「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 105 106 107 108 109 110 111 112 113 .... 141 142 次へ＞- To provide a resin molded article which can prevent deterioration caused by light and can be used over a long period without losing an irregular pattern, even when worn, to provide an apparatus for producing the same, and to provide a method for producing the same.
磨耗があっても不規則模様を失わず、光による劣化を防止することで長期間に渡って使用可能な樹脂成形品およびその製造装置と製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a shadow mask wherein variations do not occur in the size of a photo-resist film opening part by making an exposure light entering into the mask for pattern exposure uniform.
パターン露光用マスクに入射する露光光を均一とすることで、形成されるレジスト膜開口部の寸法にバラツキの生じないシャドウマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - NEGATIVE RESIST COMPOSITION USED IN PROCESS WHERE EXPOSURE IS PERFORMED USING AT LEAST TWO KINDS OF EXPOSURE LIGHT SOURCES SELECTED FROM G-LINE, I-LINE, KrF EXCIMER LASER, AND ELECTRON BEAM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光する工程に用いられるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a semiconductor manufacturing apparatus and a method of manufacturing a semiconductor excellent in reliability which cancels the variations of a pattern dimension certainly by correcting appropriately the deviation of a light exposure and a focus.
露光量およびフォーカスのずれを適切に補正して、パターン寸法の変動を確実に解消することができる信頼性にすぐれた半導体製造装置および半導体製造方法を提供する。 - 特許庁 - Then a chromium film 44 is formed as a light shielding film on the pattern 41a as shown in (f), and the chromium film 44 is polished as shown in (g) to flatten the surface of the chromium film 44.
(f)に示すように、パターン４１ａ上に遮光膜としてクロム膜４４を成膜し、(g)に示すようにこのクロム膜４４の表面を研磨することにより、クロム膜４４の表面を平坦化する。 - 特許庁 - By performing first-stage exposure, the areas F to be irradiated of the photoresist film are irradiated with light by using a phase shift mask formed in a straight line pattern extended in the direction Y in which word lines are extended.
フォトレジスト膜に第１段階の露光を行い、ワード線の延在方向と同じＹ方向に延在する直線パターンからなる位相シフトマスクを用いて照射領域Ｆに光を照射する。 - 特許庁 - When the determination result of the light reception waveform determination part 21 is a consecutive outgoing pattern, the reference coordinate data whose shape is round and whose size is "large" is copied to the coordinate data of the instruction pointer data PointInf.
受光波形判定部２１の判定結果が連続状の出射パターンであると、形状が丸、大きさが「大きい」の基準座標データを、指示ポインタデータＰｏｉｎｔＩｎｆの座標データにコピーする。 - 特許庁 - By aligning the direction with the large viewing angle with the extending direction of the stripe pattern of the mask M, the use efficiency of light is increased and illuminance on the irradiation face can be increased.
上記視角が大きい方向とマスクＭのストライプパターンの伸びる方向とを一致させることにより、光の利用効率が上がるとともに、光照射面での照度を高くすることができる。 - 特許庁 - A light distribution pattern switching means E is arranged between the reflectors R1, R2 and S1, S2, which are set up to achieve the maximum output during the low beam irradiation.
配光パターン切り替え手段ＥをリフレクタＲ１，Ｒ２とリフレクタＳ１，Ｓ２との間に配置し、ロービーム照射時に最高出力が得られるようにリフレクタＲ１，Ｒ２およびリフレクタＳ１，Ｓ２を設定する。 - 特許庁 - To provide a polymer compound enabling the curing reaction and pattern formation in the form of a thin film, etc., by heat, light or the presence of a polymerization initiator and provide a monomer for the polymer compound.
薄膜などに成形した後に熱や光、または重合開始剤の存在によって硬化反応やパターン形成が可能な高分子化合物及びその原料となるモノマーを提供する。 - 特許庁 - A prescribed phase shift Δϕj of a light signal guided in this waveguide (j) is caused, and consequently the correction of aberrations of an interference pattern of the multibeam interferometer lasts a long time.
この導波路ｊを案内される光信号の規定された位相シフトΔφ_ｊが生じ、それにより、マルチビーム干渉計における干渉パターンの収差の補正が長持ちすることになる。 - 特許庁 - To provide stable encoder signals against a displacement of a code disc by forming it from a translucent member, with a light shielding part partially formed in pattern to form a slit.
本発明は、符号板を光透過部材で形成し、部分的に遮光部をパターンで形成してスリットを形成し、符号板の変位に対しても安定したエンコーダ信号を得ることを目的とする。 - 特許庁 - A periodic mask pattern 107 transmitting ultraviolet rays is formed on one surface of an organic birefringent film 101 having different refractive indexes to vibration plane with different incident light (processes (a) to (e)).
入射光の異なる振動面に対し屈折率が異なる有機複屈折膜１０１の一方の面上に紫外線を透過する周期的なマスクパターン１０７を形成する（工程（ａ）〜（ｅ））。 - 特許庁 - The exposure device 1 has a light source 11, a polarizing prism 15 which functions as a polarizer and an analyzer, a mask substrate 20 which has a structural double refraction pattern PT and a condenser lens 19.
露光装置１は、光源１１と、偏光子かつ検光子として機能する偏光プリズム１５と、構造性複屈折パターンＰＴを有するマスク基板２０と、集光レンズ１９とを備える。 - 特許庁 - Thereafter, the image processing means 12 images the transmitted light from the illumination emission part 8 by the line sensor camera 1, and processes the taken image to determine the pattern of the inspection area and defects of the peripheral part.
その後、画像処理手段１２は、ラインセンサカメラ１で照明発光部８からの透過光を撮像し、撮像した画像を処理して当該検査エリアのパターンと周辺部の欠陥の有無を判定する。 - 特許庁 - The infrared ray component of the light 51a passing through the gap of the wiring is imaged as the second wiring pattern image of a transmitted image of the wafer 100 to be analyzed by an infrared ray detector 12.
メタル配線の隙間を通過した光５１ａの赤外光成分は、赤外光検出器１２により被解析ウェハ１００の透過像である第２の配線パターン像として撮像される。 - 特許庁 - To provide a photosensitive macromolecular resin capable of forming a thin circuit pattern even under an exposure light source having a short wavelength because of the excellent resolution; and to provide a chemical amplification-type photoresist composition including the resin.
解像度に優れるため、短波長の露光源下においても、細い回路パターンを形成できる感光性高分子樹脂、及びこれを含む化学増幅型フォトレジスト組成物を開示する。 - 特許庁 - A pulse number detecting sensor unit 32 and a rotational direction detecting sensor unit 33 irradiate infrared radiation to an optical pattern formed on the upper surface of a rotary bezel to generate pulse signals from the reflected light.
パルス数検出センサユニット３２および回転方向検出センサユニット３３は、回転ベゼルの下面に形成された光学パターンに赤外光を照射し、その反射光からパルス信号を生成する。 - 特許庁 - The light shielding pattern 52 comprises a metallic thin film of aluminum, molybdenum, silicon, tungsten or the like or a dielectric multilayer film formed, e.g. by alternately laminating calcium fluoride films and lanthanum fluoride films.
遮光性パターン５２はアルミニウム、モリブデン、シリコン、若しくはタングステン等の金属薄膜、又はフッ化カルシウム膜とフッ化ランタン膜とを交互に積層する等による誘電体多層膜から構成される。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device in which light leakage in the dark state caused by the protruding pattern formed on the counter face of a substrate is decreased, and in which decrease in the transmittance in the bright state is suppressed.
基板の対向面上に設けられた突起パターンに起因する暗状態時の漏れ光を低減し、かつ明状態時の透過率の低下を抑制した液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure apparatus capable of continuously processing a lenticular lens sheet in a roll shape with good productivity at a low cost, and also, whose operation rate is extremely high, in forming a stripe light shielding pattern on the lenticular lens sheet.
レンチキュラーレンズシートのストライプ状遮光パターンの形成において、レンチキュラーレンズシートをロール状で連続して低コストで生産性よく処理し、しかも稼働率の非常に高い露光装置を提供する。 - 特許庁 - The filter assembly comprises: a film type filter 17; and an adhesion pattern layer 15 which is formed on one side of the film type filter, directly bonds the film type filter to a display panel and condenses light generated by the display panel.
フィルム型フィルタ１７と、フィルム型フィルタの一側に形成されて、フィルム型フィルタをディスプレイパネルに直接接着させ、ディスプレイパネルで生成された光を集束する接着パターン層１５と、を備える。 - 特許庁 - Thereby, the vehicle lighting fixture can prevent the shadow S of the mobile shade in moving from being formed as a dark part which moves toward the center form its right/left end, in the additional light distributing pattern PA3.
これにより、移動途中の可動シェードの影Ｓが、付加配光パターンＰＡ３に、その左右方向の端部から中心部へ向けて移動する暗部として形成されてしまうのを未然に防止する。 - 特許庁 - The X-ray mask 1 is characterized in that the pattern of an X-ray absorber 6 is formed in a film of an X-ray transmission material 8, which is light-reactive epoxy resin.
Ｘ線吸収体６のパターンがＸ線透過材８の膜中に形成されたＸ線マスク１であって、前記Ｘ線透過材８が光反応性エポキシ樹脂であることを特徴とする。 - 特許庁 - A photographing camera 32 acquires information of an interference pattern image having phase information of the test body 7 at the instantaneous photographing period, by using interference light received by the photographing surface 33 in the instantaneous photographing period.
撮像カメラ３２は、瞬間的撮像期間に撮像面３３で受光した干渉光により、該瞬間的撮像期間における被検体７の位相情報を担持した干渉縞画像情報を得る。 - 特許庁 - To provide an optical recording apparatus capable of acquiring predetermined resolution even when a line width of an exposure pattern is close to a wavelength of exposed light, and reducing time necessary for exposing, and to provide its method.
露光パターンの線幅が露光光の波長に近い場合であっても所定の解像度が得られかつ露光に要する時間が低減する、光学的な記録装置及び方法を提供すること。 - 特許庁 - To increase the forming speed of recesses and projections when information is recorded by irradiating a thin film of a polymer compound containing an azobenzene structure with light to form a pattern of recesses and projections on the surface.
アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に光照射して、表面に凹凸パターンを形成させて情報記録を行う際に、凹凸の形成速度を高速化することを目的とする。 - 特許庁 - Since a heat source (in this case, a laser light source) required for transferring the organic emission coloring matter pattern layer 82 is not equipped, the transfer base 80 becomes less expensive by that amount since no heat source is equipped.
有機発光色素パターン層８２を転写させるために必要な熱源（ここではレーザ光源）を備えていないため、熱源を備えていない分だけ転写基板８０のコストが安くなる。 - 特許庁 - An imaging means 1c, a transmitting illumination means 1b and an incident-light illumination means 1c are scanned on the pattern 10a to be inspected of a TAB tape 10 to obtain a transmitting illumination image and a vertical illumination image.
ＴＡＢテープ１０の検査対象パターン１０ａ上で、撮像手段１ｃ、透過照明手段１ｂ、落射照明手段１ｂを走査し、透過照明画像と落射照明画像を得る。 - 特許庁 - To provide a projection aligner which prevents blurs from occurring on a lens, by organic gas components being produced by applying light to an organic film which is used for formation of a mask pattern.
マスクパタンの形成に使われる有機膜に光を照射することによって生じる有機気体成分により、投影レンズに曇りが生じることを防止した投影露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an aligner, a manufacturing apparatus of semiconductor devices, a phase shift, and its design method, all of which are capable of suppressing a variation in the line width of a miniaturized pattern by correcting the distribution of light intensity between phase shifters.
位相シフタ間の光強度分布を補正して、微細パターンの線幅の変動を抑制できる露光装置、半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法を提供する。 - 特許庁 - The shadow mask 12 is interposed between the slope of the multi-stage prism 11 and the image receiver 23 and interrupts a part of the reflected light from the detection plane 11a by a variably controlled pattern.
シャドウマスク１２は、多段プリズム１１の傾斜面と受像装置２３との間に介装されて、上記検出面１１ａからの反射光の一部を可変制御されるパターンで遮断する。 - 特許庁 - At the time of receiving the command, a CPU on the decoration control substrate controls turning on/off of a decoration light emitting body provided on the game panel by using pertinent data set to turning-on pattern data.
装飾制御基板上のＣＰＵは、コマンドを受信すると、点灯パターンデータに設定されている該当データを用いて遊技盤に設けられている装飾発光体の点灯／消灯制御を行う。 - 特許庁 - To improve reduction of half-width (θ//) in the horizontal direction of a far field pattern by current flow, in an AlGaAs based ion implantation type gain guide laser light emitting device which is formed by using a so-called off substrate.
いわゆるオフ基板を使用して形成されるＡｌＧａＡｓ系イオン注入型ゲインガイドレーザ発光装置における、通電による遠視野像の水平方向の半値幅(θ//)の減少の改善を図る。 - 特許庁 - Thereby, even when the distance A of the intermittent shift of the irradiation region group is slightly misaligned, the gap between stripes 71, 72 is properly irradiated with light and the pattern with high accuracy can be drawn at high speed.
これにより、光照射領域群の間欠移動距離Ａが微少にずれた場合であっても、ストライプ７１，７２間に光が適切に照射され、高精度なパターンを高速に描画することができる。 - 特許庁 - After the photo-curable resin is cured by irradiating with a light, by separating the mold, the mask having the taper-shaped side face to which the pattern of the mold is reflected is formed on the member to be etched.
光硬化性樹脂に光を照射して硬化させた後、モールドを引き離すことにより、被エッチング部材上にモールドのパターンが反映されたテーパー形状の側面を有するマスクを形成する。 - 特許庁 - To provide a method and a device for performing accurate phase connection, in a three-dimensional measuring system for measuring a surface shape by observing an image obtained by irradiating a measuring object with sine-wave pattern light.
正弦波パターン光を計測対象物に照射して得られる画像を観察することによりその表面形状を計測する三次元計測システムにおいて、正確な位相接続を行う。 - 特許庁 - When the optical fiber 11 is positioned with respect to the light receiving part 7, the tip end surface of the optical fiber 11 is adjusted to fall within a range S in a contour 23 of the positioning pattern 21 under a microscope.
光ファイバ１１を受光部７に位置合わせする場合は、顕微鏡下において、光ファイバ１１の先端面を位置決めパターン２１の輪郭２３内の範囲Ｓに合わせて設置する。 - 特許庁 - A light distribution pattern for foggy weather FP is obtained when a movable shade 6 is positioned at a first position with a driving means 7, and that for significant weather SP when the movable shade is positioned at a second position.
駆動手段７により、可動シェード６を第１位置に位置させると、霧天候用配光パターンＦＰが得られ、可動シェード６を第２位置に位置させると、悪天候用配光パターンＳＰが得られる。 - 特許庁 - To provide a wood/thermoplastic resin composite foamed molded product with a hollow therein, having light weight, a cross section similar to a pattern of a natural tree, an excellent secondary workability and a recycling property, and to provide a manufacturing method for the same.
軽量でかつ天然木様の断面と優れた二次加工性およびリサイクル性を有する、中空の木材・熱可塑性樹脂複合発泡成形品およびその製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a colored alkali-developable photosensitive resin composition which, even with improved color purity and light shielding property, avoids degradation in pattern shape and achieves higher definition, and a color filter using the same.
色純度及び遮光性を向上させても、パターン形状の悪化や高精細化が可能な着色アルカリ現像型感光性組成物、ならびにそれを用いたカラーフィルタを提供することにある。 - 特許庁 - To provide a semiconductor light emitting element having no problem of optical oozing-out to a GaN substrate and the generation of crack or dislocation of an n-type clad layer while being small in the half-value width of an FFP (Far Field Pattern) in the vertical direction.
ＧａＮ基板への光滲み出し、及びｎ型クラッド層のクラックや転移の発生の問題なく、垂直方向のＦＦＰ（遠視野像）全半値幅の小さな半導体発光素子を提供する。 - 特許庁 - The film is irradiated with a natural light for printing a pattern, followed to be heated, and is cooled thereafter to an ambient temperature, so as to impart the latent image, when preparing the polarizing latent image using the film.
このフィルムを用いて偏光性潜像を作製するには、該フィルムに、パターンを焼き付けるための自然光照射を行ない、続いて、加熱後、常温に冷却することにより潜像を付与できる。 - 特許庁 - In this aligner, luminous flux from a light source 1 is applied to a mask 13, and the image of the pattern of the mask is successively projected and exposed in an adjacent region on the surface of a substrate 15, while mutual one part is overlapped at a joint.
光源１からの光束をマスク１３に照射して基板１５の表面の隣接する領域にマスクのパターンの像を継ぎ部にて互いの一部が重複するように順次投影露光する。 - 特許庁 - As a result, the changeover time of the first change over can be controlled to be later than the changeover time of the second changeover, and the changeover times of the plurality of the light distribution pattern can be properly controlled.
この結果、第１切替の切替時間を第２切替の切替時間よりも遅く制御することができ、しかも、複数の配光パターンの切替時間を適正に制御することができる。 - 特許庁 - The decorative pattern display device 42 includes a transparent member capable of transmitting light, and a first display member 407 and a second display member 408 which can be visually recognized from the front through the transparent member.
装飾図柄表示装置４２は、光を透過可能な透明部材と、透明部材を介して前方から視認可能な第１表示部材４０７及び第２表示部材４０８とを備えている。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for epoch-makingly processing a cloth, with which a dark and light pattern with a hand of friction mark and a cleaning and bleaching feeling is readily formed in excellent reproduction on a cloth.
生地にスレや洗い晒し感を伴う風合いのある濃淡の柄模様を容易且つ再現性良く形成することが可能な画期的な生地の加工方法並びに生地の加工装置を提供すること。 - 特許庁 - A surface emitting laser 1 is installed on a photodetector 3 being arranged approximately parallel to a scale 2 and is arranged so that a light beam with a desired shape can be projected toward an optical pattern surface of the scale 2.
面発光レーザ１は、スケール２と略平行に配置された光検出器３上に設けられ、所望の形状の光ビームをスケール２の光学パターン面に向けて照射可能に配置されている。 - 特許庁 - A photocurable resist 4 is formed on the negative resist 3 and a main surface side of a template 5, which has an uneven pattern whose convex part is partially provided with a light shield part, is pressurized toward the photocurable resist 4.
前記ネガ型レジスト３上に光硬化性レジスト４が形成され、前記光硬化性レジスト４に、凸部の一部に遮光部が設けられた凹凸パターンを有するテンプレート５の主面側が加圧される。 - 特許庁 - One end of the lead frame 9 is fixed to the rear of a light-emitting part 6 in mold resin 7 of the LED lamp 4 as a heat-generating element, and the other end is mounted on a pattern 11 for radiating of a printed board.
放熱用リードフレームの一方端は、発熱体であるＬＥＤランプ４のモールド樹脂７内の発光部６の背面に固定され、他方端はプリント基板の放熱用パターン１１に実装される。 - 特許庁
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