「light pattern」を含む例文一覧(7056)
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飛行中の液滴にレーザ光を照射して該液滴を乾燥させて描画対象物に着弾させた場合に、液滴の濡れ広がりを抑制するパターン形成方法、パターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - A print accepting layer is formed as the outermost layer forming face on the opposite side of the medium to the face where light enters, and the decorative pattern is formed by recesses and projections on the surface of the print accepting layer.
光入射面の反対面における最外層形成面として印刷受容層を有し、印刷受容層表面に凹凸によって模様が形成されていることを特徴とする光記録媒体。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition for a color filter forming a pattern free of chipping and peeling and capable of preventing the occurrence of residue and surface stains on a substrate in unexposed regions and on a light shielding layer.
パターンに欠けおよび剥がれを生じることがなく、未露光部の基板上および遮光層上に残渣および地汚れが発生するのを防止しうるカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To construct a road surface expressing various designs of patterns and a color and a light and shade gradation by selection of irreguralities pattern forms and selection of ground colorant, colorant, form coating material, surface protection agent, and discoloration accelerator.
凹凸模様型の選択及び地色剤、着色及び型剥離剤、表面保護及び変色促進剤の選定により各種模様パターン並びに色彩、濃淡グラデーションを表現した路面を施工することができる。 - 特許庁 - In an electronic paper 10 as the medium main body, a visible image is written, by having the electronic paper irradiated with a writing pattern light, in a state in which voltage is applied between a pair of electrodes and the visible image can be rewritten.
媒体本体としての電子ペーパ１０は、一対の電極間に電圧を印加した状態で書込みパターン光を照射することにより可視可能な画像が書き込まれると共に、書き換えが可能である。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which can form high-quality pixels free of unevenness due to water (spotted color unevenness occurring on a pixel pattern after development and cleaning) even with a small amount of light exposure.
低露光量であっても水ムラ（現像・水洗後に画素パターン上に発生するシミ状の色ムラ）のない高品質な画素を形成することができる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a semiconductor device, which can easily solve a problem that an exposed pattern is shifted by the warp caused when light shielding film is formed on the surface of a substrate of a mask for exposure for manufacturing a semiconductor device.
半導体装置製造用露光用マスクの基板面に遮光膜を形成する場合に生ずる反りによる露光のパターンずれの問題を容易に解決した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a transparent sticker which is superior in light blocking property and transparency, on which a desired pattern, characters, etc., can easily be printed by using a store-bought device, and are hardly damaged or illegible.
遮光性および透視性に優れ、市販の装置を用いて所望の図柄や文字等を容易に印刷することができ、図柄や文字等が欠けたり判読不能になったりしにくい構成の透視性ステッカーを提供する。 - 特許庁 - To provide an optical film superior in forming a pattern of a plurality of color tones, to provide a manufacturing method of the optical film capable of cost reduction in a short process, to provide a color conversion filter using the optical film, and to provide a multi-color light-emitting device.
複数の色調のパターンの形成に優れた光学フィルム、短工程でコスト削減が可能な光学フィルムの製造方法、および該光学フィルムを用いた色変換フィルタおよび多色発光デバイスの提供。 - 特許庁 - To enhance visibility of a front area of a vehicle, without imparting glares on a driver of an oncoming vehicle or a leading vehicle, in a lighting tool for a vehicle so structured to form an additional high-beam light distribution pattern.
ハイビーム用の付加配光パターンを形成するように構成された車両用照明灯具において、対向車や先行車のドライバにグレアを与えてしまうことなく車両前方領域の視認性を高める。 - 特許庁 - A laser lithographic device 13, which irradiates a laser beam emitted from a laser light source 1, to draw a prescribed pattern is provided with a separating optical mechanism 2 for separating the laser beam, emitted from the laser light source, into a plurality separated beams and radiation position adjustment mechanisms 8 which are provided for the separated beams respectively and irradiate the separated beams, while changing their irradiation directions to draw the prescribed pattern.
レーザー光源１から発したレーザービームを照射して所定のパターンを描写するレーザー光による描写装置１３において、前記レーザー光源１から発したレーザービームを分離させて複数の分離ビームとする分散光学機構２と、前記各分離ビームごとに設けられ、各分離ビームの照射方向を変えて照射することにより前記所定のパターンを描写する照射位置調整機構８とを備えている。 - 特許庁 - This aligner has a light source 1, an illumination optical system 6 for illuminating a pattern drawn on a mask 5 by a light source light, and a projection optical system 11 for projecting the illuminated pattern to a substrate 13.
光源１と、マスク５に描かれたパターンを光源光で照明する照明光学系６と、照明されたパターンを基板１３に投影する投影光学系１１を有する露光装置であって、光源１から基板１３までの全体または一部を外気から遮蔽する容器７、１４、１７と、容器に接続された不活性ガスの供給ラインおよび排出ラインと、容器上若しくは容器と圧力的に等価な位置および／または供給若しくは排出ライン上若しくは供給若しくは排出ラインと圧力的に等価な位置に圧力調整手段２１〜２３を具備する。 - 特許庁 - Two or more layers of amplitude type CGHs (9) in which transmissivity of light is varied in a pattern shape are stacked in the glass material of the glass bottle 20 by using a femtosecond laser of ultra short pulses to increase differences in the transmissivity of light of the CGHs (9), and a diffraction image of high contract can be formed.
光の透過率がパターン状に変化する振幅型ＣＧＨ（９）を、超短パルスのフェムト秒レーザーを用いてガラス瓶２０のガラス材料の内部に複数層積層して形成することにより、ＣＧＨ（９）における光の透過率の違いを高めて、高いコントラストの回折像を生成可能とする。 - 特許庁 - A reticle R is irradiated with an exposing light IL from an exposing light source 1 through an illumination optical system ILS comprising a first fly eye lens 6, a second fly eye lens 9, lens systems 12, 13 blinds 14A, 14B, and condenser lens systems 17, 18 and the pattern image of the reticle R is projected onto a wafer W through a projection optical system PL.
露光光源１からの露光光ＩＬを、第１フライアイレンズ６、第２フライアイレンズ９、レンズ系１２，１３、ブラインド１４Ａ，１４Ｂ、及びコンデンサレンズ系１７，１８等よりなる照明光学系ＩＬＳを介してレチクルＲに照射し、レチクルＲのパターンの像を投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に投影する。 - 特許庁 - The EUV aligner comprises a first reflection optical system including illumination system mirrors 106-109 for guiding EUV light to a reticle 111, and a second reflection optical system including projection system mirrors 121-124 for guiding reflected light from the reticle 111 to a wafer 131, and transfers a pattern on the reticle 111 to the wafer 131.
ＥＵＶ露光装置は、ＥＵＶ光をレチクル１１１へ導く照明系ミラー１０６〜１０９を含む第１反射光学系と、該レチクル１１１からの反射光をウエハ１３１に導くための投影系ミラー１２１〜１２４を含む第２反射光学系を有し、レチクル１１１上のパターンをウエハ１２１に転写する。 - 特許庁 - Based on the results obtained by driving the light source of the reader by a plurality of different driving electric currents and by detecting the amounts of reflected light on respective electric current values respectively in a test pattern for calibration printed on a medium and the blank region of the medium, a correction factor for correcting the detection by the reader is obtained.
メディアにプリントされたキャリブレーション用のテストパターンとメディアのブランク領域のそれぞれにおいて、読取器の光源を複数の異なる駆動電流により駆動して電流値毎に反射光量を検出した結果に基づいて、前記読取器による検出を補正するための補正係数を求める。 - 特許庁 - The numerical aperture of the illumination optical system 2 is variable in a range necessary to adjust a parallel degree of the illumination light from the light source in an exposure machine carrying out the proximity exposure; and the front focal plane of the objective lens system 4 is moved from the pattern surface of the photomask 3 within a distance corresponding to the proximity gap in the exposure machine.
照明光学系２の開口数はプロキシミティ露光を行う露光機における光源からの照明光の平行度調整に必要とされる範囲において設定可能で、対物レンズ系４は、前側焦点面がフォトマスク３のパターン面から露光機におけるプロキシミティギャップに対応する距離だけ移動可能である。 - 特許庁 - The distributed density mask comprises a plurality of masks formed for separate exposure regions, the exposure region of each of the masks has a light shielding pattern with a two-dimensional light intensity distribution formed on the transparent substrate and each of the exposure regions is divided by unit cells of appropriate shape and size without leaving a gap.
この濃度分布マスクは異なる露光領域ごとに作成された複数枚のマスクにより構成され、各マスクの露光領域は透明基板上に２次元の光強度分布を有する遮光パターンが形成されたものであり、各露光領域は適当な形状及び大きさの単位セルにより隙間なく分割されている。 - 特許庁 - On an outside surface of a box 12 provided with an incoming call display part 17 having light emitting means 18 for emitting light by driving according to an incoming call signal, an outer equipped panel 14 is detachably assembled so as to constitute and outer equipped body by coating the incoming call display part 17 and providing an appropriate color tone, pattern or design.
着信信号により駆動されて発光する発光手段１８を有する着信表示部１７が設けられた筐体１２の外側面に、着信表示部１７を覆うとともに適宜の色調、模様或いは図柄が設けられて外装体を構成する外装パネル１４が着脱自在に組み付けられてなる。 - 特許庁 - Alternatively, the transreflector 4 includes two or more transparent substrates of different indices of refraction bonded together, with a pattern of optical deformities 8 in the mating side of one of the substrates in mating engagement with each other, and transmits a greater portion of light emitted by a backlight BL or other light source 50 incident on the opposite side of the transreflector.
又は、互いと嵌め合い係合する基板のうち１つの嵌め合い側に光学変形部８のパターンを備え、互いに接合され、屈折率の異なる２つ以上の透明な基板を含んでおり、トランスリフレクタの反対側に入射する、バックライト「ＢＬ」または他の光源５０が送出する光のより多くを透過させる。 - 特許庁 - When the light from the scenery exists in the first range of the exposure level, the portion of the high density is so directed as to form the pattern of the image element of the high density on the photosensitive member and when the light from the scenery exists in the second range of the exposure level, the remaining portions are so directed as to form the remaining images.
風景からの光が露光レベルの第１の範囲にある場合には、高濃度の部分が、感光部材上の高濃度のイメージ要素のパターンを形成するように指向させられ、また、風景からの光が露光レベルの第２の範囲にある場合には、残りの部分が残りのイメージを形成するように指向させられる。 - 特許庁 - The biometrics authentication apparatus 1 includes a light source 10, a detection part 11a, a transmittance distribution filter 11, a microlens array 12, a near-infrared ray transmitting filter 13, an imaging device 14, an image processing part 15, a pattern holding part 16, an authentication part 17, a light source driving part 181, an imaging device driving part 182 and a control part 19.
生体認証装置１は、光源１０と、検知部１１ａと、透過率分布フィルタ１１と、マイクロレンズアレイ１２と、近赤外光透過フィルタ１３と、撮像素子１４と、画像処理部１５と、パターン保持部１６と、認証部１７と、光源駆動部１８１と、撮像素子駆動部１８２と、制御部１９とを備える。 - 特許庁 - The surface of the disk (12) held to a vertical posture is irradiated with illumination light having an illumination pattern becoming an irradiation range, which has a shape almost the same to that of an inspection region containing an edge, from illumination devices (112, 114, 116 and 118) and the reflected light from the inspection region containing the edge is imaged by cameras (102 and 104).
垂直姿勢で保持されたディスク（12）の面に対し、照明装置（112，114,116,118）からエッジを含んだ検査領域の形状と略同一形状の照射範囲となる照明光パターンの照明光を照射し、当該エッジを含んだ検査領域部分からの反射光をカメラ（102,104）によって撮像する。 - 特許庁 - The EL light-emitting part 7 which is constituted by laminating a first electrode 4, an EL luminous layer 5, and a second electrode 6 to order is sealed wholly including the peripheral part between a first film-like substrate 2 and a second film-like substrate 10, and a light transparent pattern 11 is laminated on the bottom face of the film-like substrate 2.
第１の電極４、ＥＬ発光層５、および第２の電極６とが順に積層されて構成されたＥＬ発光部７を、第１のフィルム状基材２と第２のフィルム状基材１０間に、周縁部を含む全体で封止し、かつ、フィルム状基材２の下面に光透過性パターン１１が積層された構造とした。 - 特許庁 - This storage device such as a so-called ball box and cash box is provided with a storage battery 14 (a power supply part) supplying a power, an LED 18 (a light emitting body) emitting the light by the power supplied from the storage battery 14, and a display control part controlling the display of the LED 18 according to a predetermined display pattern.
いわゆる球箱やドル箱等のようなの貯留装置に関し、電力を供給する蓄電池１４（電源部）と、蓄電池１４から供給される電力によって発光するＬＥＤ１８（発光体）と、所定の表示パターンに従ってＬＥＤ１８の表示を制御する表示制御部とを有する。 - 特許庁 - Further, the mounting board 2 is provided with a plenty of second heat transfer parts 25b which are composed of through-holes penetrating in the thickness direction and have a function to transfer the heat generated by the light emitting device 4 to a lower face side of the mounting board 2 at parts where the heat radiating pattern 232 does not overlap in a plan view with the light emitting device 4.
そして、搭載基板２には、平面視で放熱用パターン２３２の発光装置４と重ならない部分に、その厚さ方向に貫通した貫通孔で構成され、発光装置４で発生した熱を搭載基板２の下面側へ伝熱させる機能を有する多数の第２の伝熱部２５ｂが設けられている。 - 特許庁 - In this method for forming a wiring, after an upper face of a translucent main body 24 of a reticle 22 which forms a wiring light blocking pattern 26 is positioned at a focal position X, and a negative photoresist film 18 is sensitized by i-rays 30, a lower face of the translucent main body 24 is positioned at a focal position to sensitize a light-shielding photoresist film 16.
配線用遮光パターン２６が形成してあるレチクル２２の透光性本体２４の上面を焦点位置Ｘにし、ｉ線３０によりネガ型フォトレジスト膜１８を感光させたのち、透光性本体２４の下面を焦点位置にして遮光フォトレジスト膜１６を感光させる。 - 特許庁 - The light diffusing film made of polycarbonate resin has a thickness of 30 to 200 μm and an unevenness pattern on at least one of its surfaces, birefringence (absolute value of retardation) of ≤30 nm, total light beam transmissivity of ≥90%, and haze (cloudness degree) of ≥50%.
ポリカーボネート樹脂より形成された厚さ３０〜２００μｍのフィルムであって、その少なくとも一面に凹凸形状の模様を有し、且つ複屈折（リターデーションの絶対値）が３０ｎｍ以下、全光線透過率が９０％以上およびヘーズ（曇り度）が５０％以上であるポリカーボネート樹脂製光拡散フィルム。 - 特許庁 - The device comprises a infrared lamp 41 which irradiates a substrate for treatment W with a light beam to heat the substrate W and a mask M placed between the infrared lamp 41 and the substrate W, made of copper which reflects wavelength of irradiated light with apertures Ma of prescribed pattern.
処理基板Ｗに向けて照射光を照射することで処理基板Ｗを昇温させる赤外線ランプ４１と、赤外線ランプ４１と処理基板Ｗとの間に配置され、照射光の波長に対し反射する銅材で形成されるとともに所定のパターンで開口部Ｍａが形成されたマスクＭとを備えている。 - 特許庁 - In the reflective mask blank for exposure having a multilayer reflective film 2 for reflecting exposure light on a substrate 1, and an exposure light absorber layer 4 formed on the multilayer reflective film 2, the mask blank has a convex surface on the side opposite to the surface for forming a transfer pattern.
基板１上に、露光光を反射する多層反射膜２と、該多層反射膜２上に形成された露光光を吸収する吸収体層４とを有する露光用反射型マスクブランクであって、前記マスクブランクの転写パターン形成面とは反対側の面の形状が、凸面を有する形状である。 - 特許庁 - The aligner irradiates a substrate to be exposed by using light from a light source via a projection optics having a uniform proximity gap to transfer a mask pattern, wherein a composite mirror composed of a plurality of mirror groups making one reflection plane is used in the projection optics.
光源からの光を利用して、マスクのパターンをマスクのパターンを均一なプロキシミティギャップを有する投影光学系を介して被露光基板に照射する露光装置において、複数のミラー群で一つの反射面を構成する集成ミラーを前記投影光学系に用いたことを特徴とする露光装置。 - 特許庁 - The reflecting surface 13 has a plurality of first optical grooves 14 formed in horizontal direction of the light guide plate 10 and a plurality of second optical grooves 15 formed in vertical direction of the light guide plate 10 from an incident face 11 over a prescribed distance, and an outgoing face 12 has an anisotropic diffusion pattern by hologram.
反射面１３は、導光板１０の横方向に形成された複数の第１光学溝１４を有するとともに、入射面１１から所定距離にわたって導光板１０の縦方向に形成された複数の第２光学溝１５を有し、出射面１２は、ホログラムによる異方性拡散パターンを有する。 - 特許庁 - The reflecting type exposure mask comprises the mask pattern (5) formed on a multilayer film (2) having a relatively high reflectivity for a DUV light and having a relatively low reflectivity than that of the DUV light and formed of a tantalum oxide, an oxide of a tantalum alloy or an oxide of a nitrogen tantalum formed only on its surface vicinity part or entirely formed intentionally.
ＤＵＶ光に対し比較的反射率が高い多層膜（２）上に形成される、ＤＵＶ光に対し比較的反射率が低いマスクパターン（５）が、その表面近傍部分のみ又は全体が意図的に形成された酸化タンタル、タンタル合金の酸化物、窒素タンタルの酸化物で形成されている。 - 特許庁 - In the camera, an infrared LED package 18a for emitting infrared light is arranged at a position inside a camera main body 10 and facing a light projecting window 18 10 via a pattern forming slit plate 18c, and a visible LED package 18b as a display LED is arranged in between these members.
本発明のカメラは、カメラ本体１０の内部の前記投光窓１８に対向した位置に赤外光を発光するための赤外ＬＥＤパッケージ１８ａがパターン形成用のスリット板１８ｃを介して配置され、またこれら部材の間には表示ＬＥＤである可視光ＬＥＤパッケージ１８ｂが配置されている。 - 特許庁 - By using laser beam as light led in optical fiber embedded in a base body constituting a stimulation board, mist or the like causing deterioration of visibility, which exists in the sharp advancing pass special to laser beam is colored, hence, it can clearly inform observers of a light indication pattern even when visibility is poor.
輝板を構成する基体に埋設された光ファイバーに導入する光として、レーザビームを用いることで、レーザビーム特有のシャープな進行経路に存在する、視界を妨げる原因となる霧等を発色させ、視界が悪くても、光表示パターンをはっきりと観察者に知らせることができる。 - 特許庁 - To make light diffused by a diffusion plate have a gently varying diffusion pattern in a prescribed area, to generate a natural image blurring during use as a focusing plate, and to make an image light as to a diffusion plate and an optical device such as a single-lens reflex camera using the diffusion plate.
拡散板あるいはこの拡散板を用いる一眼レフカメラ等の光学装置で、拡散板による拡散光が所定領域において拡散パターンがなだらかに変化するようにし、また焦点板として使用したときに自然な像ぼけを発生するようにし、且つ像が明るくなるようにする。 - 特許庁 - There is provided an illuminator 12 for cultivation of animals or plants which is provided with a plurality of LEDs 33 and control boards 36 for controlling the light intensity of LED 33 according to the light intensity control pattern set every time on the basis of cultivation conditions of animals or plants.
動物あるいは植物を養殖するために用いられる養殖用照明装置１２は、複数のＬＥＤ３３と、動物あるいは前記植物の育成条件に基づいて、時間毎に設定された照度の光量制御パターンでＬＥＤ３３の光量制御を行う制御基板３６と、備えた。 - 特許庁 - This is a production system which includes partially variations in presentation pattern by combination of a color material and illumination, and realizes a large color variation by preparing illumination light having a sharp peak of spectral distribution and by selecting and using the illumination light with the peak coinciding with a peak of spectrum reflectance of the color material and the one not coinciding.
色材と照明の組合せによる表現パターンの変化を一部に含んでなる演出システムであって、照明光に鋭い分光分布のピークを持つものを用意し、そのピークが色材の分光反射率ピークと一致するものとしないものを選択して用いることで大きな色変化を実現する。 - 特許庁 - A recognizing device 1 of an optical reflecting element 2 is provided with an illuminating means 4 for radiating illuminating light, a photodetector 5 for receiving reflected light from the optical reflecting element 2, a signal processing part, an A/D converter, a memory and a CPU or the like and performs pattern recognizing processing by comparing image data with previously stored reference data.
反射光学素子２の認識装置１は、照明光を照射する照明手段４、反射光学素子２からの反射光を受光する受光素子５、信号処理部、Ａ−Ｄ変換器、メモリ、ＣＰＵなどを備え、画像データと予め記憶された基準データとを比較してパターン認識処理を行う。 - 特許庁 - Wave front distribution in the measurement optical system of the wave front sensor is calculated from the light reception results of each calibration pinhole pattern image PHI' and then the wave front aberration determined from light reception results of the CCD under a state where the entire surface of the measurement opening 46 is illuminated is corrected thus calibrating the wave front aberration measuring equipment.
各較正用ピンホールパターン像ＰＨＩ’の受光結果から波面センサの測定用光学系における波面の分布を算出し、測定用開口４６の全面を照明した状態でのＣＣＤの受光結果から求めた波面収差を補正して、波面収差測定装置を較正する。 - 特許庁 - The first conductive film 2 has a concave and convex pattern 5 of a predetermined cycle formed on the surface of the substrate 1 side, and the shape of a side portion that defines an edge portion 2a to be irradiated with the incident light 100 of the first conductive film 2 is convex or linear as seen from the incident light 100 incident side.
そして、第１導電性膜２が基体１側の表面に形成された所定周期の凹凸パターン５を有し、且つ、入射光１００の入射側から見て、第１導電性膜２の入射光１００が照射される端部２ａを画成する辺部の形状が凸状または直線状とする。 - 特許庁 - A density distribution mask 10 in which patterns 6 of a translucent film are provided on a transparent substrate 1, fine dot figures 4 of pattern of a light-shielding film are provided on the patterns 6 of the translucent film and a opening ratio W of gaps between the fine dots figures 4 is set as the square root of a light transmittance T is produced.
透明基板１の上に半透光膜のパターン６を有し、前記半透光膜のパターン６の上に、遮光膜のパターンの微小網点図形４を有し、前記微小網点図形４間の間隙の開口率Ｗが光透過率Ｔの平方根に設定された濃度分布マスク１０を製造する。 - 特許庁 - The image pickup device 2 generates image data in which a plurality of first pixels for measuring an amount of receiving light in a first color and a plurality of second pixels for measuring an amount of receiving light in a second color are arranged in a predetermined pattern, respectively, which has first color information and second color information, and in which a predetermined subject is picked up.
撮像素子２は、第１の色の光を受けた量を測定する複数の第１画素と、第２の色の光を受けた量を測定する複数の第２画素とがそれぞれ所定のパターンで配列され、第１の色情報および前記第２の色情報を有し所定の被写体を撮像した画像データを生成する。 - 特許庁 - To provide a headlight for a vehicle improved in forward visibility of one's own vehicle without dazzling an oncoming vehicle and a preceding vehicle by changing light distribution characteristics of the one's own vehicle in response to a state of a vehicle travelling in front of the one's own vehicle, and capable of obtaining a light distribution pattern having excellent cut-off lines.
前方に存在する車両の状況に応じて自車の配光特性を変化させることによって対向車や先行車を眩惑することなく自車の前方視認性を高めるとともに、カットオフラインの良好な配光パターンを得ることができる車両用前照灯を提供する。 - 特許庁 - In the light guide plate 3, a dot pattern 32 formed on a light guide plate base material 31 is constituted so that dot density is increased from end part sides corresponding to side end surfaces 31c and 31d as incident surfaces toward a center part Cnt in a main surface 31b confronting the emitting surface.
導光板３において、導光板基材３１に形成されるドットパターン３２は、出射面と対向する主面３１ｂにおいて、入射面となる側端面３１ｃ，３１ｄに対応する各縁部側から中央部Ｃntに向かうにしたがってドット密度が増加するように構成されている。 - 特許庁 - A first masking blade for exposing only a desired pattern on a reticle by an exposure device is installed above a reticle stage, and a second masking blade is installed below the reticle stage to prevent light transmitted in a non-exposure region on the reticle from entering a projection lens owing to stray light.
露光装置においてレチクル上の所望のパターンのみを露光するためのマスキングブレードをレチクルステージの上部に第一のマスキングブレードを設置し、さらにレチクルステージの下部に第二のマスキングブレードを設置することにより、迷光によりレチクル上の非露光領域を透過した光を投影レンズ内に入り込む事を防止することができる。 - 特許庁 - The reflection type mask includes a first reflection portion 41 formed on a substrate 40 and reflecting incident light to a first direction, and a second reflection portion 43 formed on the first reflection portion 41, shaped in a prescribed pattern, and reflecting the incident light to a second direction different from the first direction.
基板４０上に形成され、入射した入射光を第１方向に反射する第１反射部４１と、第１反射部４１上に形成され、かつ所定のパターンの形状を有し、入射した入射光を第１方向とは異なる第２方向に反射する第２反射部４３とを有する。 - 特許庁 - To provide a vehicle headlamp, thin and compact with superior designability, and with good visibility for a driver and without glare on an oncoming vehicle, in one having a low-beam light distribution pattern formed by a low-beam use light source unit structured of a plurality of projection type optical units.
複数の投影型光学ユニットで構成されたすれ違いビーム用光源ユニットによりすれ違いビーム用配光パターンが形成される車両用前照灯において、運転者にとって視認性が良好で対向車にとって眩惑がなく、且つ薄型小型で意匠性に優れた車両用前照灯を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a headlight for a vehicle with good visibility for a driver and without giving glare to an on-coming vehicle, and yet thin, compact, and excellent in designability, in one in which a low-beam light distribution pattern is formed by a low-beam light source unit structured with a plurality of optical units.
複数の光学ユニットで構成されたすれ違いビーム用光源ユニットによりすれ違いビーム用配光パターンが形成される車両用前照灯において、運転者にとって視認性が良好で対向車にとって眩惑がなく、且つ薄型小型で意匠性に優れた車両用前照灯を提供する。 - 特許庁 - To provide an optical waveguide structure and an electronic device which have a high degree of freedom for designing a pattern shape, which enable the formation of a core portion (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method, and which include an optical waveguide having high optical coupling efficiency with light-emitting and light-receiving elements and is excellent in durability.
パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、発光素子や受光素子との光結合効率および耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。 - 特許庁
- 特許庁
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