「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 117 118 119 120 121 122 123 124 125 .... 141 142 次へ＞- To provide a composition capable of forming a blue pattern with high spectral transmittance or brightness by using a dye free from light scattering as a coloring agent and preventing yellow discoloration resulting from the curing of a photopolymerizable monomer.
着色剤として光散乱のない染料を使用すると共に、光重合性モノマーの硬化に起因する黄変を防いで、分光透過率すなわち明度の高い青色パターンを形成することのできる組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition capable of forming a resist pattern with adequate sensitivity and resolution in exposure to light of 400-440 nm wavelength, and a photosensitive element and a method of manufacturing a printed wiring board using the same.
波長４００〜４４０ｎｍの露光において、十分な感度及び解像度でレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To develop a means for partly effectively purging an ultraviolet optical path in an aligner, for emitting a photosensitive substrate with a pattern of a mask via a projection optical system by using ultraviolet rays as the exposure light with an inert gas in the apparatus.
露光光として紫外光を用い、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、装置内の紫外光路を不活性ガスで部分的に有効にパージする手段を開発する。 - 特許庁 - Then, a latent image 110 is formed at the photopolymer film 107 on the metal wiring 106 by the exposure of ultraviolet ray 109 by use of a photomask 108 having a pattern, the width of which is narrower than that of the metal wiring 106 and which penetrates through light.
次に、金属配線１０６よりも幅が狭く、光を透過するパターンを有するフォトマスク１０８を用い、紫外線１０９を露光し、金属配線１０６上の感光性樹脂膜１０７に潜像１１０を形成する。 - 特許庁 - The polarizing latent image with a highly dense, complicated and continuous gradation difficult to be prepared by a prior art is prepared since the retardation is controlled by an irradiation amount of the light irradiation for printing the pattern.
レタデーションは、パターンを焼き付けるための光照射の照射量によって制御できることから、従来の技術では作製が困難な、高精細で複雑な連続階調の偏光性の潜像を作製することができる。 - 特許庁 - To provide a doubled and twisted yarn for forming a carpet that has both aesthetic appearance of the pencil point-like pattern and high cushioning properties with soft feeling and compression recovery, light resistance, antifouling properties, and provide the carpet by using the doubled and twisted yarn.
ペンシルポイント調の美的外観と高いクッション性を兼ね備え、ソフトな風合いでかつ圧縮回復性、耐光性、防汚性に優れたカーペットを得ることができるカーペット用合撚糸、およびこれを用いたカーペットを提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure device inspection method and an exposure device, capable of obtaining a highly accurate inspection result by forming a highly accurate transfer pattern and by acquiring diffraction light detection data, when inspecting the exposure device using a photo mask.
フォトマスクを用いて露光装置の検査を行う際に、高精度な転写パターンを形成し、回折光検出データを取得し、高精度の検査結果を得ることが可能な露光装置の検査方法、及び露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an electromagnetic wave shielding light transmission window material and its manufacturing method, wherein a fine conductive pattern adhered firmly to a substrate can be formed on a transparent substrate composed of a synthetic resin such as PET or the like.
ＰＥＴなどの合成樹脂よりなる透明基材上にも、微細でしかもしっかりと該基材に付着した導電性パターンを形成することができる電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The LED backlight 10 can control the lighting of an LED for each horizontal unit, and lights and drives the LED based on a control signal of the lighting pattern output from the light source emission control part 13.
ＬＥＤバックライト１０は、水平方向のユニットごとにＬＥＤの点灯制御を行うことができ、光源発光制御部１３から出力された点灯パターンの制御信号に基づいて、ＬＥＤを点灯駆動させる。 - 特許庁 - This display device includes a light display 103 displaying a state where electric power consumption of electric power load is larger than rated electric power generation amount of a cogeneration device 201 during power generating operation of a cogeneration system 200 in a first display pattern.
熱電併給装置２００の発電運転中において電力負荷の消費電力が熱電併給機２０１の定格発電量よりも多い場合、その旨を第１の表示パターンで表示する光表示器１０３を有する。 - 特許庁 - A resist film 302 formed from a resist containing a butane-1,4-sultam being a heterocyclic sulfone is formed on a substrate 301, and then the resist film 302 is subjected to pattern exposure by selectively irradiating the resist film 302 with exposure light 303.
基板３０１の上に、ヘテロ環式スルホンであるブタン-1,4-スルタムを含むレジストからなるレジスト膜３０２を形成し、続いて、レジスト膜３０２に対して露光光３０３を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor light emitting device that can suitably pattern a semiconductor film by forming a mask having sufficient resistance to wet etching carried out when the semiconductor film is patterned.
半導体膜をパターニングする際に行われるウェットエッチングに対して十分な耐性を有するマスクを形成することにより、半導体膜のパターニングを適切に行うことができる半導体発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A pattern forming method of the present invention includes (A) forming a film with a resist composition; (B) exposing the film to light; and (C) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent.
本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。 - 特許庁 - The first resist pattern 4 where the crosslinking agent permeates is irradiated with UV light to generate an acid, and is heated to react the resin component with the crosslinking agent so as to form a cured layer 9 in at least the surface layer portion 7.
次に、架橋剤が浸透した第１のレジストパターン４に紫外光を照射して酸を発生させ、加熱して、樹脂成分と架橋剤とを反応させ、少なくともその表層部７に、硬化層９を形成する。 - 特許庁 - A shade driving part 29 is structured to move a plurality of shades 12a to 12c independently between a progressing position of a focal plane of a projection lens or in its vicinity and a retracting position not giving an effect to a light distribution pattern.
シェード駆動部２９は、複数のシェード１２ａ〜１２ｃをそれぞれ独立に、投影レンズの焦点面またはその近傍である進出位置と配光パターンに影響を与えない後退位置との間で移動するように構成される。 - 特許庁 - To provide a contact exposure method and an apparatus for obtaining a uniform exposure pattern with less unevenness by imparting simple alteration even when a conventional contact exposure apparatus using a light source having variance in luminance energy or irradiation direction.
露光量バラツキや照射方向のバラツキのある光源を使用した従来のコンタクト露光装置場合でも、簡単な改造を施すだけで、ムラの少ない一様な露光パターンが得られるコンタクト露光方法及び装置の実現。 - 特許庁 - The photomask may also be formed by forming a transparent film permitting the transmission of the UV rays on the light shielding film pattern surface side, then superpositing the transparent film permitting the transmission of the UV rays thereon and bonding together the transparent film and the transparent substrate by discharging and removing the air therebetween.
遮光膜パタ−ン面側に紫外線を透過する透明膜を形成し、次に紫外線を透過する透明基板を重ね合わせ、透明膜と透明基板との間の空気を排気除去して貼り合わせてもよい。 - 特許庁 - To provide a deposition method for smoothly providing desired pattern shapes of material layers while improving throughput when a plurality of different material layers are laminated on a substrate, and also to provide a manufacturing method of a light-emitting device.
基板上に異なる複数の材料層を積層する際、スループットを向上しつつ、円滑に材料層の所望のパターン形状を得る成膜方法および発光装置の作製方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a photopolymerizable composition which is cured with high sensitivity by light exposure, has excellent in-film curability and adhesion to a support, has a good pattern shape and can form a patterning cured film with less residues after development.
露光に対し光感度で硬化し、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、パターン形状が良好であり、且つ、現像後に残渣が少ないパターニング硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a mask or the like capable of depositing a light emitting layer with high accuracy by keeping a prescribed distance between a substrate and a mask plate, bringing the mask plate into contact with the substrate with good accuracy, and reducing the positional shift of a mask pattern at use.
基材とマスク板との距離を一定にし、基材とマスク板とを精度良く接合し、更に使用時のマスクパターンの位置ずれを少なくして、発光層を精度良く蒸着させることができるマスク等を提供する。 - 特許庁 - To provide an image reading device and an image reading method capable of properly reading the image pattern of a subject while inhibiting the generation of problems in the image reading operation caused by the environment light in an optical image reading device.
光学式の画像読取装置において、環境光に起因する画像読取動作の不具合の発生を抑制して、被写体の画像パターンを良好に読み取ることができる画像読取装置及び画像読取方法を提供する。 - 特許庁 - Even in the case where a liquid crystal shutter 7 having a low response of speed is used, when the light modulation pattern is changed in the wait time period of the liquid crystal shutter, it is possible to retain the high exposure speed.
また、例えば応答速度の遅い液晶シャッタ７を用いる場合であっても、当該液晶シャッタが待ち時間内に光変調パターンを変更することができるのであれば、高い露光速度を確保することができる。 - 特許庁 - To provide an image special effect device attaining a lighting effect corresponding to various image special effects even when a light effect pattern is not predetermined and the shape of an effect surface quickly changes.
照明効果のパターンがあらかじめ定められておらず、かつ効果面の形状が素早く変化するような場合であっても、様々な画像特殊効果に対応する照明効果を実現できる画像特殊効果装置を提供する。 - 特許庁 - A convex section 37 is formed on one surface 3a of the mount substrate 3, thus setting a wiring pattern 36 formed on the surface of the convex section 37 as a junction section for pressurization-jointing the light-emitting element 4A for the photoelectric converter 1B.
この光電気変換装置１Ｂに対して、マウント基板３の一方面３ａに凸部３７を形成し、この凸部３７の表面に配線パターン３６を形成したものを発光素子４Ａを加圧接合するための接合部とする。 - 特許庁 - The illuminance of each LED light emitting element 3, etc., arrayed on the front of a substrate 2 of a display element 4 is discretely subjected to an illuminance change along the illuminance pattern stored in a memory section 9a of a controller 9 constituting the stereoscopic display device 1.
立体表示装置１を構成する制御装置９の記憶部９ａに記憶された照度パターンに沿って、表示部４の基板２前面に配列した各ＬＥＤ発光素子３…の照度を個別に照度変化させる。 - 特許庁 - Here, the coma remaining in the reflection projection optical system is minimized with height H of the absorber pattern 10 being N.λ/2 (where the wavelength of exposure light is λ while N is natural number).
このとき、露光照明光の波長をλとし、Ｎを自然数としたときに、吸収体パターン１０の高さＨをＮ・λ／２とすることにより、反射投影光学系に残存するコマ収差を最小にすることができる。 - 特許庁 - Therefore, the intensity center of the far field pattern in the horizontal direction does not vary with the optical output variation and the laser beam which is stable in shape can be obtained by absorption of light distributed outside the groove 15 by the semiconductor.
そのため、溝部１５より外側に分布する光の半導体による吸収により、光出力変化に伴う水平方向の遠視野像の強度中心が変動せず、且つ形状が安定したレーザ光を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a device for purging an ultraviolet ray path in an aligner partially effectively by inert gas in the aligner that applies a mask pattern to a photosensitive substrate via a projection optical system by using ultraviolet rays as exposure light.
露光光として紫外光を用い、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、露光装置内の紫外光路を不活性ガスで部分的に有効にパージする装置を開発する。 - 特許庁 - To provide an optical disk recording/reproducing device which sets a standard waveform of a laser beam for each recording pattern, and calculates a correction value which corrects a gap between the emitted light waveform detected by a front monitor and the standard waveform.
各記録パターンに対してレーザ光の基準波形を設け、フロントモニタの検出による発光波形と前記基準波形とのズレを補正する補正値の算出を行うことができる光ディスク記録再生装置を提供する。 - 特許庁 - When phase-modulating reference light, a specific pixel array pattern formed of two or more pixels by the number of horizontal pixels M×the number of vertical pixels N (M, N are natural numbers≥1, M≠N) is used as a random phase unit.
参照光を位相変調するのにあたり、水平画素数Ｍ×垂直画素数Ｎ（Ｍ，Ｎは１以上の自然数、Ｍ≠Ｎ）による２以上の画素により形成される特定の画素配列パターンをランダム位相単位とする。 - 特許庁 - An acid is generated in the first resist frame 6 by heat or light irradiation, and a crosslinking layer formed between the first resist frame 6 and the minute pattern formation material 8 covers the first resist frame 6.
加熱または光照射により第１のレジストフレーム６中に酸を発生させ、第１のレジストフレーム６と微細パターン形成材料８との界面に生じた架橋層で第１のレジストフレーム６を被覆するように構成する。 - 特許庁 - A reference lighting time specifying section 104 specifies the reference lighting time of each block from the dark potential distribution and a medium sensitivity distribution of a photoreceptor drum, a light amount distribution relative to the main scanning direction of a laser beam and the output dither pattern.
基準点灯時間特定部１０４は、感光体ドラムの暗電位分布、及び中間感度分布、レーザービームの主走査方向に対する光量分布、並びに出力ディザパターンから各ブロックの基準点灯時間を特定する。 - 特許庁 - To provide an image processing system which prevents occurrence of wood pattern-like noise, can perform an image processing by an error diffusion method with comparatively high image quality and can speedily perform printing without performing costly light quantity adjustment.
木目調のノイズの発生を防止し、比較的に高い画質で誤差拡散法による画像処理を行うことができ、コストがかかる光量調整を行わずに速やかに印字を実行可能にできる画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - This resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 excimer laser light 13 having 157 nm wavelength through a mask 12 and the patternwise exposed resist film 11 is developed with a developing solution to form the objective resist pattern 14.
レジスト膜１１に対してマスク１２を介して、１５７ｎｍ帯の波長を持つＦ_2 エキシマレーザ１３を照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像液により現像してレジストパターン１４を形成する - 特許庁 - This resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 excimer laser light 13 having 157 nm wavelength through a mask 12 and the patternwise exposed resist film 11 is developed with a developing solution to form the objective resist pattern 14.
レジスト膜１１に対してマスク１２を介して、１５７ｎｍ帯の波長を持つＦ_2 エキシマレーザ１３を照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像液により現像してレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁 - To provide a method and a device for detecting an elbow point of a light distribution pattern, which is simplified in processing so as to quickly detect the elbow point, thereby facilitating an optical axis inspection and an optical axis adjustment of a headlamp.
処理を簡略化して迅速にエルボ点を検出することができ、ヘッドランプにおける光軸検査や光軸調整を容易に行うことを可能にした配光パターンのエルボ点検出方法および検出装置を提供する。 - 特許庁 - A control unit of the hub grasps the positions of the plurality of nodes as destinations of light transmission, recognizes a communication speed required for communication from each of the nodes, and instructs an SLM unit 13 to output an optical pattern indicating a two-dimensional strength distribution.
ハブの制御部は、光の送出先である複数のノードの位置を把握するとともに各ノードからの通信により必要な通信速度を認識し、２次元的な強度分布を表す光パターンをＳＬＭユニット１３に指示する。 - 特許庁 - It is considered that such a photosensitive composition imparts a filler effect and light transmission effects of the acrylic resin fine particles and has adequacy for suppressing formation of a T-shaped top, imparting a proper pattern shape and suppressing surface wrinkles, at a proper balance.
このような感光性組成物では、アクリル樹脂微粒子のフィラー効果と光透過効果が得られると考えられ、Ｔ−Ｔｏｐ形状抑制性、パターン形状及び表面シワ抑制についてバランス良く適性を備える。 - 特許庁 - To prevent a read image from being deteriorated owing to a lens characteristic by forming a printed pattern so as to negate the characteristic of a lens used in at least a reduction optical reading system on a diffusion plate arranged in front of a plurality of light emitting elements.
複数の発光素子の前方に配置される拡散板に、少なくとも縮小光学読取系に用いられるレンズの特性を打ち消すように印刷パターンを形成することで、レンズ特性による読取画像の劣化を防止する。 - 特許庁 - At least when the ignition switch 304 is in an off state, the irradiation control unit 228 moves the variable shade to have a posture of forming the light distribution pattern corresponding to the operating state of the dimmer switch 306 and lights on the bulb 14.
照射制御部２２８は、少なくともイグニッションスイッチ３０４がオフ状態の場合、ディマースイッチ３０６の動作状態に対応した配光パターンの形成姿勢に可変シェードを移行させると共にバルブ１４を点灯する。 - 特許庁 - In the medium 1 for determining authenticity, an alignment layer 3 and a light selection reflecting pattern layer 4 are sequentially layered on one surface of a base material 2, and a reflection type hologram comprising a hologram formation layer 5 and a reflective layer 6 is layered on the other surface.
基材２の片面に配向膜３、光選択反射パターン層４が順に積層され、他の面にホログラム形成層５および反射性層６からなる反射型ホログラムを積層して真偽判定用媒体１とする。 - 特許庁 - To provide a mask blank housing case that has both of visibility for checking inside the case and light shielding property suitable for a mask blank having a resist film formed thereon and can maintain stable resist performance for forming a desired mask pattern.
ケース内部が確認できる視認性と、特にレジスト膜を形成したマスクブランクに好適な遮光性とを兼ね備え、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できるマスクブランク収納ケースを提供する。 - 特許庁 - The pattern of a core layer is formed which has a dielectric constant being higher than that of a low dielectric constant layer, which is rectangular in cross section and where a light is propagated, in the low dielectric constant layer with ≤2.07 dielectric constant, and the floating capacity can be reduced.
比誘電率が２．０７以下の低比誘電率層の中にその低比誘電率層よりも比誘電率が高く、断面が矩形状で、光が伝搬するコア層のパターンが形成されており、浮遊容量を小さくできる。 - 特許庁 - To provide a black alkali-developable photosensitive resin composition which avoids degradation in pattern configuration and achieves higher definition, while improving the light blocking effect of a black matrix, and to provided a color filter using the same and a liquid crystal display.
ブラックマトリクスの遮光性を向上させながらも、パターン形状の悪化がなく高精細化が可能な黒色アルカリ現像型感光性樹脂組成物と、それを用いたカラーフィルタ及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - In processing for obtaining light quantity correction information, first density variation measuring patterns (MP1 to MP4) are created in synchronization with a drum home position sensor, and a first correction reference pattern is generated on the basis of an output signal of a density detector.
光量補正情報取得処理では、ドラムホームポジションセンサに同期して第１濃度変動測定用パターン（ＭＰ１〜ＭＰ４）が作成され、濃度検出器の出力信号に基づいて、補正用第１基準パターンが生成される。 - 特許庁 - In particular, when the method is applied for forming a pattern in a chemically amplified resist having a fluorocarbon resin suitable for an F2 laser as the exposure light source, the method is effective to improve dimensional uniformity and to improve the resist profile.
特に本発明は、前記露光光源がＦ２レーザを用いた際に好適なフッ素樹脂を成分とする化学増幅型レジストのパターン形成方法に適用すると寸法均一性改善とレジスト形状改善に対して有効である。 - 特許庁 - To provide a design pattern capable of evaluating depending on the design conditions at a level requiring phase shift mask and a light proximity effect in manufacture a circuit of a wafer following the advanced microminiaturization of circuit wirings.
回路配線の微細化が進み、ウエハの回路作製に光近接効果と同補正を必要とし、位相シフトマスクの使用を必要とするレベルにおいて、設計条件に対応し且つ実用レベルで評価できるテスト設計パタンを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a negative type pattern which is transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light, does not swell while having such a chemical structure as to ensure high dry etching resistance and has superior resolution.
ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmを含む遠紫外線領域で透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an organic antireflection forming material that is deposited in the same process as the conventional art, effectively prevents reflection of exposure light with an antireflective coating, has high dry etching speed, and is useful for forming a fine pattern.
従来と同じプロセスで成膜可能で、その反射防止膜は効果的に露光光の反射を防止し、更に、高いドライエッチング速度を兼ね備え、微細パターン形成に有用である有機反射防止形成材料を提供する。 - 特許庁 - By arranging prisms 2 in a Fresnel pattern, that is, in arcs, the screen does not reflect external light OL from above and can form an image with high contrast even when used in a bright room or the like.
また、各プリズム２をフレネル状の配列即ち円弧状に並列した配列とすることで、上方からの外光ＯＬを反射させず、明るい部屋等での使用においても、コントラストの高い画像を形成することも可能となっている。 - 特許庁
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