「new pattern」を含む例文一覧(665)

＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 13 14 次へ＞
  • To provide a semiconductor element capable of providing a dummy pattern of a new pattern enabling the overlapping between dummy patterns, and to provide a method of manufacturing the semiconductor device.
    実施例は、ダミーパターン間のオーバーラップが可能な新しい模様のダミーパターンを提供することができる半導体素子及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • A holographic stereogram creation device comprises a re-combining modulation pattern generation unit and a spatial light modulator for modulating object light on the basis of a new modulation pattern for modulating the object light.
    ホログラフィックステレオグラム作成装置は、再合成変調パターン生成部と、物体光を変調する新たな変調パターンに基づき物体光を変調する空間光変調器を含む。 - 特許庁
  • To provide a high sensitivity photosensitive resin composition comprising a polyimide precursor, developable with an aqueous alkali solution and having positive pattern forming ability and to provide a new positive pattern forming method.
    アルカリ水溶液にて現像が可能でポジ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体からなる高感度の感光性樹脂組成物と新規なポジ型パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a new conductive bonding material which is suitably used as a material for a bonding pattern for bonding a wiring pattern to electronic components in an electronic component mounting process.
    電子部品実装プロセスにおいて、配線パターンと電子部品とを接合するための接合パターンの材料として好適に用いられる新規な導電性接合材料を提供する。 - 特許庁
  • To provide a pattern display device which enables the offering of new game potentialities along with other innovations by achieving a higher visual effect and a game machine.
    高い視覚的効果が得られ、また新たなゲーム性を提供できる等の図柄表示装置及び遊技機を提供する。 - 特許庁
  • To provide a lithography method for forming a new pattern of submicron order, a masking material and a resist material thereof.
    新しいサブミクロンオーダーのパターンを形成するリソグラフィー方法及びそのためのマスク材料並びにレジスト材料を提供する。 - 特許庁
  • To provide a new personal authentication method and personal authentication system using a vein pattern.
    本発明は、静脈パターンを利用した新規な個人認証方法及び個人認証システムを提供することを目的とする。 - 特許庁
  • Then, by way of a new resist pattern 5, multistage n-type wells 6, 7, and 8 are formed in the p-type well 4 of the semiconductor substrate 1.
    次に、新たなレジストパターン５を介して多段Ｎ型ウェル６，７，８を半導体基板１のＰ型ウェル４中に形成する。 - 特許庁
  • To provide a new colored photosensitive resin composition capable of forming a color filter with less residue and good pattern adhesion.
    残渣が少なく、パターン密着性が良好なカラーフィルタを形成しうる新たな着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide a pattern matching game machine capable of offering a new game property to a player and increasing the game property.
    遊技者に対して新規な遊技性を提供し、遊技性を高めることができる図柄合わせ遊技機を提供することである。 - 特許庁
  • A new tint pattern is then formed by performing exclusive OR operation of these two temporary tint patterns (Step S3).
    ステップＳ３では、この２つの仮万線パターンの排他的論理和演算を行うことにより、新たな万線パターンを作成する。 - 特許庁
  • To provide a resin molded article for waterworks which achieves a new pattern due to particles, and is excellent in heat resistance.
    本発明は、粒子による新規な柄を達成しながら、耐熱性にも優れた水回り用樹脂成形体を提供する。 - 特許庁
  • SURFACE METAL FILM MATERIAL, ITS PRODUCTION METHOD, METAL PATTERN MATERIAL, ITS PRODUCTION METHOD, COMPOSITION FOR FORMING POLYMER LAYER, AND NEW POLYMER
    表面金属膜材料、その作製方法、金属パターン材料、その作製方法、ポリマー層形成用組成物、及び新規ポリマー - 特許庁
  • This new pattern won the enthusiastic support of the people in the Kamigata region, and Gidayu-bushi overwhelmed the old Joruri.
    この新しい様式は上方の人士から熱狂的な支持を受け、義太夫節はそれ以前の古浄瑠璃を圧倒することになる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To provide a method of treating a substrate by which a process of working an organic film pattern into a new pattern form can be performed smoothly by performing second developing treatment for the organic film pattern, wherein the original organic film pattern formed on the substrate is an organic film pattern formed into a thick film having at least two steps or more.
    基板上に形成された当初の有機膜パターンが、少なくとも２段階以上の膜厚に形成された有機膜パターンであり、前記有機膜パターンに対する２回目の現像処理により前記有機膜パターンを新たなパターン形状に加工する処理をスムーズに行うことを可能とする基板処理方法を提供する。 - 特許庁
  • The image forming apparatus detects whether the input image data is added with copy guard pattern; and when the result of the detection indicates that the input image data is added with the copy guard pattern, the apparatus removes the copy guard pattern and adds a new copy guard pattern to the image data, from which the previous copy guard pattern has been removed.
    入力された画像データに複写牽制模様が付加されているか否かを検出し、当該検出の結果、入力された画像データに複写牽制模様が付加されている場合は、当該複写牽制模様を除去し、複写牽制模様を除去した後の画像データに対して、新たに複写牽制模様を付加する画像形成装置である。 - 特許庁
  • A light shielding pattern comprising a resist film formed in the integrated circuit pattern region of a mask with a light shielding pattern comprising a metal formed in the peripheral region is removed and a new light shielding pattern comprising a resist film is formed again in the integrated circuit pattern region of the mask to regenerate the mask.
    また、周辺領域にメタルからなる遮光パターンが形成されたマスクの集積回路パターン領域に形成されたレジスト膜からなる遮光パターンを剥離した後、再度、その周辺領域にメタルからなる遮光パターンが形成されたマスクの集積回路パターン領域にレジスト膜からなる新たな遮光パターンを形成することでマスクを再生するものである。 - 特許庁
  • To provide a drawing preparing device, with which a pattern like a picture pattern to be used for making a boundary or division on a drawing such as map is automatically generated by simple arithmetic and a user can easily register a new pattern.
    地図などの図面において境界や区画を明確にするために使用される模様的なパターンが簡単な演算で自動的に生成され、かつユーザが新しいパターンを容易に登録できる図面作成装置を提供することである。 - 特許庁
  • To provide a new radiation-sensitive composition which forms a fine pattern without causing chipping and undercut of a pattern edge even with a small amount of light exposure or generating undissolved residues and scum on a pattern edge in development.
    低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、且つ現像時に未溶解物が残存したりパターンエッジにスカムを生じたりすることなく微細パターンの形成が可能である新規な感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
  • A display control means 160 switches the variation of the symbols during the display from the performance display pattern selected by the pattern decision means 130 to the new performance display pattern selected by the variation adjusting means 150, and displays.
    表示制御手段１６０は、表示中の図柄変動を図柄決定手段１３０により選択された演出表示パターンから変動調整手段１５０により選択されたあらたな演出表示パターンに切り替えて表示させる。 - 特許庁
  • To provide a new rinsing liquid for manufacturing high-quality products by modifying the surface of a resist pattern to have ≥70° contact angle and rapidly and effectively preventing pattern collapse in a process of forming a resist pattern by lithography techniques.
    リソグラフィー技術によりレジストパターンを形成させる際、レジストパターンの表面を接触角７０度以上に改質してパターン倒れを迅速かつ効果的に防止して、高品質の製品を製造するための新規なリンス液を提供する。 - 特許庁
  • A defect information file from another testing apparatus is retrieved, and based on the content of the file, a new recipe for the circuit pattern testing apparatus 1 is created.
    また、他の検査装置で検査された欠陥情報ファイルを読み込み、その内容から当該検査装置用のレシピを生成する。 - 特許庁
  • To provide a pachinko game machine full of interest by the new specification method of a stop pattern capable of effectively utilizing a display screen.
    表示画面を有効に活用することが可能な新規な停止図柄の明示方法により趣向性に富んだパチンコ機を提供する。 - 特許庁
  • To provide a noise removing technique accurately removing fixed pattern noise with hardly causing new noise.
    本発明は、固定パターンノイズを的確に除去し、かつ新たなノイズを発生しにくいノイズ除去技術を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The value of Np is the number of the inspection patterns already formed on the printing medium when the new inspection pattern is to be printed.
    Ｎｐは、新たに検査用パターンを印刷する時点で、印刷媒体上にすでに形成されている検査用パターンの数である。 - 特許庁
  • 3.1.2. "industrial design" means a new and original solution related to the shape, pattern or color, or a combination of colors in an article;
    3.1.2. 「意匠」とは、物品における形、模様、色彩若しくは色彩又はそれらの組合せに係わる新規かつ独自の解決手段をいう。 - 特許庁
  • To carry out repair within a very short time that can keep the dimensional accuracy of a thick film pattern without causing new disconnection.
    新たな断線を発生せず、しかも厚膜パターンの寸法精度を維持できる上に、非常に短い時間での補修を可能とする。 - 特許庁
  • To give new interest of a game to a game player by adding unexpected nature to a variable display of a pattern in a display device.
    表示装置における図柄の変動表示に意外性を持たせて、遊技者に対して従来にはない遊技の面白さを与える。 - 特許庁
  • To provide a new black photosensitive resin composition which can form a color pattern with a wide margin and no production of residue.
    残さを発生させず、広い現像マージンで着色パターンを形成し得る、新たな黒色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • In one embodiment, invertible transformation from original mosaic pattern pixels to four new color channel space is enabled by using integer arithmetic.
    一実施形態では、元のモザイクパターンピクセルから新しい４チャネル色空間への変換を、整数演算で可逆にすることができる。 - 特許庁
  • To provide a new structure with which patterns used for a lost foam pattern casting method are easily and precisely assembled, and its method.
    消失模型鋳造法で使用される模型を容易にしかも精度良く組み立てる新たな構造及びその方法を提供する。 - 特許庁
  • When the user enters the genuine password, the selected function is executed and a new behavior pattern is added to the table 14.
    真正なパスワードが入力された場合、選択した機能が実行され、かつ新たな行動パターンが前記テーブル１４に追加される。 - 特許庁
  • To provide a pachinko game machine with a pattern display device capable of providing new interest in the process to winning establishment and providing new expectations of the winning establishment.
    当り成立までの過程において新規な趣向を提供すると共に、当り成立に対する新規な期待感を提供することができる図柄表示装置付きパチンコ遊技機を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a pachinko game machine with a pattern display device which offers new entertaining potentialities in the process to the establishment of win while creating new expectation for the establishment of the win.
    当り成立までの過程において新規な趣向を提供すると共に、当り成立に対する新規な期待感を提供することができる図柄表示装置付きパチンコ遊技機を提供すること。 - 特許庁
  • Then, the stage is shifted by a prescribed distance so that the characteristic pattern R is shifted in the field of view V, and the coordinate of a two-dimensional image of the characteristic pattern R at a new position and the stag is stored.
    次いで、ステージを所定の距離だけ移動させて視野Ｖ内で特徴的なパターンＲを移動させ、移動した位置での特徴的なパターンＲの二次元画像とステージとの座標を記憶する。 - 特許庁
  • An identifier change unit 18 adds a pattern to the network identifier stored in the memory unit 22 or excludes a pattern contained in the network identifier to generate a new network identifier.
    識別子変更部１８は、メモリ部２２に記憶されているネットワーク識別子にパターンを追加し、またはネットワーク識別子に含まれているパターンを除くことで、新たなネットワーク識別子を生成する。 - 特許庁
  • Designs mean, with respect to a product, new designs of the shape, pattern, or the combination thereof, or the combination of the color with shape and pattern, which are rich in an aesthetic appeal and are fit for industrial application.
    意匠とは、製品の形状、図案又はその結合及び色彩と形状、図案の結合に対して行われ、優れた外観を備え、かつ工業への応用に適した新たな設計を指す。 - 特許庁
  • To provide a game machine for improving the presence value of a substituting pattern, increasing player's expectation of the substituting pattern, improving interest, being new and increasing player's desire for a game.
    代用図柄の存在価値が向上すると共に、遊技者の代用図柄に対する期待感が高まり、趣向性が高く、かつ斬新で、遊技者の遊技に対する意欲を増大できる遊技機を提供する。 - 特許庁
  • A light shielding pattern 3a comprising a resist film formed on a photomask M1a is removed and a new light shielding pattern comprising a resist film is formed again on the photomask M1a to regenerate the photomask.
    ホトマスクＭ１ａに形成されたレジスト膜からなる遮光パターン３ａを剥離した後、そのホトマスクＭ１ａにレジスト膜からなる新たな遮光パターンを形成することでホトマスクを再生する。 - 特許庁
  • To provide a new radiation sensitive composition for color filter not only having sufficient hardening property even with a low exposure but also having an excellent pattern shape, further forming a pixel pattern with a narrow line width.
    低露光量でも十分な硬化性を有するのみならず、パターン形状に優れかつ線幅が狭く画素パターンを形成することができる新規なカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide a new pattern forming method, by which a three-dimensional pattern with an arbitrary size can be formed on a recording material having a recording layer including a diazonium salt compound, and a recording material employing the same.
    ジアゾニウム塩化合物を含有する記録層を有する記録材料に、三次元のパターンを任意の大きさで形成しうる新規なパターン形成方法、及びそれに用いる記録材料を提供する。 - 特許庁
  • An area in a pattern layout of an original product corresponding to the display area coordinates is expanded by a magnification equal to that of the predetermined area in the pattern layout of the new product and displayed linked with the monitor.
    表示領域座標に相当する元製品のパターンレイアウト中の領域が新製品のパターンレイアウト中の所定領域と等しい倍率で拡大されてモニタに連動して表示される。 - 特許庁
  • The best fit pattern is then used to keep on calculating the heading for each successive sensor reading until a new best fit pattern is identified provided that the noise level is not noisy.
    次に、ノイズレベルが高くなく、かつ新しい最良適合パターンが特定されるまでという条件で、最良適合パターンを使用して各連続するセンサ読取値に対して進行方向を計算する。 - 特許庁
  • At this time after establishment of an effective line, further a pattern memory means 122 stores a display pattern where a new effective line including a display area being not located on the effective line is established.
    このとき、パターン記憶手段１２２は、有効ラインが設定された後、更に、その有効ライン上に位置しない表示領域を含む新たな有効ラインが設定される表示パターンを記憶する。 - 特許庁
  • The Pachinko game machine displays the reduction of two memories of passing and starts to carry out the new pattern generation process β if four memories of passing are stored, when starting the pattern generation process β.
    図柄生成行程β開始時に、四個の通過記憶が記憶保持されている場合に、二個の通過記憶を減算表示して、新たに図柄生成行程βを実行開始することとした。 - 特許庁
  • A corrected-part information activating pattern producing means 108 produces a corrected part activating pattern 109 which activates a corrected part based on corrected part information 107 and new circuit information 102.
    修正箇所活性化パタン生成手段１０８は、修正箇所情報１０７と新回路情報１０２とに基づき修正箇所を活性化する修正箇所活性化パタン１０９を生成する。 - 特許庁
  • If the master unit control section detects the matching of the analyzed finger action and a predetermined pattern, it displays the image to be displayed on the display screen in a new image prepared corresponding to the pattern.
    この親機制御部は、解析された指の動きと予め決められているパターンとの一致を検出すると、表示画面に出画させる映像を、パターンに対応して作画した新しい映像で表示する。 - 特許庁
  • Old weave pattern command symbols such as weaving orders 1 and 2 are successively deleted when a set number of weave pattern commands of new weaving orders are produced, thus making a weaving operation concurrently.
    また、織成順序１や織成順序２等の古い織り柄指令記号は設定された数の新しい織成順序の織り柄指令が生成されると順次削除されながら製織が行われる。 - 特許庁
  • To provide a new semiconductor pattern formation device that suppresses a minute vibration of a holding substrate and achieves high pattern position precision in a semiconductor circuit pattern formation device, having a means for forming a circuit pattern of a semiconductor device on the surface of a substrate, and a means for holding the substrate when forming patterns.
    本発明は、基板の表面に半導体装置の回路パターンを形成する手段とパターン形成時に前記基板を保持する手段とを有する半導体回路パターン形成装置において、保持基板の微少な振動を抑制し、高精度なパターン位置精度を実現した新規な半導体回路パターン形成装置にある。 - 特許庁
  • The woven pattern configuration section 23 and the image composite section 24 reconfigure a woven pattern that is a configuration unit of the woven pattern in the first image G1 with a second embodiment differing from a first one in the first image G1, thus generating image data D2 in a second image G2 including a new woven pattern.
    また、地紋構成部２３および画像合成部２４は、第１の画像Ｇ１内の地紋の構成単位である紋様パターンを、第１の画像Ｇ１での第１の様態とは異なる第２の様態で再構成することによって、新たな地紋を含む第２の画像Ｇ２の画像データＤ２を生成する。 - 特許庁
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 13 14 次へ＞

例文データの著作権について