「new pattern」を含む例文一覧(661)

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  • RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, NEW COMPOUND AND ACID-GENERATING AGENT
    レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁
  • RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR
    レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 - 特許庁
  • METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING NEW POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
    新規なポジ型感光性樹脂組成物を用いるレジストパターン形成方法 - 特許庁
  • NEW COPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING HIGH-ASPECT-RATIO RESIST PATTERN
    新規コポリマー、ホトレジスト組成物、および高アスペクト比のレジストパターン形成方法 - 特許庁
  • The magnetic excitation is carried out by the magnet generating the new magnetic field pattern.
    磁気励起は、新規な磁界パターンを生成するマグネットによってなされる。 - 特許庁
  • To align a mask with a board at high precision to match a new pattern to a base pattern for precise light exposure.
    マスクと基板との位置合わせを精度良く行って、新たなパターンを下地パターンに合わせて精度良く露光する。 - 特許庁
  • RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATING AGENT
    レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁
  • To provide a member for forming a resist pattern with a new protective film formed on the member.
    新規な保護膜が形成されたレジストパターン形成用部材を提供する。 - 特許庁
  • To provide a new method for manufacturing a printed-circuit board comprising a circuit pattern.
    回路パターンを備えるプリント基板を製造する新規な手法を提供する。 - 特許庁
  • RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND AND ACID-GENERATING AGENT
    レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 - 特許庁
  • NEW COMPOUND, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
    新規な化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
  • NEW ESTER COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD
    新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
  • NEW ESTER COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMING
    新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁
  • NEW ESTER COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD
    新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパタ—ン形成方法 - 特許庁
  • To give a resist pattern an excellent etching resistance, concerning the method of forming a minute pattern including a new processing method for a resist pattern.
    本発明はレジストパターンの新規な処理方法を含む微細パターン形成方法に関し、レジストパターンに優れたエッチング耐性を与えることを目的とする。 - 特許庁
  • Next, the sequence length of this sequence pattern candidate is extended to determine a plurality of new sequence pattern candidates, thereby creating a set of sequence pattern candidates.
    次に、この系列パターン候補の系列長を延長して複数の新たな系列パターン候補をもとめることにより、系列パターン候補の集合を生成する。 - 特許庁
  • In the New Property Pattern dialog box, set the Name to counter and the Type to int, and then click OK to add the new property.
    「新規プロパティーパターン」ダイアログで、「名前」を「counter」、「型」を「int」に設定し、「了解」をクリックして新しいプロパティーを追加します。 - NetBeans
  • A new three-dimensional Bayer pattern is generated in which a partial pattern of the three-dimensional Bayer pattern is rotated by 180 degrees, and space-time dithering is performed using this pattern, thereby suppressing variations in brightness.
    ３次元ベイヤパターンの一部パターンを１８０度回転させた新たな３次元ベイヤパターンを生成し、このパターンを用いて時空間ディザを行うため、輝度ばらつきを抑制できる。 - 特許庁
  • To provide a new resin, a resist composition using the resin and a method of forming a resist pattern.
    新規な樹脂、該樹脂を用いたレジスト組成物およびレジストパターン形成方法。 - 特許庁
  • RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND PHOTOBASE GENERATOR
    レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および光塩基発生剤 - 特許庁
  • In other words, when the pattern is stored to the pattern table 320 if the overlapping pattern does not exist precedently, it is written in the pattern table 320 as it is, and if the overlapping pattern exists, new writing to the pattern table 320 is not performed only by setting the pattern address to the pointer part 310.
    すなわち、パターンテーブル部３２０にパターンを格納するに際し、先に重複するパターンがなければ、そのままパターンテーブル部３２０に書き込み、重複するパターンがあれば、そのパターンのアドレスをポインタ部３１０に設定するだけで、パターンテーブル部３２０への新たな書き込みは行わない。 - 特許庁
  • The reference pattern image is successively updated whenever the pattern matching processing on a new photographic image is performed, and the size of a range where a new reference pattern image is fetched is changed based on the subject distance and the focal distance.
    基準パターン画像は、新たな撮影画像でのパターンマッチング処理が行われるごとに逐次更新され、新たな基準パターン画像を取り込む範囲の大きさが被写体距離と焦点距離に基づいて変更される。 - 特許庁
  • In addition, by means of the link table, new voice information can be associated with, released from, or changed to, a new dot pattern.
    またリンクテーブルによって、新たなドットパターンに新たな音声情報を関係付けたり、解除したり変更することができる。 - 特許庁
  • Besides, a new dot pattern and new audio information can be associated, and the association can be canceled or changed using the link table, for example.
    またリンクテーブルによって、新たなドットパターンに新たな音声情報を関係付けたり、解除したり変更することができる。 - 特許庁
  • COMPOSITION FOR FORMING LAYER TO BE PLATED, METHOD FOR PRODUCING METAL PATTERN MATERIAL, AND NEW POLYMER
    被めっき層形成用組成物、金属パターン材料の作製方法、及び、新規ポリマー - 特許庁
  • To provide a new technology for converting an image scanning pattern.
    本発明の目的は、画像の走査パターンを変換する新たな技術を提供することである。 - 特許庁
  • To provide a picture pattern matching game machine, with which a new device is provided.
    今までにない斬新な工夫を凝らした図柄合わせ遊技機を提供することである。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a new resist pattern with high resolution.
    高解像性のレジストパターンを形成できる新規なレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND AND QUENCHER CONSISTING OF THE SAME COMPOUND
    レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および該化合物からなるクエンチャー - 特許庁
  • To provide a new polymer compound and a resist composition and to provide a method for forming a resist pattern.
    新規な高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
  • an octal number representing the bit pattern for the new permissions.
    アクセス権を表すビットパターンを 8 進数で表現したもののいずれかを 使うことができる。 - JM
  • Each of the new forms is differentiated by a unique powder X-ray diffraction pattern.
    この新たな結晶形の各々は特異な粉末X線回折パターンにより識別する。 - 特許庁
  • NEW LACTONE-CONTAINING COMPOUND, HIGH POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMATION
    新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ—ン形成方法 - 特許庁
  • The New Property Pattern dialog box appears, shown completed in Figure 2.
    「新規プロパティーパターン」ダイアログが表示されます。 図 2 はその入力後の状態を示しています。 - NetBeans
  • In the New Property Pattern dialog box, enter choices for Name and String[] for Type, and then click OK.
    「新規プロパティーパターン」ダイアログで、「名前」に「choices」、「型」に「String[]」と入力し、「了解」をクリックします。 - NetBeans
  • The new logos incorporate a checkered pattern traditionally called ichimatsu moyo.
    新エンブレムには，伝統的に市(いち)松(まつ)模様と呼ばれるチェックの模様が取り入れられている。 - 浜島書店 Catch a Wave
  • To surely obtain a prescribed pattern without restrictions of qualities of materials and to easily obtain a new pattern.
    素材の材質に制限されることなく、所定の模様が確実に得られるとともに、斬新な模様が容易に得られるようにする。 - 特許庁
  • Moreover, the controller 3 compares pattern data of a new tire with pattern data of used tire to calculate a wear amount of the tire.
    また制御装置３は、新品タイヤでのパターンデータを使用済みタイヤのパターンデータと比較してタイヤの摩耗量を算出する。 - 特許庁
  • To provide a method for designing a new phase shift mask with less dimensional change in a pattern even in a random logic pattern.
    ランダムロジックパターンにおいてもパターンの寸法変動が少ない新たな位相シフトマスクの設計方法を実現できるようにする。 - 特許庁
  • A line object 01 having a prescribed width is moved on a pattern on a special pattern display device 6 in a special pattern game while hiding a part of a displaying pattern 02(a), and is renewed to a new pattern 02(b).
    特図ゲームにおける特別図柄表示装置６上の図柄の上に、所定の幅を有するラインオブジェクト０１を、表示されている図柄０２（ａ）の一部を隠しつつ移動させることにより、新たな図柄０２（ｂ）への更新を行う。 - 特許庁
  • One embodiment of the invention includes receiving a first layout pattern containing a new layout of an integrated circuit pattern, a pattern matcher 110 processes the layout pattern and designates certain patterns of the integrated circuit pattern that meet design waiver information.
    集積回路パターンの新規のレイアウトを含む最初のレイアウトパターンを受け取り、パターン適合手段110は、レイアウトパターンを処理し、そして、デザイン適用除外情報に適合する集積回路パターンの特定のパターンを指定する。 - 特許庁
  • A changed difference pattern 25, generated by calculating only the differences in the difference generating regions 18, 19, is replaced with the pattern in the difference generating regions 18, 19 of the simulation pattern 13n to generate a new simulation pattern 13n+1.
    差分発生領域18，19内の差分の部分のみ演算して作成した変更差分パターン25を、シミュレーションパターン13nの差分発生領域18，19のパターンと入れ換えて新たなシミュレーションパターン13n+1を作成する。 - 特許庁
  • To provide a new resist pattern forming method by which reduction in film thickness of a resist pattern is suppressed, and a negative resist composition used in the resist pattern forming method.
    レジストパターンの膜減りが低減された新規なレジストパターン形成方法、および当該レジストパターン形成方法に用いられるネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
  • To form an alignment mark capable of improving superposition accuracy, and of reducing an exposure and superposition measurement processing time when a new pattern is formed by superposing a new pattern on a pattern formed by a double pattern to be exposed to light.
    ダブルパターンで形成されたパターンに新たなパターンを重ね合わせて露光して、新たなパターンを形成する際、重ね合わせ精度を向上させると共に、露光及び重ね合わせ計測処理時間を短縮することができるアライメントマークを形成できるようにする。 - 特許庁
  • To provide a re-mixing device generating the new musical sound pattern data provided with new tempo and eagerness on the music of the original musical sound data and a storage medium.
    元の楽音パターンデータの曲に新たなテンポやノリを備えた新たな楽音パターンデータ生成可能なリミックス装置と記憶媒体。 - 特許庁
  • The coordinate axis of a new pattern to be formed is corrected (42) by the eccentricity and the rotation angle, forming data are generated (43) and pattern forming is performed (17).
    偏心と回転角で描画すべき新規パターンの座標軸を補正して(42)、描画データを生成し(43)、パターン描画を行う(17)。 - 特許庁
  • METHOD FOR FORMING METAL FILM, METHOD FOR FORMING METAL PATTERN, METAL FILM, METAL PATTERN, NEW COPOLYMER AND COMPOSITION FOR FORMING POLYMER LAYER
    金属膜形成方法、金属パターン形成方法、金属膜、金属パターン、新規共重合ポリマー、及びポリマー層形成用組成物 - 特許庁
  • The considerable compression curtailment of the template pattern can thereby be attained, and finer image quality improving effect can be obtained by adding a new pattern to a region which is vacant by compression curtailment.
    また、圧縮削減で空いた領域に新しパターンを追加することでより精緻な画質改善効果を得ることができる。 - 特許庁
  • To provide new amusement to a player by expanding and displaying a pattern.
    図柄を拡大表示することにより、遊技者に対し従来にない新しい興趣を提供する。 - 特許庁
  • To provide a new method capable of forming a micro-pattern of high density by a simple process.
    簡易な工程で高密度のマイクロパターンを形成することのできる新規な方法を提供する。 - 特許庁
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