「light pattern」を含む例文一覧(7056)
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ホログラム反射板の有効領域（液晶画面）全面に渡ってホログラフィックなパターンが記録されており、全く光らない暗い部分をなくし、液晶表示パターンが全面で明確に表示できるようにすると共に、ホログラム反射板の有効領域内で他の装飾パターンによる意匠性も向上できるようにする。 - 特許庁 - To provide a resist composition giving a pattern having a smooth good surface free from foreign matter and rectangular good profile and also having a large focal depth in the case of an isolated pattern in lithography using a short-wavelength light source for exposure which enables ultra- microfabrication and a positive type chemical amplification resist.
超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、表面がスムーズで異物がない良好な表面を有し、かつ、矩形で良好なプロファイルを有するパターンが得られ、また、孤立パターンについて広い焦点深度を有するレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition for forming a pattern having excellent roughness characteristics and dry etching resistance when an ArF excimer laser, an electron beam, an X-ray, an EUV and the like are used as an exposure light source, and also to provide a pattern forming method using the composition.
特にＡｒＦエキシマレーザー、電子線、Ｘ線、ＥＵＶ等を露光光源とする場合に、ラフネス特性及びドライエッチング耐性に優れたパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - A light-emitting device 1 includes: a mounting substrate 3 made of an inorganic material in which a circuit pattern 4 mounted with an LED element 2 is provided; an external connection electrode 44 of the circuit pattern 4; and a protection film 5 which is provided so as to cover the outer edge of the exposed surface of the external connection electrode 44 and is made of an inorganic material.
発光装置１は、ＬＥＤ素子２を搭載する回路パターン４を設けた無機材料からなる搭載基板３と、回路パターン４の外部接続電極４４と、外部接続電極４４の露出する面の外縁を覆うように設けられ、無機材料からなる保護膜５とを有する。 - 特許庁 - In a light emitting module, a plurality of LED chips 12 are arranged in a line on a support substrate 11, and a first wiring pattern 14 and a second wiring pattern 15 having a first feeding terminal 14c and a second feeding terminal 15c, respectively, are provided, wherein each of the first and second feeding terminals is provided at a center in the longitudinal direction of the support substrate 11.
支持基板１１上に、複数のＬＥＤチップ１２が１列に配列されるとともに、支持基板１１の長手方向中央部にそれぞれ設けられた第１給電端子１４ｃおよび第２給電端子１５ｃをそれぞれ有する第１配線パターン１４および第２配線パターン１５が設けられている。 - 特許庁 - To provide a negative radiation-sensitive composition which is suitable for exposure to far-UV rays including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light and which can form a pattern with high resolution while avoiding the causes for deterioration in the resolution such as swelling due to permeation of a developer or remaining of a resist film between the lines of the pattern.
ＡｒＦエキシマレ−ザの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線での露光に適していて，現像液の浸透による膨潤や，パタンの線間にレジスト膜が残るといった解像度劣化の原因を取り除いた高解像度のパタン形成が可能なネガ型の感放射線組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive type silicon-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source and having high resolving power in the production of semiconductor device and giving a resist pattern excellent in density dependency particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm and in margin for exposure.
半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に０．１８μｍ以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a curable resin composition for a column spacer from which a column spacer having a pattern width in a desired size can be formed while suppressing pattern thickening without decreasing sensitivity to irradiation light, and to provide a column spacer and a liquid crystal display element using the curable resin composition for a column spacer.
照射光に対する感度を低下させることがなく、かつ、パターン太りを抑制した所望のサイズのパターン幅を有するカラムスペーサを形成することができるカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物、該カラムスペーサ硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供する。 - 特許庁 - First and second electrode patterns 3 and 4, covering the notched parts on the both ends, are formed on the surface of the substrate, and a light emitting diode(LED) chip 1 is connected with a first electrode pattern 3, and an electrode 1a of an LED chip 1 is connected with a surface side electrode 4a of the second electrode pattern 4 by wire bonding.
基板表面には前記両端の切欠部を覆う第１および第２の電極パターン３、４を形成し、第１の電極パターン３に発光ダイオ−ド（ＬＥＤ）チップ１を接続し、ＬＥＤチップ１の電極１ａと第２の電極パターン４の表面側電極４ａを金属線５でワイヤボンデングで接続する。 - 特許庁 - The positional relation between a pattern light projection device and the camera is preliminarily determined, whereby the three-dimensional position of a characteristic point on a pattern in a camera coordinate system is measured from the principle of triangulation to determine the shape (equation) of the writing surface in the camera coordinate system, whereby the relative moving quantity of the pen tip is calculated.
あらかじめパターン光投影装置とカメラとの位置関係を事前に求めておくことにより、三角測量の原理から、カメラ座標系におけるパターン上の特徴点の３次元位置を測定して、カメラ座標系における書画面の形状(方程式)を求め、これによりペン先の相対的な移動量を算出する。 - 特許庁 - When pattern-forming the color conversion layer on a device substrate, an adhesion preventive electrode is arranged in advance before evaporating and forming the color conversion layer, the adhesion preventive electrode is heated by flowing current to the adhesion preventive electrode, and pattern-forming of the color conversion layer is performed by re-evaporating the color conversion layer in order to manufacture the multicolor light-emitting device.
素子基板上に色変換層をパターン形成する際に、色変換層の蒸着形成前に、付着防止用電極を前もって配設しておき、付着防止用電極に電流を流して加熱し、色変換層を再蒸発させることにより色変換層のパターン形成を行い、多色発光デバイスを製造する。 - 特許庁 - A CCD sensor 2 reads out an image of a medium as a genuine bill by utilizing the transmitted light, and a watermark area extracting process unit 9 extracts a pattern of a watermark area from the image data, and a NN processing unit 10 eliminates the influence of the non-linear fade of the extracted pattern data, and a genuineness discrimination unit 12 discriminates the genuineness.
真券である媒体の画像を透過光を利用してＣＣＤセンサ２で読み取り、その画像データから透かし領域のパターンを透かし領域抽出処理部９で抽出し、その抽出したパターンデータの非線的なぼけの影響をＮＮ処理部１０で取り除きた後、真偽鑑別部１２で真偽鑑別を行う。 - 特許庁 - A region where fine bubbles 16B are formed can be enlarged by making a dot pattern 16A convex, and since a plurality of fine bubbles 16B are formed, irregular reflection of light is promoted at a boundary film between the bubbles 16B, and the inside and outside of the dot pattern 16A can be made markedly different from each other in reflectance.
ドットパターン１６Ａを凸状とすることで、微細な気泡１６Ｂの形成領域を大きくとることでき、複数の微細の気泡１６Ｂが形成されることで、この気泡１６Ｂ間の境界膜で、光の乱反射が助長され、ドットパターン１６Ａ内外とで、反射率に大きな差をつけることができる。 - 特許庁 - Further, the groove part DH is formed on the dry film 14 on a pattern inclusion layer PL by the photolithography method by which the back face 11r of the glass substrate 11 is exposed to light by using the pattern inclusion layer PL composed of the residual part of the gold 15 and the dry film 14 as a mask, and further the gold 15 is imbedded to the groove part DH.
さらに、この金１５とドライフィルム１４の残部から成るパターン含有層ＰＬをマスクとし、ガラス基板１１の裏面１１ｒから露光するフォトリソグラフィー法で、このパターン含有層ＰＬ上のドライフィルム１４に溝部ＤＨを形成し、さらに金１５でその溝部ＤＨを埋める。 - 特許庁 - To provide a decorative sheet made hard to generate the fading of a pattern caused by the deterioration of the pigment in a pattern printing layer by suppressing the attack of the pigment by the radical generated from an ink binder itself or a layer excepting a layer of other sheet, especially, the light strabilizer-containing layer on the surface side of the sheet by the deterioration of a resin and excellent in weatherability.
インキバインダー自体やその他のシートの層、とりわけシート表面側の光安定剤が入っている層を除く層からの樹脂劣化により発生したラジカルが顔料をアタックすることを抑え、柄印刷層の顔料の劣化により柄が退色しにくい耐候性に優れた化粧シートを提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern drawing method and a pattern drawing device which are capable of realizing uniform exposure without elongating a drawing time even if an energy variation is large in the pulse laser beam of a light source when a gray scale is reproduced through the frequency of overlapping spots in the laser beam drawing device using a digital mirror device.
デジタルミラーデバイスを用いたレーザビーム描画装置におけるスポットの多重回数でグレースケールを再現する場合に、光源のパルスレーザ光のエネルギーばらつきが大きくても、描画時間が長くならずに、均一な露光量を得ることが可能なパターン描画方法、及びパターン描画装置を提供する。 - 特許庁 - The driving pattern and the driving voltage are properly controlled, which are applied to the outer circumferential pattern electrodes 31 to 38 in accordance with the directivity of astigmatism due to the optical system; the light beam is passed in this state, imparting a phase difference based on the difference in refractive index, thereby enabling the astigmatism to be well corrected.
光学系に起因する非点収差の方向性に対応して外周部のパターン電極３１乃至３８に印加する駆動パターンと駆動電圧を適切に制御し、この状態で光ビームを通過させて屈折率の違いに基づく位相差を付与することにより、非点収差を良好に補正することができる。 - 特許庁 - To provide a dye containing curing composition for forming high-resolution pattern images (for instance, pixels) superior light resistance, heat resistance, pattern formation and solvent resistance by suppressing elution to a developing liquid of an exposure part, and to provide a color filter using it and its manufacturing method.
露光部の染料の現像液への溶出が抑制され、耐光性、耐熱性、パターン形成性（現像性）、および耐溶剤性に優れ、解像度の高いパターン像（例えば画素）を形成することができる染料含有硬化性組成物並びにこれを用いたカラーフィルターおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To realize in a charged particle exposure for division transfer method, where a pattern can be transferred to and exposed to light keeping high resolution and high accuracy by a method, wherein imaging conditions such as form astigmatism caused by differences in pattern distribution in sub-fields are corrected effectively.
分割転写方式の荷電ビーム露光において、各サブ・フィールド内のパターン分布の相違に起因する形状非点収差等の結像条件の補正を効率良く実行でき、結果的に高解像・高精度のパターン転写露光を実現できる荷電ビーム露光方法及び荷電ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁 - A shading plate 30 shades a part of the microlens array chip 22a, and an opening of the shading plate 30 regulates light transmission of the microlens array chip such that one microchip array 22a exposes two pattern areas 20a only, while the other microchip array 22a exposes three pattern areas 20a only.
遮光板３０は、マイクロレンズアレイチップ２２ａの一部を遮光するものであり、遮光板３０の開口部は、一方のマイクロレンズアレイチップ２２ａが２個のパターン領域２０ａのみを露光し、他方のマイクロレンズアレイチップ２２ａが他の３個のパターン領域２０ａのみを露光するように、マイクロレンズアレイチップの光透過を規制する。 - 特許庁 - The light-emitting image 12 comprises: a pattern region 20 formed on a substrate 11 using a first fluorescent ink 13 that includes a first phosphor; and a background region 25 formed on the substrate 11 so as to be adjacent to the pattern region 20 using a second fluorescent ink 14 that includes a second phosphor.
この発光画像１２は、第１蛍光体を含む第１蛍光インキ１３を用いて基材１１上に形成された絵柄領域２０と、絵柄領域２０に隣接するよう、第２蛍光体を含む第２蛍光インキ１４を用いて基材１１上に形成された背景領域２５と、からなっている。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resist composition for color filter with which a thin film pattern having high light shielding property can be easily formed by a photolithographic process, the residue in an unexposed part after alkali development can be suppressed and a favorable pattern profile and sensitivity are obtained, and to improve reliability and manufacturing yield of a color filter and a liquid crystal display device.
薄膜かつ高遮光性を有するパターンをフォトリソグラフィー法で容易に形成でき、アルカリ現像後の未露光部分の残さを抑制し、パターン形状と感度がともに良好なカラーフィルター用感光性レジスト組成物を提供し、カラーフィルターおよび液晶表示装置の信頼性を高く、かつ歩留まりを向上させる。 - 特許庁 - On the surface of a conductor pattern 9 formed by depositing a metallized layer, an Ni plating layer, and an Au plating layer in order which is formed on other part than a wiring pattern 2 of an upper face of an insulation base 1; the mark 8 for image recognition is formed which is a recess with the bottom to the Ni plating layer by laser light.
絶縁基台１の上面の配線パターン２以外の部位に形成された、メタライズ層とＮｉメッキ層とＡｕメッキ層とを順次積層して成る導体パターン９の表面に、レーザ光によって底がＮｉメッキ層に達している溝から成る画像認識用マーク８が形成されている。 - 特許庁 - After a thin film 2 is formed of an organic material on a substrate 1 and a portion of the thin film to be removed is irradiated with laser light to perform pattern processing by thermal abrasion, the entire surface on which the lasers abrasion is carried out is subjected to ashing processing 8 to form a pattern from which even a remaining film 7 is also efficiently removed.
基板１上に有機材料からなる薄膜２を形成し、その薄膜のうち除去すべき部分にレーザー光４を照射して熱アブレーションによるパターン加工を行った後、レーザーアブレーションが施された表面全面にアッシング処理８を施すことにより、残膜７も効率的に除去されたパターンを形成する。 - 特許庁 - The method for manufacturing a chip LED light emitting device comprises a step of forming a through hole board having a through hole part and mounting a chip LED on an electrode pattern and a reflecting plate covering an LED part including the pattern on the board, having a recess 7a formed to draw in its shape a part of a parabolic line and adhering a buffer material.
スルーホール部を有し、電極パターン上にチップＬＥＤを搭載したスルーホール基板およびスルーホール基板上の電極パターンを含めたチップＬＥＤ部分を覆い、その形状が放物線の一部を描くように形成した凹所７ａを有し、緩衝材を貼り付けた反射板を作成する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a microstructure capable of enhancing the holding power of a liquid material in a desired pattern in forming the desired pattern by using the liquid material, and also to provide a spontaneous light emission element, optical element and device manufactured by using the method for manufacturing the microstructure, and an electronic apparatus provided with the device.
液体材料を用いて所望パターンを形成するときに、所望パターンにおける液体材料の保持力を高めることができる微細構造物の製造方法およびこの微細構造物の製造方法を用いて製造された自発光素子、光学素子、デバイス並びにこのデバイスを備えた電子機器を提供する。 - 特許庁 - A method of manufacturing a substrate for liquid crystal display device, on which a protrusion for liquid crystal divided alignment is formed, is characterized by containing a stage for forming the protrusion by exposing and developing a photosensitive resin via a mask having a pattern corresponding to the protrusion and gradation of light transmittance in the pattern.
液晶分割配向のための突起が形成された液晶表示装置用基板の製造方法であって、突起に対応したパターンを有し、かつ該パターン内で光透過率に階調をもたせたマスクを介して感光性樹脂を露光、現像することによって突起を形成する工程を含むことを特徴とするものである。 - 特許庁 - The mask 1 has a plurality of apertures 4 for forming a plurality of projecting parts or recessed parts on the surface of the light reflection film and is constituted so that the plane pattern of the aperture 4 is decided by connecting a plurality of unit areas A0 where a plurality of apertures 4 are arranged in a fixed random pattern.
光反射膜の表面に複数の凸部又は複数の凹部を形成するための複数の開口４を有し、これらの開口４の平面パターンは、複数の開口４が一定のランダムパターンで並べられた単位領域Ａ０を複数個つなぎ合わせることによって決められて成るマスク１でる。 - 特許庁 - Since a trunk 1200ca and branches 1200cb-1200cd in a cherry tree motif are coated with a color coating so as to be over on the surface of the pattern PTN for supplying the power to vLED1-vLED19 which are small-sized light emitting diodes, the pattern PTN is camouflaged by the motif.
小型の発光ダイオードであるｖＬＥＤ１〜ｖＬＥＤ１９に電力を供給するパターンＰＴＮの表面には、覆い被さるように桜の木をモチーフとした幹１２００ｃａ、枝１２００ｃｂ〜１２００ｃｄが有色塗料で塗装されているため、パターンＰＴＮがモチーフによってカモフラージュされている。 - 特許庁 - The encoder 14 includes; a reflection pattern 250 provided on a surface of the rotating body 10 opposing to the circuit board 123; and a reflection type rotation detection sensor 141 provided on the circuit board 123 and detecting rotation of the rotating body 10 by irradiating the reflection pattern 250 with light.
前記エンコーダ１４は、前記回転本体１０の前記回路基板１２３に対向する面上に設けられた反射パターン２５０と、前記回路基板１２３上に設けられ、前記反射パターン２５０に光を照射して前記回転本体１０の回転を検出する反射型の回転検出センサ１４１と、を備える。 - 特許庁 - Therefore, the alignment marker 5 and the pattern 3 can be simultaneously manufactured in the same manufacturing process, a risk of poor alignment between both can be reduced, and lighting of the alignment marker 5 can be executed independently of lighting of the pattern 3 with an inexpensive light source 7, thereby achieving alignment in situ by providing the alignment sensor 1 in a lithographic apparatus.
それで整列マーカ５とパターン３を同じ製造プロセスで同時に製造することができ、両者間の整列不良のリスクが少なく、整列マーカ５の照明を安い光源７でパターン３の照明と独立に行えるので、この整列センサ１をリソグラフィ装置内に設け、その場での整列ができる。 - 特許庁 - The barrier pattern 16 for a display panel fitted on a top side of the base plate 12 and zoning opening parts 18 into which either or both of an organic EL light-emitting material and a color material for color filter formation are injected has a shelter groove 22 each at their tiptop with a depth shallower than the thickness of the pattern.
基板１２の上側に設けられていて、有機ＥＬ発光材料及びカラーフィルタ形成用の色材のいずれか一方又は双方が注入される開口部１８を画成するディスプレイパネルの隔壁パターン１６は、隔壁パターンの頂部に、隔壁パターンの厚みよりも浅い深さの退避溝２２を具えている。 - 特許庁 - The method is characterized in that: (a) a material is directed to a layer of a pattern generator device to form a coating on the layer; and (b) at least a part of the material is prevented from reaching the layer in the step (a) so as to generate a trapezoidal profile of reflected light from the coating on the pattern generator.
（ａ）材料をパターンジェネレータ装置の層に向かって、該層上にコーティングを形成するように方向付け、（ｂ）パターンジェネレータ上のコーティングから反射する光の形状が台形になるようにステップ（ａ）の間に少なくとも前記材料の一部が層に到達するのを妨げることを特徴とする、方法。 - 特許庁 - The conductive pattern manufacturing method irradiates a laser beam L of an ultrashort pulse whose width is less than 1 picosecond in a predetermined pattern to a light-permeable conductive layer a including an ultrafine inorganic conductive fiber provided in at least one side of an insulating base material 11 via condensing means 42.
本発明の導電パターンの製造方法は、絶縁性基材１１の少なくとも一方の面に設けられた、極細の無機導電繊維を含む光線透過性導電層ａに、集光手段４２を介してパルス幅１ｐ秒未満の極短パルスのレーザ光Ｌを所定のパターンで照射する。 - 特許庁 - A stencil mask manufacturing process in the preceding back etching process includes forming gradations of a film thickness of a resist left in a pattern field, after developing by adjusting the amount of exposed light, and selectively thinning a masking substrate film in a minute pattern formation field, with an aspect ratio higher than that of the surrounding region, prior to patterning.
先行バックエッチングプロセスのステンシルマスク製造工程において、現像後のパターン領域のレジスト残膜厚に露光量を調整することにより階調をつけ、周辺領域よりアスペクト比が高い微細パターン形成領域のマスク基板膜厚を選択的にパターニング以前に薄膜化することにより、ステンシルマスクを形成する。 - 特許庁 - The fixed mold 2 of a mold 1 for molding, for example, the light guide plate of a liquid crystal display is constituted by fixedly attaching the stamper 6, which is formed into a thin plate shape with a thickness of 1 mm, for example, by electroforming processing and has a fine pattern wherein the fine pattern on the surface of a molded article is reversed, to a fixing stand 7.
例えば液晶ディスプレイの導光板を成形するための金型１のうち固定型２を、電鋳加工により例えば１ｍｍの薄板状をなし、その表面成型品の表面の微細パターンを反転した微細パターンが形成されたスタンパ６を、固定台７に固定的に取付けて構成する。 - 特許庁 - The conductor pattern is formed by forming a photosensitive conductive film by applying photosensitive conductive paste to the whole surface of the insulator layer having through holes for conductor pattern after the insulator layer is formed, and curing the portions of the conductive film corresponding to the through holes by exposing the conductive film to light and developing the film.
導体パターンは、導体パターン形状の貫通孔が形成された絶縁体層を形成した後、絶縁体層の表面全体に感光性導電ペーストを塗布して感光性導電膜を形成し、感光性導電膜を露光して貫通孔に対応する部分を硬化させ、現像することにより形成される。 - 特許庁 - A pattern 103L and a pattern 103R formed in different exposure processes with an optical axis of the micro lens 106 as a splitting line by bond exposure are arranged across an optical path of incident light condensed by the micro lens 106, and are disposed so that clearance with the optical path becomes a distance L.
つなぎ露光によりマイクロレンズ１０６の光軸を分割線として異なる露光工程で形成されるパターン１０３Ｌとパターン１０３Ｒは、マイクロレンズ１０６によって集光された入射光の光路を間において配置され、光路とのクリアランスが距離Ｌとなるように設けられている。 - 特許庁 - The cathode layer 17 is equipped with an inner cathode layer 17a formed by vacuum depositing a cathode material having a work function not more than 3.5 eV in light emitting pattern and an outer cathode layer 17b formed by depositing a cathode material having a work function not less than 4 eV on the inner cathode layer 17a in a wiring pattern.
陰極層１７が、仕事関数が３．５ｅＶ以下の陰極材料によって発光パターンに蒸着された内側陰極層１７ａと、仕事関数が４ｅＶ以上の陰極材料によって内側陰極層１７ａ上に配線パターンを形成して蒸着された外側陰極層１７ｂとを備えてなる。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which is adaptable to the formation of a fine resist pattern using a light source of a short wavelength up to 90 nm, excels in resolution, ensures small LWR and good PEB temperature dependency, excels in pattern collapse resistance and hardness to cause defect, and is suitably used even in an immersion exposure step.
９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。 - 特許庁 - In an optical plate, its manufacturing method, a display device, and its manufacturing method, an optical plate is formed on the polarizing plate transmitting polarization among incident light, and includes a phase delay layer containing a first pattern providing 3 lambda/4 phase delay of the polarization and a second pattern providing λ/4 phase delay of the polarization.
光学板及びその製造方法と表示装置及びその製造方法において、光学板は入射光のうち、偏光を透過させる偏光板上に形成され、偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターン及び偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンを含む位相遅延層を含む。 - 特許庁 - In the iris registration apparatus 10, a light emission part 12 irradiates a subject in a specific emission pattern, to be imaged by an imaging part 14, an iris coding part 16 encodes the image into a bit string, and a registration data generation part 18 generates registration data containing the bit string and an emission pattern ID and registers it in a registration data storage part 20.
虹彩登録装置10は、発光部12が特定の発光パターンで被登録者に照明を当てて撮影部14がその画像を撮影し、虹彩符号化部16がこの画像をビット列へと符号化し、登録データ生成部18がそのビット列と発光パターンIDとからなる登録データを生成し登録データ記憶部20に登録する。 - 特許庁 - The manufacturing method of the display member comprises (A) a process of coating and drying photosensitive paste on a substrate with at least an electrode formed, and then exposing the coated film to light via a photomask, (B) a process of developing the coated film and patterning it, and (C) a process of forming a barrier-rib pattern by baking the pattern-formed coated film.
少なくとも電極が形成された基板に下記の（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）の各工程を順次行って得られるディスプレイ部材の製造方法であって、該（Ａ）工程をｎ回（ｎは２以上の整数）実施した後に、（Ｂ）、（Ｃ）の工程を実施することを特徴とするディスプレイ部材の製造方法。 - 特許庁 - A first pattern is formed by a plurality of the first elements arranged in a first direction on at least one side of a laminated body formed by laminating a lower layer, a middle layer, and an upper layer, and a second pattern is formed by a plurality of the second elements arranged in a second direction on a light shielding layer constituting the middle layer.
下層、中間層、上層が積層されて成る積層体の少なくとも一方の面に、第１の方向に複数配置された第１の要素によって第１の模様を形成し、中間層を構成する光遮蔽層に、第２の方向に複数配置された第２の要素によって第２の模様を形成する。 - 特許庁 - The halftone material film 11 is then dry-etched through the resist pattern 21a as a mask, the resist pattern 21a is removed with a special removing solution and a separately fabricated light shielding frame 31 is stuck to a prescribed position of the resulting halftone type phase shift mask of an intermediate stage to obtain the objective halftone type phase shift mask 100.
レジストパターン２１ａをマスクにして、ドライエッチングにてハーフトーン材料膜１１をエッチング処理し、レジストパターン２１ａを専用の剥離液で剥離し、中間工程のハーフトーン型位相シフトマスクを作製し、別途作製した遮光性枠３１を所定位置に貼付し、ハーフトーン型位相シフトマスク１００を得る。 - 特許庁 - A test pattern is written on a carrying belt 2 by an LD that is a correction object (S1), the written test pattern is read by a sensor not shown, which is disposed oppositely to the carrying belt 2 (S2), and a relative slippage of dots is detected to acquire lighting phase information between LDs (light sources) is acquired (S3).
搬送ベルト２上に補正対象となるＬＤによってテストパターンを書き込み（Ｓ１）、書き込まれたテストパターンは図示搬送ベルト２に対向した配置された図示しないセンサによって読み取られ（Ｓ２）、ドットの相対的なズレが検出され、ＬＤ（光源）間の点灯位相情報が取得される（Ｓ３）。 - 特許庁 - In the marker beam irradiating unit 16, a laser diode 33 as a light beam source, a condensing lens for condensing laser 34 beams of the laser diode 33, a pattern forming lens 35 for forming a pattern of the maker beam, an image forming lens 36 for forming the marker beam on the reading target and a diaphragm 37 are directed toward the front and arranged in this order.
マーカ光照射部１６を光源としてのレーザダイオード３３、そのレーザ光を集光する集光用レンズ３４、マーカ光のパターンを形成するパターン形成用レンズ３５、マーカ光を読取対象上に結像させる結像用レンズ３６及び絞り３７を先方に向けてその順に配置する。 - 特許庁 - A stripe pattern 1 having light and shade patterns set such that a reflected image by a surface of a transparent tabular body and a reflected image by a rear face of the transparent tabular body are separated in an image signal acquired by imaging is determined as a stripe pattern suiting the transparent tabular body 3 (an object to be inspected).
まず、透明板状体３（被検査物体）に適するストライプパターンとして、透明板状体の表面による反射像と透明板状体の裏面による反射像とが、撮像によって得られた画像信号では分離するように設定された明暗のパターンを有するストライプパターン１を決定する。 - 特許庁 - The respective individual control parts 13-1-13n have a discrimination circuit 21 discriminating whether the fed voltage is positive or negative, and the guide signs corresponding to the individual control parts are controlled to be driven so as to light the guide signs 1-n by a lighting pattern and a display pattern according to the discriminated signals from the discrimination circuit 21.
各個別制御部１３−１〜１３−ｎは、給電された電圧が正負いずれであるかを識別する識別回路２１を有し、識別回路２１からの識別信号に応じた点灯パターン及び表示パターンで誘導標１〜ｎが点灯するように、当該個別制御部に対応する誘導標を駆動制御する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern that can solve problems of short-circuit or breaking of word lines and data line ends caused by interference of diffracted light produced at a pattern end on a boundary part between a memory array and a sub-word driver or sense amplifier when fine word lines and data lines having linewidth smaller than a wavelength are patterned on a memory.
メモリーにおいて波長以下の線幅を有する微細なワード線やデータ線をパターニングする際、メモリーアレーとサブワードドライバやセンスアンプの境界部において、パターン端部で生ずる回折光が干渉するためワード線やデータ線端がショートしたり、断線を起こす問題を解決するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
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