「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 142 143 144 145 146 147 148 149 150 .... 287 288 次へ＞- The grouting material includes, as an active principle, a silica solution obtained by ion exchange treating colloidal silica in which a silica concentration is 15-40 mass%, and a particle size is 10-80 nm.
シリカ濃度が１５〜４０質量％であって、かつ、粒径が１０〜８０ｎｍであるコロイダルシリカを、イオン交換処理して得られるシリカ溶液を有効成分とする地盤注入材である。 - 特許庁 - To provide a nano-focus X-ray tube with a simple and low-cost structure, which has a focusing size of 1,000 nm or less needed in an image forming method for a high-resolution diagnosis.
高解像検診のための画像形成方法で必要とされる１．０００ｎｍ（ナノメータ）以下の焦点サイズのナノ焦点Ｘ線管を簡略で安価な構造で提供する。 - 特許庁 - To provide a capacitor capable of securing a capacitance level required by next generation DRAMs with sub-70 nm metal wiring and favorable leakage current characteristics, and a method for fabricating the same.
７０ｎｍ以下の金属配線を有する次世代ＤＲＡＭで要求される容量および良好な漏れ電流特性を確保できるキャパシタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The resist substrate is obtained by disposing on a substrate a resist layer comprising a photosensitive composition and having a thickness of ≤500 nm and a residual solvent content of 0.5-20 ppm.
膜厚５００ｎｍ以下で、かつ残留溶剤量が０．５〜２０ｐｐｍの感光性組成物からなるレジスト層が基板上に設けられていることを特徴とするレジスト基板である。 - 特許庁 - To provide a solar cell that converts light of 1,000 to 3,000 nm in wavelength of sunlight to an absorbable band of a power generation layer and then converts it into electric power.
太陽光のうち波長１０００ｎｍ〜３０００ｎｍの光を、上記発電層の吸収可能帯域まで変換した上で、これを電力に変換可能な太陽電池を提供する。 - 特許庁 - To provide a phosphor for a white LED in which the intensity of bluish green light at 480 nm in the emission spectrum is lower than before, and to provide a white LED using this phosphor.
発光スペクトル中の４８０ｎｍの青緑色の光の強度が従来より低い白色ＬＥＤ用の蛍光体および該蛍光体を用いてなる白色ＬＥＤを提供する。 - 特許庁 - The invention relates to the colored composite powder characteristically composed of the metal oxide including fine particles of metal colloids with 1-60 nm of the average particle size, and to the cosmetic compounded with the same.
平均粒子径１〜６０ｎｍの微粒子金属コロイドを内包した金属酸化物からなることを特徴とする着色複合粉末、及びこれを配合する化粧料である。 - 特許庁 - When water is charged into the inner holes and water is dropped from the above and a quartz glass window is covered on the inner holes and the glass window is irradiated with ArF laser having 193 nm wavelength, a cell chip in which the surface and the inner holes are hydrophilic is prepared.
内孔に水を入れ、その上から水を垂らし石英ガラス窓を被せ、193nmのArFレーザー光を照射すると、表面と内孔が親水性であるセル・チップができる。 - 特許庁 - The silica particles (A) have such a chemical property that a silanol group density thereof as calculated based on a specific surface area measured by using a BET method and an amount of silanol groups measured by titration is 1.0-3.0 pieces/nm^2.
ＢＥＴ法を用いて測定される比表面積および滴定により測定されるシラノール基量から算出されるシラノール基密度は、１．０〜３．０個／ｎｍ^２である。 - 特許庁 - The A layer is an Si not containing film of a TiaAlbCrc nitride and a crystal structure constituted of a fine columnar crystal which is formed of a cubic system, densed and has a width not smaller than 300 nm.
Ａ層はＴｉａＡｌｂＣｒｃ窒化物のＳｉ非含有皮膜であり、立方晶からなる緻密で幅３００ｎｍ以下の微細な柱状晶で構成した結晶構造とする。 - 特許庁 - The chemically amplified photoresist composition is used in a lithography process, particularly in a lithography process using a light source of a wavelength of 193 nm and is quite excellent in resolution, profiles and photosensitivity.
この化学増幅型ホトレジスト組成物はリソグラフィー工程、特に波長１９３ｎｍ光源のリソグラフィー工程に使用され、極めて良好な解析度、輪郭及び感光度を有する。 - 特許庁 - Then a quenched alloy, containing an R2Fe14B type compound phase having a mean particle diameter of ≤50 nm, is prepared by quenching the molten alloy in a gaseous atmosphere of pressure of ≥30 kPa.
次に、圧力３０ｋＰａ以上の雰囲気ガス中で前記合金の溶湯を急冷し、平均粒径５０ｎｍ以下のＲ_2Ｆｅ_14Ｂ型化合物相を含む急冷合金を作製する。 - 特許庁 - The electron injection layer 14 is made from a plurality of first thin films 14a and a plurality of second thin films 14b, which are laminated alternately and each film of which has a thickness of about 1 nm.
電子注入層１４は、交互に積重ねられ且つ夫々が約１ｎｍの厚さを有する複数の第１薄膜１４ａと複数の第２薄膜１４ｂとからなる。 - 特許庁 - A PSG oxide is deposited on the exposed surface of the substrate 42 to a thickness of about 10-40 nm by the CVD method and an FE gate stack having a width L2 (L2≥L1+2δ) is formed on the gate area.
露出基板上に厚さ約１０〜４０ｎｍのＰＳＧ酸化物をＣＶＤ法で堆積し、ゲート領域上に幅Ｌ２（Ｌ２＞Ｌ１＋２δ）のＦＥゲートスタックを形成する。 - 特許庁 - A thickness d_1 of a YAG crystalline substrate 11 formed by mechanical polishing is measured on the order of 10 nm, a difference thereof from a target thickness is found, and a required etching time is found from a previously-measured etching rate.
機械研磨で成型されたYAG結晶基板１１の厚みd_1を10nmのオーダーで測定し目標厚みとの差を求め、予め測定したエッチング速度からエッチング所要時間を求める。 - 特許庁 - The lower-layer part has a film thickness of 50 nm or more, yet thinner than that of an organic compound layer, with an angle made by a slanted face of the lower layer and a flat face of a lower electrode of 35° or less.
前記下層部は、膜厚が５０ｎｍ以上で、かつ有機化合物層の膜厚よりも薄く、前記下層部の斜面と下部電極の平面とのなす角度は３５°以下である。 - 特許庁 - The crystal particle diameters (size) of the silicon fine crystals 4 are distributed in the range of 3-10 nm and the film thickness of the insulating film 3 is specified to be thinner than the crystal particle diameters of the silicon fine crystals 4.
シリコン微結晶４の結晶粒径（サイズ）は３〜１０ｎｍの範囲で分布しており、絶縁膜３の膜厚は、シリコン微結晶４の結晶粒径よりも小さくしてある。 - 特許庁 - A photocatalyst layer 18 which is activated by light is formed on the edge surface of an optical fiber bundle 12 into which optical fibers 16 are bound with a thickness of 50-1000 nm, for example, by using TiO2.
光ファイバ１６を束ねた光ファイババンドル１２の端面に、光により活性化する光触媒層１８を、例えばＴｉＯ_2により、５０〜１０００ｎｍの範囲の厚みで形成する。 - 特許庁 - This color tone of glass is a dark green color of which the lightness Y is 30-60% in CIE expression (in terms of 3 mm thickness), the main wavelength λd is 540-580 nm, and the excitation purity Pe is 10-50%.
このガラスの色調は、ＣＩＥ表示（３ｍｍ換算）で明度Ｙ＝３０〜６０％、主波長λｄ＝５４０〜５８０ｎｍ、刺激純度Ｐｅ＝１０〜５０％の濃緑色である。 - 特許庁 - A merge block 135 forms decoded data based on the four status data, detects disagreement between the four status data and forms a disagreement detection signal NM.
マージブロック１３５は、かかる４個の状態データに基づく復号データの生成を行うと共に、かかる４個の状態データ間の不一致を検出し、不一致検出信号ＮＭを生成する。 - 特許庁 - The flame-retardant resin composition is characterized by comprising at least granular flame-retardant fine particles having volume-average particle diameter of 1-500 nm in a matrix resin.
マトリックス樹脂に、少なくとも体積平均粒子径が１〜５００ｎｍの範囲である粒状の難燃性微粒子を配合してなることを特徴とする難燃性樹脂組成物である。 - 特許庁 - Thereon, a metal layer 3 in the range of 50-150 nm thickness improved of wetness for satisfactory wetting with a solder material of Pd, Pt, etc., is deposited continuously in the same vacuum.
その上に、PdまたはPt等のはんだ材との濡れをよくするための濡れ改善の金属層３を50ｎｍ以上150ｎｍ以下の膜厚で、同一真空内で連続して成膜を行う。 - 特許庁 - The optical fiber thus manufactured is characterized in that the difference of the maximum loss and the minimum loss in the wavelength band of 1,280-1,625 nm is ≤0.05 dB/km.
該方法によって製造され、波長１２８０ｎｍ〜１６２５ｎｍの波長帯における最大損失と最低損失の差が０．０５ｄＢ／ｋｍ以下であることを特徴とする光ファイバ。 - 特許庁 - The ferrite powder for enormous magnetoresistance effect materials is an MFe2O4 (M: Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Mg) ferrite powder having a mean grain size of 10-700 nm.
Ｍ・Ｆｅ_２Ｏ_４（Ｍ：Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｇ）フェライト粉末の平均粒径が１０ｎｍ〜７００ｎｍであることを特徴とする巨大磁気抵抗効果材料用フェライト粉末。 - 特許庁 - A laser oscillator 110 oscillates a green laser with a wave length of 532 (nm) by a Q-switch oscillation (pulse oscillation) system of 12 (kHz), and has an average output of 1.6 (J).
レーザ発振器１１０は、１２（ｋＨｚ）のＱスイッチ発振（パルス発振）方式をもって波長５３２（ｎｍ）のグリーンレーザを発振するものであって、１．６（Ｊ）の平均出力を有する。 - 特許庁 - A Cr film 9 is formed thinly on the surface of the CU film 3 in film thickness of approximately 50 nm by a sputtering method, the Cr film 9 is etched, and a removing section 9a is formed.
このＣｕ膜３の表面にＣｒ膜９をスパッタ法によって５０ｎｍ程度の膜厚に薄く形成した後、このＣｒ膜９をエッチングして除去部９ａを形成する。 - 特許庁 - A magnetic random access memory has a plane shape having a plurality of corners and is equipped with a magnetro-resistive element MTJ whose radius of curvature at least at one corner is 20 nm or less.
磁気ランダムアクセスメモリは、複数のコーナーを有する平面形状であり、一つ以上のコーナーにおける曲率半径が２０ｎｍ以下である磁気抵抗効果素子ＭＴＪを具備する。 - 特許庁 - A ceramic composite material is composed of a phase mainly comprising carbon and a ceramic phase (excluding carbon), each having an average crystal grain size of not more than 3 μm, preferably not more than 30 nm.
平均結晶粒径３μｍ以下好ましくは３０ｎｍ以下の、炭素を主成分とする相とセラミックス相（但し、炭素を除く）とからセラミックス複合材料を構成する。 - 特許庁 - To provide an optical recording medium which ensures satisfactory recording and reproducing characteristics when used as the optical recording medium for recording and reproducing information by using light having a wavelength of about 400 nm.
４００ｎｍ付近の光により情報の記録再生を行う光記録媒体として用いられたときに、十分な記録再生特性が得られる光記録媒体を提供すること。 - 特許庁 - To provide a classifying device, capable of classifying, with high accuracy, ultra fine particles having a grain size of the order of nm produced under a reduced pressure and capable of conveying them to an accumulation chamber of a higher vacuum.
減圧下で生成される粒径数ｎｍレベルの超微粒子を高精度で分級し、さらに高真空側の堆積室へ搬送することが可能な分級装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide an oil-in-water type emulsion composition which can be prepared without applying energy, which has superior stability and cosmetic characteristics, and of which the average diameter of the liquid drops falls in the range of 50-500 nm.
エネルギーを投入なしに調製され、優れた安定性および化粧品特性を有する、液滴の平均径が50〜500nmの範囲の水中油型エマルション組成物に関する。 - 特許庁 - Disclosed are dispersible particles consisting essentially of a crystalline NSAID having a surface modifier in an amount sufficient to maintain an effective average particle size of less than about 400 nm adsorbed on the surface of the NSAID.
NSAIDの表面に約400nm未満の平均粒径を維持するのに十分な量の表面改質剤を吸着させた結晶NSAIDから実質的に構成される分散可能な粒子。 - 特許庁 - In demultiplexing operation of this wavelength multiplexer/demultiplexer, four-wavelength multiplexed light (of 1,270, 1,290, 1,310, and 1,330 nm in wavelength) from a laser diode is made incident vertically on the diffraction grating 11 through an optical fiber.
この波長合分波器における分波動作では、レーザダイオードからの４波長の多重化光（波長は１２７０ｎｍ，１２９０ｎｍ，１３１０ｎｍ，１３３０ｎｍ）を、光ファイバを介して回折格子１１に垂直に入射させる。 - 特許庁 - In the accelerated weathering test method, the wavelength of the ultraviolet ray emitted from the mercury lamp is 150-300 nm, and the intensity of the ultraviolet ray is 15-49 mW/cm^2.
水銀ランプから発せられる紫外線の波長が１５０ｎｍ〜３００ｎｍであり、該紫外線の強度が１５ｍＷ／ｃｍ^2〜４９ｍＷ／ｃｍ^2である上記の促進耐候性試験方法。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method by which an SiC wafer having a single crystal silicon carbide layer having a surface roughness of ≤0.5 nm (RMS) can be manufactured without subjecting the wafer to a CMP treatment.
ＣＭＰ処理を実施することなく、0.5ｎｍ（ＲＭＳ）以下の表面粗さの単結晶炭化シリコン層を有するＳｉＣウエハを製造することができる製造方法を提供する。 - 特許庁 - A polishing composite material includes carbon fiber of a multilayer structure having an outer diameter of 2 to 500 nm, having the aspect ratio of 5 to 15,000 and having a hollow structure in a central part, an abrasive grain and a base material.
本発明は、外径が２〜５００ｎｍ、アスペクト比が５〜１５０００で中心部に中空構造を有する多層構造の炭素繊維と砥粒と母材とを含む研磨用複合材。 - 特許庁 - The antimicrobial coating agent comprises metal particles that have at least parts of surfaces coated with a dispersing agent and have 50% cumulative diameter D_50 of particle size distribution of ≤100 nm and resin particles.
抗菌コート剤は、表面の少なくとも一部が分散剤で被覆された、粒度分布の５０％累積径Ｄ_50が１００ｎｍ以下である金属粒子と、樹脂粒子とを含む。 - 特許庁 - The zinc oxide needle crystal 11 contains copper or a copper-containing compound 13 at its tip and has a ratio of length to diameter of 10 or higher and a diameter of 5-500 nm.
先端部位において銅若しくは銅を含む化合物１３を含有し、径に対する長さの比が１０以上で、径が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下である酸化亜鉛針状結晶１１。 - 特許庁 - The optical disk substrate is formed by using a β-pinene polymer having a specific gravity equal to or higher than 0.85 and lower than 1.0 and ≥90% transmittance of light having 400 to 850 nm wavelength.
比重が０．８５以上、１．０未満であり、且つ４００〜８５０ｎｍの波長の光の透過率が９０％以上であるβ−ピネン重合体にて、光ディスク基板を構成した。 - 特許庁 - Laser light L1 having any one of wavelengths ranging from 300 to 700 nm that show less absorption rate to water 97 is output from a laser light source 33 to a methane hydrate layer 95.
水９７における吸収が小さい波長範囲３００〜７００ｎｍに含まれる何れかの波長のレーザ光Ｌ１をレーザ光源３３からメタンハイドレート層９５へ向けて出力する。 - 特許庁 - The elastomer has an unsaturated bond or a group having a compatibility towards the carbon nano fibers, and the carbon nano fibers have 0.7-15 nm mean diameter and 0.5-100 μm mean length.
エラストマーは、カーボンナノファイバーに対して親和性を有する不飽和結合または基を有し、カーボンナノファイバーは、平均直径が０．７〜１５ｎｍかつ平均長さが０．５〜１００μｍである。 - 特許庁 - The aquarium 10 furnished with lighting apparatuses is composed of an aquarium 11 and lighting apparatuses 12, 13 emitting green light to illuminate the aquarium and having an intensity peak at 500-600 nm wavelength.
水槽１１と、その水槽内を照らす、５００〜６００ｎｍにピーク波長をもつ緑色光を発光する光源を有する照明装置１２、１３とからなる照明付き水槽１０。 - 特許庁 - This is the letterpress printing plate used when the polymer electroluminescent element is manufactured by the letterpress reversing off-set method, and with an organic material layer A of a thickness of 50 to 100 nm on its surface.
凸版反転オフセット法により、高分子電界発光素子を製造する際に用いられる凸刷版であって、その表面に、厚さ５０〜１００ｎｍの有機材料層Ａを有する。 - 特許庁 - This dielectric ceramic is obtained by firing a powder of barium titanate having an average particle diameter of 10-90 nm and a mass change rate of 0.1-0.5% at 600-900°C.
平均粒子径が１０〜９０ｎｍであり、６００〜９００℃における質量変化率が０．１〜０．５％であるチタン酸バリウム系粉末を焼成して得られる誘電体セラミックスを得る。 - 特許庁 - The visible light-responsive photocatalytic film consists of carbon-doped anatase-type titanium dioxide containing 3-7 wt.% carbon in titanium dioxide and has 50-1,000 nm thickness.
可視光応答型光触媒膜は、二酸化チタンに３〜７重量％の炭素が含有された炭素ドープアナターゼ型二酸化チタンからなり、かつその膜厚は５０〜１０００ｎｍである。 - 特許庁 - This molecular fluorine (F2) laser is provided wherein a gas mixture comprises molecular fluorine for generating a spectral emission including two or three closely spaced emission lines around 157 nm.
ガス混合物が、約１５７ｎｍの２つまたは３つの緊密な間隔の輝線を含むスペクトル放出を発生するための分子フッ素を含む分子フッ素（Ｆ_２）レーザが提供される。 - 特許庁 - The galvannealed steel sheet has a flat part on the plated surface, and has an oxide layer including Zn and S on the surface of the flat part, of which the thickness is 10 nm or thicker.
めっき表面に平坦部を有し、その平坦部の表層にZnとSを含む酸化物層が形成され、その厚さが10nm以上であることを特徴とする合金化溶融亜鉛めっき鋼板。 - 特許庁 - Then, the leader part 6a of a source electrode 6 is cut surely (Figure 1 (a)-3) by irradiating it with a laser beam whose wavelength is 1064 nm from the surface side of the substrate.
波長が１０６４ｎｍであるレーザ光をＴＦＴアレイ基板の表面側から照射することにより、ソース電極６の引出し部６ａを確実にカットする（図１(a)-3 ）。 - 特許庁 - The magnetic pole film 14 may be an electroplated film grown on an electrode film 14 whose maximum crystal grain size is 20 nm or below, or an electroless plated film.
磁極膜１４は、最大結晶粒径が２０ｎｍ以下である電極膜１４の上で成長させた電気めっき膜であってもよいし、または、無電解めっき膜であってもよい。 - 特許庁 - The flake-like hydrous titanium oxide has such a layer structure that at least one peak of an X-ray diffraction pattern shows 2-4 nm d-spacing of lattice planes.
Ｘ線回折パターンの少なくともひとつのピークが２ないし４ｎｍのｄ面間隔を示す層状構造を有することを特徴とする薄片状含水酸化チタンを開示する。 - 特許庁
- 特許庁
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