組織化パターンが従来よりも短い熱処理時間で可能となり、高い光取り出し効率を有する凹凸構造の形成が可能となる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity, without problems such as detachment of a cured resin pattern and deterioration in straight propagation even if fine particles containing silver-tin alloy is used as a main component of a light blocking agent, and a substrate including a light blocking film formed with the photosensitive resin composition.
遮光剤として銀錫合金を主成分とする微粒子を使用しながらも感度が高く、硬化樹脂パターンの剥がれや直進性の低下といった問題が生じない感光性樹脂組成物、及びこの感光性樹脂組成物を用いて形成された遮光膜を有する基材を提供する。 - 特許庁 - The uneven pattern forming device 2 is provided with a thermal head 17 for locally heating a heat-sensitive recording sheet 10, and a fixing device 22 which radiates a near-ultraviolet-ray blue light of 320 to 450 nm at the light emission peak absorbed in a diazonium salt compound contained in the yellow heat-sensitive color developing layer 31 of the heat-sensitive recording sheet 10.
凹凸パターン形成装置２は、感熱記録紙１０を局所的に加熱するサーマルヘッド１７と、感熱記録紙１０のイエロー感熱発色層３１に含有されるジアゾニウム塩化合物が吸収する発光ピークが３２０〜４５０ｎｍの近紫外の青色光を照射する定着器２２とを備える。 - 特許庁 - A marker 1A for measurement includes a base material 11, a retroreflective material 10 that is pasted on the base material 11 and retroreflects radiation light l_e, and a transparent base material 12 on which a pattern having a plurality of openings 14 transmitting the radiation light l_e is printed, and which is pasted on the retroreflective material 10.
計測用マーカ１Ａは、基材１１と、基材１１上に貼り合わされて照射光ｌ_ｅを再帰反射する再帰反射材１０と、照射光ｌ_ｅを透過する複数の開口部１４を有するパターンが印刷され、再帰反射材１０上に貼り合わされる透明基材１２とを有する。 - 特許庁 - The outdoor daylight shielding layer comprises: a base material 232 made of a transparent resin material; and light shielding patterns 236 formed on one side of the base material 232 so as to be mutually separated at a prescribed cycle, and the bias angle α formed between the progressing direction of each light shielding pattern 236 and the long side of the base material 232 is 5 to 80 degrees.
透明樹脂材質からなる基材２３２と、基材２３２の一面に所定の周期で相互に離隔されて形成された遮光パターン２３６とを含み、遮光パターン２３６の進行方向と基材２３２の長辺とがなすバイアス角αが、５度ないし８０度である外光遮蔽層。 - 特許庁 - At that time, in a first lighting mode, a specific light chip 12aB arranged to be aligned of its front end edge on a focusing line FL of the parabolic cylindrical surface, and a pair of specific chips on both right and left sides of the previous chip, are simultaneously lit, so that a landscape light distribution pattern with a narrow width of its upper and bottom parts is formed.
その際、第１の点灯モードでは、上記放物柱面の焦線ＦＬ上に前端縁を揃えるようにして配置された特定発光チップ１２ａＢおよびその左右両側の１対の特定発光チップを同時点灯させ、これにより上下幅が狭い横長の配光パターンを形成する。 - 特許庁 - A visually recognizable image pattern which is suitable for identification and management or the like is formed on an optical recording medium DSC by irradiating the recording layer formed on the optical recording medium DSC with writing light by a pickup 28, so that changes in optical characteristics are generated at the irradiated portion and the non-irradiated portion of the light on the recording layer.
光記録媒体DSCに形成されている記録層にピックアップ２８によって書込み光を照射し、記録層における光の照射部分と非照射部分とで光学特性の変化を生じさせることにより、識別、管理等に適した視認可能なイメージパターンを光記録媒体DSCに形成する。 - 特許庁 - By moving a flat-face reflector 12 by a driving means 19 in a predetermined direction by a predetermined distance, reflective optical paths L1, L2 reflected on the flat-face reflector 12 and headed toward a projection lens 14 are changed so that a light distribution direction of a light distribution pattern projected in front of the lamp from the projection lens 14 is changed.
駆動手段１９により平面リフレクタ１２を所定方向に所定量移動することにより、平面リフレクタ１２で反射されて投影レンズ１４に向かう反射光路Ｌ１，Ｌ２が変化し、投影レンズ１４から灯具前方に投射される配光パターンの配光方向が変化される。 - 特許庁 - To prevent brightness and darkness patterns caused by the pattern section made of wiring and circuit elements provided on the frame region in electrooptical equipment such as a liquid crystal device or the like, from being projected in the vicinity of the frame of a display image and to improve the light shielding performance of the circuit elements provided in the frame region with respect to returned light beams.
液晶装置等の電気光学装置において、額縁領域に設けられた配線や回路素子からなるパターン部に起因した明暗パターンが表示画像の縁付近に映し出されることを防止し、額縁領域に設けられた回路素子における戻り光に対する遮光性能を向上させる。 - 特許庁 - To accurately, efficiently, and inexpensively form a good conductive pattern having excellent adhesibility to a transparent substrate by using ultraviolet curing resin paste at the time of manufacturing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, by forming the conductive pattern by forming a plated layer by electroless plating on a resin pattern formed by printing resin paste containing an electroless plating catalyst on the transparent substrate and curing the paste.
透明基板上に無電解めっき触媒を含む樹脂ペーストをパターン印刷し、これを硬化させて形成された樹脂パターン上に、無電解めっきによりめっき層を形成して導電性パターンを形成することにより電磁波シールド性光透過窓材を製造するに当たり、紫外線硬化性樹脂ペーストを用いて、透明基材への密着性に優れた良好な導電性パターンを精度良く、効率的かつ低コストに形成する。 - 特許庁 - The method for manufacturing an organic EL apparatus comprising a light emitting element having at least a light emitting layer between a pair of electrodes, scanning lines to supply scanning signals, signal lines formed intersecting the scanning lines, and light emitting power supply lines, is characterized in that the light emitting power supply lines are fabricated by depositing a conductive substance on a graft polymer produced in a pattern on a substrate.
一対の電極間に少なくとも発光層を有する発光素子と、走査信号を供給する走査線と、該走査線に対して交差する方向に形成される信号線と、発光用電源配線と、が形成されてなる有機ＥＬ装置の製造方法において、前記発光用電源配線が、基材上にパターン状に生成させたグラフトポリマーに、導電性物質を付着させることにより形成されることを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。 - 特許庁 - The photomask is used to manufacture a fine hemispherical structure, such as a microlens, where a gradation pattern 1A, gradually varying in intensity of exposure light from the center part to the peripheral part according to the spherical shape of the hemispherical structure, is formed on a transparent substrate 10 by pattern drawing by means of a drawing device.
マイクロレンズ等の微小な半球状構造体の製造に用いられるフォトマスクにおいて、透明基板１０上に、前記半球状構造体の球面形状に対応させて、露光した光の強度が中心部から周辺部に向けて徐々に変化するような階調パターン１Ａを、描画装置によるパターン描画によって形成する。 - 特許庁 - The gravure plate is manufactured in processes of: exposing a film resist to laser light in accordance with a figure pattern; uniformly exposing the entire film resist with the exposed pattern; transferring the film resist after uniform exposure onto a cylinder; and developing, drying and etching the transferred film resist.
ａ）フィルムレジストにレーザー光を用いた露光を行い、絵柄を焼き付ける工程と、ｂ）前記絵柄を焼き付けたフィルムレジスト全面に均一な露光を行う工程と、ｃ）前記均一露光後のフィルムレジストをシリンダーに転写する工程と、ｄ）前記転写されたフィルムレジストを現像、乾燥、腐食する工程を含むグラビア版の製造方法を提供する。 - 特許庁 - By using a photomask or a reticle provided with an auxiliary pattern made of a diffraction grating pattern or a semi-permeable membrane and having a function of light intensity reduction, a partition wall having portions with different film thickness is formed on a pixel electrode (also called first electrode) in a display region and around a pixel electrode layer without any increase of processes.
回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極（第１の電極とも呼ぶ）上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a light-emitting device, which can not only improve use efficiency of an evaporation material but also increase accuracy in forming an evaporated pattern by using an evaporation donor substrate by which a material layer to be transfer layer is prevented from being excessively evaporated and a desired evaporated pattern can be formed.
転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができる蒸着用基板を用いることにより、蒸着材料の利用効率を高めるだけでなく、蒸着パターンを形成する上での精度を高めることができる発光装置の作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method for a two-layer photoresist in which the bottom of a groove is made stably flat and the groove has no variation in depth with respect to a pattern forming method for a two-layer photoresist obtained by laminating a first positive type photoresist, a middle layer which is transparent to the wavelength of a light source for exposure and a second positive type photoresist in order on a substrate.
基盤上に第１のポジ型のフォトレジスト、露光光源の波長に対し透明な中間層、第２のポジ型のフォトレジストの順に積層されている２層フォトレジストのパターン形成方法について、グルーブの底が安定して平らになり、グルーブの深さの変動がない２層フォトレジストのパターン形成方法を工夫すること。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using an electron beam, X-ray or EUV light and simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness, high contrast, prevention of conversion to a negative resist composition, and surface roughness, and to provide a pattern forming method using the same.
電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、高コントラスト、ネガ化防止、表面ラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The auxiliary light projecting device has a diffraction board for forming the pattern for focus detection, a laser beam source for illuminating the diffraction board, and a lens information obtaining means for obtaining the focal distance information of the photographic lens 1 attached to a camera, and the pattern for focus detection projected to the subject is switched based on the focal distance information.
焦点検出用パターンを形成する回折板と、前記回折板を照明するレーザ光源と、カメラに装着された撮影レンズの焦点距離情報を入手するレンズ情報入手手段とを有し、前記焦点距離情報に基づき、被写体に投影する前記焦点検出用パターンを切替可能である補助光投影装置。 - 特許庁 - The forming method of a resist pattern is employed, which comprises the processes of forming a resist film 2 containing silicon on a workpiece substrate 1, forming a protective film 3 on the resist film 2 for suppressing release of silicon from the resist film 2, and forming a latent image of a predetermined resist pattern by irradiating the resist film 2 with exposing light 5 via the protective film 3.
被加工基板１上にシリコンを含むレジスト膜２を形成する工程と、レジスト膜２の上にレジスト膜２からのシリコンの放出を抑制する保護膜３を形成する工程と、保護膜３を介してレジスト膜２に露光光５を照射し所定のレジストパターン潜像を形成する工程とを有するレジストパターン形成方法を用いる。 - 特許庁 - An exposure control unit 207 comprises a pattern storage memory 208 having stored therein a plurality of screen patterns in advance, a pattern generation circuit 209 that generates image patterns for density correction in accordance with the screen patterns, and a pulse width modulation (PWM) unit 210 that forms a latent image by exposing the photoreceptor drum to light in accordance with the image patterns for density correction.
露光制御部２０７は、予め複数のスクリーンパターンが保存されたパターン保存メモリ２０８と、複数のスクリーンパターンに応じて濃度補正用画像パターンを生成するパターン生成回路２０９と、濃度補正用画像パターンに応じて感光体ドラムを露光して潜像を形成するＰＷＭ変調部２１０とを有している。 - 特許庁 - The manufacturing device 1 for the electronic circuit board includes a laser 3 configured to form a predetermined hydrophilic pattern on a water-repellent surface of a substrate B having the water-repellent surface by irradiating the substrate B with light or an electron beam, and an ink head 2 having a print head 21 for discharging ink containing a conductive component onto the pattern.
電子回路基板の製造装置１は、撥水性の表面を有する基板Ｂに光または電子線を照射することにより前記基板Ｂの表面に親水性を有する所定パターンを形成するレーザー３と、前記パターン上に導電性成分を含むインクを吐出するプリントヘッド２１を有するインクヘッド２と、を備えている。 - 特許庁 - By using a photomask or a reticle provided with an auxiliary pattern made of a diffraction grating pattern or a semi-permeable membrane and having a function of light intensity reduction, a barrier rib having portions with different film thicknesses is formed on a pixel electrode (also called first electrode) in a display region and around a pixel electrode layer without any increase of steps.
回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極（第１の電極とも呼ぶ）上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can simultaneously satisfy the requirements for high sensitivity, high resolution, desirable pattern configuration, desirable line edge roughness and desirable iso/dense bias in especially lithography using an electron beam, X-rays or EUV light as an exposure radiation source, and to provide a method of forming a pattern using the composition.
特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - In the color image forming apparatus, a toner images 31 for patterns for determination of respective colors has a constitution in which a plurality of narrow width pattern toner images 35 are arranged along a moving direction D1 of a transfer belt at smaller intervals than a diameter of a spot SP of light applied by an optical sensor, the narrow width pattern toner images 35 having a smaller dimension in the moving direction D1 than the diameter of the spot SP.
カラー画像形成装置において、各色の判定用パターンのトナー画像３１は光センサから照射された光のスポットＳＰの径よりも転写ベルトの動く方向Ｄ１の寸法が小さい複数の細幅パターンのトナー画像３５を、スポットＳＰの径よりも小さい間隔で転写ベルトの動く方向Ｄ１に沿って並べた構成を有する。 - 特許庁 - To provide a resist material such as a chemically amplified resist material for providing an excellent pattern profile even at a substrate interface, in addition to a higher resolution in photolithography for micro-fabrication, and particularly in photolithography adopting, as an exposure source, KrF laser, ArF laser, F_2 laser, ultra-short ultraviolet light, electron beam, X-rays, or the like; and a pattern forming method utilizing the resist material.
微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ_２レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性と共に、基板界面においても良好なパターン形状を与える化学増幅レジスト材料等のレジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - An illumination device is formed by mounting a light source on the upper face of a substrate and coveredly installing a pattern plate having a translucent part for showing a pattern comprising characters and figures in the upper part of the substrate, and the illumination device is stored in an illumination device storage recess part formed in a part of a mat body.
本発明では、基板の上面に光源を実装するとともに、前記基板の上方に文字や図形からなる模様を表出させるための透光部を有する模様板を覆設することによって電飾装置を形成し、この電飾装置をマット本体の一部に形成した電飾装置収容凹部に収容することにした。 - 特許庁 - The printer capable of recording a two-dimensional image on a recording material comprises a pattern generating means generating at least a test pattern for measuring the sharpness, a density measuring means consisting of a light source for illuminating a recording image being outputted and a photosensor, and a means for outputting the measurements from the measuring means.
記録材料上に２次元画像を記録可能に構成されたプリンタであって、少なくとも鮮鋭度測定用のテストパターンを発生させるパターン発生手段と、出力される記録画像を照明する照明光源と光センサからなる濃度測定手段と、この測定手段による測定結果の出力手段とを備えることを特徴とするプリンタ。 - 特許庁 - A light-shielding adhesive part 30 having a continuous plane pattern corresponding to a plane pattern of a partition 25 and bonded to an element substrate 11 (the partition 25) and a counter substrate 12 to bond the element substrate 11 and the counter substrate 12, is provided on the partition 25 between adjacent pixels PIX disposed in a pixel array 111.
画素アレイ１１１に配列された隣接する画素ＰＩＸ間の隔壁２５上に、隔壁２５の平面パターンに対応した連続する平面パターンを有し、素子基板１１側（隔壁２５）と対向基板１２側の双方に接着されて素子基板１１と対向基板１２とを接着する遮光性接着部３０が設けられている。 - 特許庁 - In the image formation device for writing an image to an image carrier according to output data by irradiating laser beams emitted from two light sources onto the image carrier, the sensor pattern for processing is recorded by either of a first laser beam and a second laser beam or by alternately using the first laser beam and the second laser beam for every formation of the sensor pattern for processing.
２つの光源から出射したレーザビームを像担持体に照射して出力データに応じて像担持体に画像を書き込む画像形成装置において、プロセス用センサパターンを第１レーザビーム若しくは第２レーザビームの一方で記録するか、あるいはプロセス用センサパターン形成毎に第１レーザビームと第２レーザビームを交互に使用して記録する。 - 特許庁 - The sound/lamp control part 80, on receiving the command, makes a plurality of LEDs disposed in an upper LED board 110a, a center LED board 110b and a lower LED board 110c set on the front face of a casing of the game machine emit light in lighting patterns based on lighting pattern data stored in a lighting pattern memory 81.
このコマンドを受信すると、音・ランプ制御部８０は、遊技機の筐体前面に設置された上部ＬＥＤ基板１１０ａ，中部ＬＥＤ基板１１０ｂ，下部ＬＥＤ基板１１０ｃにそれぞれ設けられている複数のＬＥＤを、点灯パターンメモリ８１に記憶されている点灯パターンデータに基づく点灯パターンで発光させる。 - 特許庁
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