「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 160 161 162 163 164 165 166 167 168 .... 287 288 次へ＞- To provide Y type zeolite of which the ratio of six-coordinate alumi num to the total aluminum amount is low and the volume occupied by fine pores with 1-5 nm diameters measured by a nitrogen adsorption method is large.
全アルミニウム量に対する六配位アルミニウムの割合が少なく、窒素吸着法により測定した、直径１〜５ｎｍの細孔が占める容積が大きいＹ型ゼオライトを提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming method for a heat developable silver halide photosensitive material by which interference fringes do not occur in an image when exposure is performed with laser light having a wavelength of 300 to <700 nm.
３００ｎｍ以上７００nm未満の波長のレーザー光で露光する際の画像中の干渉縞の発生しない熱現像ハロゲン化銀感光材料の画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a nitride semiconductor laser device of 430 to 580 nm in light emission wavelength, the nitride semiconductor laser device being improved in efficiency of light confinement in an active layer to have higher light emission efficiency.
発光波長４３０〜５８０ｎｍの窒化物半導体レーザ素子において、活性層への光閉じ込め効率が向上され、より高い発光効率を有する窒化物半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁 - This first laser beam is made incident on a first resonator 12 and is subjected to wavelength conversion by a solid-state laser crystal, by which the second laser beam of 650 to 900 nm in wavelength is generated.
この第１のレーザ光を第１の共振器１２に入射して、固体レーザ結晶により波長変換して、波長が６５０ｎｍ以上９００ｎｍ以下である第２のレーザ光を発生する。 - 特許庁 - In a particle composed mainly of a polysiloxane having 10-400 nm average particle diameter, a coloring matter-containing polysiloxane encloses 1-50 pts.wt. coloring matter in the particle based on 100 pts.wt. polysiloxane.
平均粒径が１０ｎｍ〜４００ｎｍのポリシロキサンを主成分とする粒子において、その粒子内に色素がポリシロキサン１００重量部に対して１〜５０重量部内包されている色素含有ポリシロキサン。 - 特許庁 - The characteristic of this adhesive is that the adhesive strength thereof is remarkably decreased only when irradiating the adhesive with the ultraviolet rays within the wavelength range of 300-600 nm and the adhered adherend can be peeled off.
３００〜６００ｎｍの波長域の紫外線を照射した場合にのみ、その接着力が大きく低下し、接着した対象物を剥離することが可能となることを特徴とする接着剤。 - 特許庁 - Moreover, the wave front recorded in the hologram 330 includes aberration compensation constituting parts and the about 780 nm laser beams converged on a CD substrate are made into a perfect or at least a limited diffraction.
また、ホログラムに記録された波面は収差補正構成部品を含み、ＣＤ基板に集束された７８０ｎｍのレーザビームはほぼ完全または少なくとも限定された回折となるようになっている。 - 特許庁 - To provide a fluorophor which is efficiently excited with primary radiation light having a main emitted light peak in a range of 350 to 470 nm and efficiently emits light in longer wavelength than that of the primary radiation light.
主発光ピークが３５０ｎｍ〜４７０ｎｍの範囲にある一次放射光により効率よく励起され、この一次放射光よりも長波長で効率よく発光する蛍光体を提供する。 - 特許庁 - A filter 23 is provided to remove light emission spectrum components in part of a wavelength range of 380 to 480 nm in emissive light from the white light source.
この白色光源からの放射光のうち、波長３８０ｎｍ〜４８０ｎｍの範囲内の少なくとも一部の波長領域における発光スペクトル成分を除去するようにフィルター２３がもうけられる。 - 特許庁 - The galvannealed steel sheet ahs a flattened part on the surface, and an oxide layer composed of <20 atomic % Al concentration and the balance substantially Zn and having ≥10 nm thickness exists on the surface of flattened part, and the producing method is provided.
平坦部を表面に有し、その平坦部表面のAl濃度が20at%未満で、残部が主としてZnからなる酸化物層が10nm以上の厚さで存在する合金化溶融亜鉛めっき鋼板及びその製法。 - 特許庁 - When the gasified raw material arrives at the discharge electrode 2a, the discharge is started between the discharge electrodes 2a, 2b to heat plasma, and an EUV light with a wavelength of 13.5 nm is emitted from the high temperature plasma.
気化した原料が放電電極２ａに到達すると、放電電極２ａ，２ｂ間で放電が開始してプラズマが加熱され、高温プラズマから波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光が放射される。 - 特許庁 - To increase luminescent intensity by 450 to 500 nm without degrading starting performance, of a metal vapor discharge lamp with iron as a main luminescent metal atom and iodine as halogen sealed.
主発光金属元素として鉄、ハロゲンとして沃素が封入されている金属蒸気放電灯において、始動性能を低下させることなく４５０〜５００ｎｍの発光強度を増加させる - 特許庁 - The maximum value of nitrogen atom concentration in a region within 10 nm from an interface between the semiconductor layer and the insulating film (interface between a channel region and the oxide film 8) is 1×10^21 cm^-3 or over.
半導体層と絶縁膜との界面（チャネル領域と酸化膜８との界面）から１０ｎｍ以内の領域における窒素原子濃度の最大値が１×１０^21ｃｍ^-3以上である。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a group III nitride light-emitting element for generating light having a wavelength longer than 500 nm and preventing deterioration in emission intensity caused by through-dislocation.
５００ｎｍよりも長波長の光を発生可能であると共に、貫通転位により発光強度の低下を避けることが可能な、III族窒化物発光素子を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - A light source 11 for treatment outputs treatment light (first light) L_1 which is the laser beam of a wavelength included in a wavelength range 400 to 460 nm (blue or blue-purple) by a prescribed repeating frequency.
処置用光源１１は、波長範囲４００ｎｍ〜４６０ｎｍ（青または青紫）に含まれる波長のレーザ光である処置光（第１の光）Ｌ_１を所定の繰り返し周波数で出力する。 - 特許庁 - The ramp 17 for the magnetic disk device is formed by molding a conductive thermoplastic resin composition containing 0.1 to 20 wt.% fine carbon fibers of ≤300 nm in average fiber diameter and ≥10 in length/diameter ratio.
平均繊維径が３００ｎｍ以下で、長さ／径比が１０以上の微細炭素繊維を０．１〜２０重量％含む導電性熱可塑性樹脂組成物を成形してなる磁気ディスク装置用ランプ１７。 - 特許庁 - The acrylic resin preferably comprises an acrylic resin composition where 25 to 45 wt% rubber elastic particles having a number average particle size of 10 to 300 nm are blended in a transparent acrylic resin.
このアクリル系樹脂は、透明なアクリル系樹脂に数平均粒径１０〜３００ｎｍのゴム弾性体粒子が２５〜４５重量％配合されたアクリル系樹脂組成物からなることが好ましい。 - 特許庁 - The ultraviolet irradiation is preferably carried out after the ball body is left alone for one day to one week after painting, the wavelength of the ultraviolet ray is preferably 250 to 400 nm and a high voltage mercury lamp is preferably used.
前記紫外線照射は、塗装後１日〜１週間放置した後行うことが好ましく、紫外線の波長は２５０〜４００ｎｍが好ましく、高圧水銀ランプを用いて行うことが好ましい。 - 特許庁 - A silicon oxide film is formed on the surface of a silicon substrate, the silicon substrate is thermally treated in a nitrogen gas atmosphere which contains a small amount of oxygen gas to reduce the silicon oxide film to 2.5 nm or below in thickness.
シリコン酸化膜が表面に形成されたシリコン基板に対して微量の酸素ガスを含む窒素ガス雰囲気中で熱処理を行い、シリコン酸化膜を膜厚２．５ｎｍ以下に薄膜化する。 - 特許庁 - Thus, the fluorine-added quartz glass can be provided which has a Si-Si bond concentration of 1×10^15 bonds/cm^3, and an ultraviolet light transmittance of ≥80% at a wavelength of 163 nm.
これにより、Ｓｉ-Ｓｉ結合濃度が１×１０^１５個／ｃｍ^３であって、波長１６３ｎｍにおける紫外光透過率が８０％以上のフッ素添加石英ガラスを供することができる。 - 特許庁 - The separation film includes an organic polymer such as polyvinylidene fluoride resin and inorganic fine particles of carbon black with an average particle size of 5-5,000 nm and a density of 0.05-0.5 ml/g.
ポリフッ化ビニリデン系樹脂などの有機重合体と、平均粒子径が５〜５０００ｎｍの範囲で、かつ、かさ密度が０．０５〜０．５ｍｌ／ｇであるカーボンブラックなどの無機微粒子とを含む分離膜とする。 - 特許庁 - The transparent color filter is manufactured by adding metal nano colloid particulate having 0.1 to 50 nm average particle size and ≤20% standard deviation of the average particle size as a coloring agent to the resin.
平均粒子径が０．１〜５０ｎｍであり標準偏差が平均粒子径の２０％以下である金属ナノコロイド微粒子を着色剤として樹脂に添加して透明カラーフィルターを作製する。 - 特許庁 - The glass sheet 2 has a transparent conductive film 4 formed on the surface on the opposite side to have a light transmittance of 75% or more in the wavelength region of 800 to 900 nm.
ガラス板２の反対側の表面には透明導電膜４を形成し、透明導電膜付きガラス板の状態で、波長域８００ｎｍ〜９００ｎｍにおける光線透過率を７５％以上とする。 - 特許庁 - The nano-fiber synthetic fiber contains a nano-fiber dispersion of a thermoplastic fiber having a number-average diameter of the single fiber of 1-500 nm and the total content ratio Pa of the single fiber of ≥60%.
単繊維数平均直径が１〜５００ｎｍで、該単繊維比率の和Ｐａが６０％以上である熱可塑性高分子のナノファイバー分散体を含むことを特徴とするナノファイバー合成紙。 - 特許庁 - To provide a heat-developable photosensitive material suitable for a medical image and having excellent gradation and high sensitivity suitable for exposure with laser light of 350-450 nm.
医療画像用途に適した熱現像感光材料であって、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍのレーザー光で露光に適した高い感度と優れた階調を有した熱現像感光材料を提供する。 - 特許庁 - By radiating the light having a wavelength peak at 300 to 700 nm from the light source 4, the light having the effect of promoting the plant growth or attracting insects is received by the bunker plants 3.
光源４から３００〜７００ｎｍに波長ピークを有する光を照射することにより、植物育成を促進する効果、又は虫を誘引する効果のある光をバンカー植物３に受光させる。 - 特許庁 - An oblique incident mirror which reflects EUV light of ≤60 nm in wavelength is a mirror having its surface processed by sandblasting to diffuse and reflect the EUV light.
波長６０ｎｍ以下のＥＵＶ光を反射する斜入射型のミラーにおいて、前記ミラーの表面が前記ＥＵＶ光を拡散反射するためサンドブラストにより表面処理を行ったミラーである。 - 特許庁 - The ultraviolet irradiation device 10 has a low-voltage discharge tube 12 that generates ultraviolet rays in the UVB wavelength region (280-315 nm) and irradiates the ultraviolet curing varnish to cure it with the ultraviolet rays.
紫外線照射装置１０は、ＵＶＢ波長域（２８０ｎｍ〜３１５ｎｍの波長域）の紫外線を発生させて紫外線硬化ニスに照射させて硬化させる低圧放電管１２を備えている。 - 特許庁 - The porous membrane comprises a polyamide-imide resin layer having ≥70°C glass transition temperature and ≥0.5 dL/g logarithmic viscosity, ≥0.5 absorbance at 700 nm of the whole and 5-100 μm membrane thickness.
ガラス転移温度が７０℃以上、対数粘度が０．５ｄｌ／ｇ以上のポリアミドイミド樹脂層を含み、かつ全体の７００ｎｍでの吸光度が０．５以上、膜厚が５〜１００μｍの多孔質膜に関する。 - 特許庁 - The antimicrobial fatty acid compound comprises granules with an average particle diameter of ≤500 nm which are made of an antimicrobial metal component and an inorganic oxide other than the antimicrobial metal component.
抗菌脂肪酸化合物は、抗菌性金属成分と該抗菌性金属成分以外の無機酸化物とから構成される平均粒子径５００ｎｍ以下の微粒子を含有することを特徴とする。 - 特許庁 - Thus, the light-transmitting yttrium oxide sintered compact having an etching rate of 5 nm/min or lower in a halogen plasma environment and having a transmittance of at least 10% in the visible and infrared regions can be obtained.
これにより、ハロゲン系プラズマ環境下でのエッチング速度が５ｎｍ／ｍｉｎ以下であり、かつ、可視・赤外領域での透過率が１０％以上である透光性酸化イットリウム焼結体を得る。 - 特許庁 - This cockroach-exterminating device has a flash lamp emitting UV rays in a wavelength range near to at least 185 nm, and is made to introduce ozone produced by the lighting of the flash lamp into a cockroach-exterminating region.
少なくとも１８５ｎｍを含む近傍の波長帯域の紫外線を発するフラッシュランプ６を具備し、該フラッシュランプの点灯で生成されたオゾンをゴキブリ駆除領域に導く様構成した。 - 特許庁 - The first absorption member 41 is disposed oppositely to a nozzle Nb ejecting black ink and the second absorption member 42 is disposed oppositely to nozzles Nc, Nm and Ny ejecting cyan, magenta and yellow inks, respectively.
第１吸収部材４１は、ブラックのインクを噴射するノズルＮｂに対向し、第２吸収部材４２は、シアンのインク、マゼンタのインク及びイエロのインクを噴射するノズルＮｍ，Ｎｃ，Ｎｙに対向するように配置する。 - 特許庁 - Since growing of the first light-emitting element 20 and the second light-emitting element 30 on the same substrate is unnecessary, a multi- wavelength laser having light-emitting wavelengths of about 400 nm can be easily obtained.
第１の発光素子２０と第２の発光素子３０とを同一基板上に成長させる必要がないため、容易に４００ｎｍ前後の発光波長を有する多波長レーザを得ることができる。 - 特許庁 - With the electrodeless discharge lamp, radiation intensity of the electromagnetic waves at a wavelength range of 300 to 450 nm radiated from the mercury becomes strong, at a location where electron density in the discharge gas turned into plasma is high.
無電極放電灯では、プラズマ化した放電ガス中の電子密度が高い場所では、水銀から放射される３００〜４５０ｎｍの波長領域の電磁波の、放射強度が強くなる。 - 特許庁 - The polymer film or the like includes at least one merocyanine compound having λ_max of 375 nm or less, and at least one compound represented by formula (II), which is different from the one merocyanine compound.
λ_maxが３７５ｎｍ以下のメロシアニン系化合物の少なくとも１種と、該化合物とは異なる一般式（ＩＩ）で表される少なくとも１種の化合物とを含有するポリマーフィルム等である。 - 特許庁 - The porous coating material 24 is formed by curing a liquid composition containing carbon particles of an average particle diameter 200-400 nm and thermosetting resin (typically resole resin) in a temperature region of not higher than 300°C.
多孔質被覆体２４は、平均粒子径２００〜４００ｎｍのカーボン粒子と熱硬化性樹脂（典型的にはレゾール系樹脂）とを含む液状組成物を３００℃以下の温度域で硬化させてなる。 - 特許庁 - The phosphor having a chemical composition represented by the formula (1) below, and having an external quantum efficiency of not less than 77% when excited with light having a wavelength of 400 nm is used.
下記式（１）で表わされる化学組成を有し、かつ、４００ｎｍの波長の光で励起した場合に外部量子効率が７７％以上であることを特徴とする蛍光体を用いる。 - 特許庁 - In the heat resistant resin film stuck on the substrate holding the light-receiving element of the optical pickup device, the light transmittance of the resin film is 80% or more at a wavelength of 405 nm.
光ピックアップ装置の受光素子を保持する基板に貼着する耐熱性樹脂フィルムであって、該樹脂フィルムの光透過率が波長４０５ｎｍにおいて８０％以上であることを特徴とする。 - 特許庁 - The infrared light-screening material 1 comprises transparent dielectric fine particles 2 with average particle diameter of 50-800 nm having a metal film 3 composed of Pd or Pd-Ag formed on the surface of the particles.
赤外遮蔽材料１は、平均粒径が50〜800nmの範囲の透光性誘電体微粒子２と、その表面に形成されたＰｄまたはＰｄ−Ａｇからなる金属被膜３とを有する。 - 特許庁 - The molded seamless belt surface shows a spectral reflectance of 0.5% to 1.5% at 450 nm wavelength and surface resistivity of 1×10^9 to 1×10^14 Ω/unit square.
成形されたシームレスベルト表面の波長４５０ｎｍにおける分光反射率は０．５％以上、かつ１．５％以下であり、表面抵抗率が１×１０^９乃至１×１０^１４Ω／□のシームレスベルト。 - 特許庁 - Further, the dispersant is silica particles having a particle size of 0.1 to 100 nm and the content is 0.1 to 10 mass% per the organic solvent in the paste.
また、前記分散剤が、平均粒径０．１〜１００ｎｍのシリカであり、含有率が、高耐食性防錆塗料用ペースト中の有機溶媒に対し、０．１〜１０質量％であることを特徴とする。 - 特許庁 - In the separator material for the fuel cell, an oxidized layer containing oxygen of 20 mass% or more is formed at the thickness of 5-30 nm between the Ti base material and the Au layer or the Au alloy layer.
Ｔｉ基材と、Ａｕ層又はＡｕ合金層との間に、Ｏが２０質量％以上含まれる酸化層が５〜３０ｎｍの厚みで形成されている燃料電池用セパレータ材料である。 - 特許庁 - To provide a phosphor material that exhibits strong emission of light in the near ultraviolet region by irradiation from an excitation source with a wavelength of 172 nm radiated by rare gas discharge as the excitation source of the phosphor.
蛍光体の励起源として、希ガス放電により放射される波長１７２ｎｍの励起源の照射により、近紫外線領域に強い発光を示す蛍光体材料を提供すること。 - 特許庁 - The method of manufacturing the substrate for pattern formation includes forming a coating of ≥1 to <10 nm in film thickness after drying by coating a substrate with a solution containing a surface treating agent having a specific structure.
基板上に、特定の構造を有する表面処理剤を含む溶液を塗布し、乾燥後膜厚が１ｎｍ以上１０ｎｍ未満である塗膜を形成するパターン形成用基板の製造方法。 - 特許庁 - To provide a silver halide photographic sensitive material having high sensitivity to exposure with a laser light source having 400-450 nm oscillation wavelength and good dot quality and independent of unevenness in dots.
４００ｎｍ〜４５０ｎｍの発振波長を有するレーザー光源による露光に対して高感度で、網点品質がよく、網点ムラの影響を受けないハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁 - The NOx storage reduction type catalyst is provided with hematite of a particle diameter of 3 nm-20 μm, an alkali metal, rhodium, and an oxide carrier comprising a metal oxide hard to form a complex oxide with iron.
粒径３ｎｍ〜２０μｍのヘマタイトと、アルカリ金属と、ロジウムと、鉄と複合酸化物を形成し難い金属酸化物からなる酸化物担体と、を備えることを特徴とするＮＯ_ｘ吸蔵還元型触媒。 - 特許庁 - The inkjet ink comprises at least a pigment, a dispersant, water, fine resin particles (A) dyed with a fluorescent dye and having an average particle diameter of 50-200 nm, and an organopolysiloxane-type surfactant.
少なくとも顔料、分散剤、水、蛍光染料で染着され平均粒子径が５０〜２００ｎｍの樹脂微粒子（Ａ）、及びオルガノポリシロキサン系界面活性剤を含むことを特徴とするインクジェット用インク。 - 特許庁 - In the method for treating the polysulfone molded article, the polysulfone molded article is preferably irradiated with visible light in the irradiation intensity without being irradiated with ultraviolet rays having wavelengths of <360 nm.
本発明のポリスルホン成形体の処理方法において、ポリスルホン成形体に、波長３６０ｎｍ未満の紫外光を照射せずに、可視光を前記照射強度で照射することが好ましい。 - 特許庁 - To provide an optical scanner using a reflection mirror, having high absolute reflectance and little wavelength dependence and little angular dependence in an optical scanner, using a short wavelength light source whose wavelength is ≤500 nm.
５００ｎｍ以下の短波長光源を用いた光走査装置において、絶対反射率が高く、波長依存性と角度依存性が少ない反射ミラーを用いた光走査装置を提供する。 - 特許庁
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