「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 158 159 160 161 162 163 164 165 166 .... 287 288 次へ＞- The layers have such composition and layer thickness as 0≤Δa.da+2Δb.db+2Δr.dr≤0.08 nm where strain amounts of the quantum well layer 6, barrier layers 4 and 8, and buffer layers 5 and 7 are Δa, Δb and Δr, respectively.
各層は、量子井戸層6,障壁層4,8,緩和層5,7 の歪量をそれぞれ、Δa,Δb,Δrとするとき、０≦Δa・ｄa＋２Δb・ｄb＋２Δr・ｄr≦0.08ｎｍで示される関係となる組成および層厚とする。 - 特許庁 - As part of these precipitates, large precipitates having 25 nm to 1 μm mean diameter which is defined as a value given by dividing the sum of major axis and minor axis by 2 are present at a rate of ≥10 pieces/μm^2.
この析出物の一部は、長径と短径の和を２で除したものとして定義される平均径が２５ｎｍ〜１μｍである大析出物が１０個／μｍ^2以上の割合で存在する。 - 特許庁 - An underlayer of an oxide film 5 having a step T1 of 450 nm or more is coated with a PSG film 7 of a single layer with a phosphorus concentration of 2 mol wt% to 5 mol wt% and a film thickness T1 of 1.3 μm or more.
４５０ｎｍ以上の段差Ｔ１のある酸化膜５の下地を、リン濃度が２ｍｏｌｗｔ％〜５ｍｏｌｗｔ％で膜厚Ｔ１が１．３μｍ以上の単層のＰＳＧ膜７で被覆する。 - 特許庁 - The color tone change (OD420 nm) of the acetic acid fermented product by concentration is indicated with color strength after concentration/color strength before concentration of 1.1-50, preferably 5-50, more preferably 10-50.
濃縮による酢酸発酵物の色調変化（ОＤ４２０ｎｍ）は、濃縮後の色強度/濃縮前の色強度＝１．１〜５０、好ましくは５〜５０、より好ましくは１０〜５０であることを指標とする。 - 特許庁 - The hardenable pressure-sensitive adhesive composition comprises a polymer-containing component curable by energy rays and a fine particle having an average particle size of at most 30 nm, and the solid content of the particle is caused to be 5-60 wt%.
粘接着剤組成物に、ポリマー含有エネルギー線硬化性成分と、平均粒径が３０ｎｍ以下の微粒子とを含有せしめ、微粒子の固形分含有率を５〜６０重量％とする。 - 特許庁 - In this configuration, when assuming that saturation magnetization of the storage layer is Ms (emu/cc) and a film thickness of the storage layer is t (nm), the film thickness t of the storage layer satisfies (1489/Ms)-0.593<t<(6820/Ms)-1.55.
この構成において、記憶層の飽和磁化をＭｓ（ｅｍｕ／ｃｃ）、上記記憶層の膜厚をｔ（ｎｍ）としたときに、記憶層の膜厚ｔは、（１４８９／Ｍｓ）−０．５９３＜ｔ＜（６８２０／Ｍｓ）−１．５５を満たすようにする。 - 特許庁 - To meet the requirements of setting MR element height accuracy to ±0.02 mm or lower and the shape accuracy of a floating surface to ±2 nm or lower in an MR head mounted on the magnetic disk device of a surface recording density 100 Gbit/in^2.
面記録密度１００Ｇｂｉｔ／ｉｎ^２の磁気ディスク装置に搭載するＭＲヘッドでは、ＭＲ素子高さ精度を±０．０２mｍ以下、浮上面の形状精度を±２ｎｍ以下が要求される。 - 特許庁 - The sintering process is carried out preferably within a temperature range of 700 to 1,600°C and under a pressure of 100 kg/cm, and the size of the MgO grains is preferably <100 nm.
温度７００〜１６００℃の範囲で圧力１００ｋｇ／ｃｍ以上で焼結工程を行うのが好適であり、また、ＭｇＯ粒子の粒子径が１００ｎｍ未満であるのが好適である。 - 特許庁 - The diamond fine particles are contained in a secondary particle state in the application liquid for the liquid crystal alignment layer and median size of a secondary particle is 0.7 to 2 times as thick as the film thickness of the liquid crystal alignment layer and is 30 to 500 nm.
ダイヤモンド微粒子は液晶配向膜用塗布液に2次粒子の状態で含まれており、2次粒子のメジアン径は、液晶配向膜の膜厚の０.７〜２倍であり、３０〜５００ｎｍである。 - 特許庁 - Moreover, it is preferable that the soft magnetic particle is composed of a magnetic material in which nano-crystalline structure of ≤100 nm crystal grain size comprises at least ≥50% of the structure and the insulator particle is a silica particle.
また、軟磁性粒子は組織の少なくとも５０％以上が結晶粒径１００ｎｍ以下のナノ結晶組織を有する磁性体であること、絶縁体粒子はシリカ粒子であることが好ましい。 - 特許庁 - To solve a problem wherein although slurry polishing or the like is used as a method of texture working, it is required that a present hard disc surface having average surface roughness of 1 nm or higher is further flattened, and a fiber further made finely thinner is desired as a polishing cloth therefor.
テクスチャー加工の方法としてスラリー研磨等が用いられているが、現在の平均表面粗さ１ｎｍ以上のハードディスク表面をさらに平滑化することが必要である。 - 特許庁 - The conductive particles (A2) have the average particle diameter of 20 to 80 nm, an absorbed oil amount of 40 to 100 cm^3/100 g, powder resistance of 0.05 to 0.15 Ωcm and a specific surface area of 20 to 130 m^2/g.
前記導電性粒子(A2)は、平均粒子径２０〜８０ｎｍ、吸油量４０〜１００ｃｍ^3／１００ｇ、粉末抵抗０．０５〜０．１５Ω・ｃｍ及び比表面積２０〜１３０ｍ^2／ｇを有する。 - 特許庁 - To provide an optical recording material made of an indocyanine compound particularly suitable for DVD-R and CD-R standards coincided with an optical recording medium by a laser having a wavelength of 620 to 830 nm.
６２０〜８３０ｎｍのレーザによる光学記録媒体に合致した、特にＤＶＤ−ＲとＣＤ−Ｒ規格に適したインドシアニン系化合物からなる光学記録材料を提供する。 - 特許庁 - The spherical activated carbon for direct hemoperfusion has 0.1 to 1 mm diameter, ≤0.14 H/C and 0.25 to 0.55 mL/g volume of a fine pore having 5 to 1,000 nm pore diameter.
血液の直接灌流用球状活性炭は、直径が０．１〜１ｍｍであり、Ｈ／Ｃが０．１４以下であり、そして細孔直径５〜１０００ｎｍの細孔容積が０．２５〜０．５５ｍＬ／ｇである。 - 特許庁 - Each core part of silver nanoparticles with the average particle diameter of 10 to 100 nm is composed of silver particles, the film part of each silver nanoparticle is formed on the whole or a part of the surface of the core part and is made of silver oxide or silver hydroxide.
平均粒径１０〜１００ｎｍの銀ナノ粒子のコア部は銀粒子からなり、銀ナノ粒子の膜部はコア部の表面の全部又は一部に形成され酸化銀又は水酸化銀からなる。 - 特許庁 - The iron oxide whisker has a diameter of 5 nm to 2 μm, a length of 1 μm to 1 mm, and an aspect ratio of 5-100,000, and is widely applicable to an electrode for a FED or for illumination.
また、酸化鉄ウイスカーは、直径５ｎｍから２μｍ、長さ０．１μｍから１ｍｍ、アスペクト比５から１０万であり、ＦＥＤ用或いは照明用などの電極として幅広い応用が可能である。 - 特許庁 - Since the intermittent metal liner provides a wettability equal to or better than that of the intermittent (??) CVD liner, an opening part of an opening width significantly narrower than 250 nm can be filled.
この不連続的な金属ライナは、連続的なＣＤＶライナと同等、もしくはそれ以上のぬれ性を与えるので、２５０ｎｍよりもずっと狭い開口幅を有する開口部を埋めることが可能となる。 - 特許庁 - In the thermosensitive recording element having an undercoat layer and a thermosensitive recording layer sequentially laminated on a support, the undercoat layer contains a latex with a particle diameter of more than 150 nm and a glass transition temperature of 0°C or lower.
支持体上に、下塗層、感熱記録層を順次積層して成る感熱記録体において、該下塗層に粒径が１５０ｎｍより大きく、ガラス転移温度が０℃以下であるラテックスを含有する。 - 特許庁 - Its specific surface area is 80 to 250 m2/g, its average diameter of a fine hole is 1.5 to 30.0 nm, and its coefficient of water absorption is 20 to 70% after it is completely immersed in water for 24 hours according to a gaseous nitrogen absorption method.
そして、窒素ガス吸着法によるその比表面積が８０〜２５０ｍ^２／ｇ、平均細孔直径が１．５〜３０．０ｎｍであり、かつ、２４時間全没吸水率が２０〜７０％としている。 - 特許庁 - The non-magnetic power is a needlelike particles with the mean particle diameter of 5 to 300 nm, the water-soluble cation amount of the backcoat layer is ≤100 ppm, and the water-soluble anion amount is ≤150 ppm.
前記非磁性粉末は、平均粒径が５〜３００ｎｍの針状粒子であり、かつ前記バックコート層の水溶性カチオン量は１００ｐｐｍ以下、水溶性アニオン量は１５０ｐｐｍ以下である。 - 特許庁 - The insulating layer provided with the opening parts has a thickness of 100 nm to 2 μm and is manufactured from an organic material or a material having a skeletal structure formed thereto by the bonding of silicon and oxygen.
開口部を設けた絶縁層は、１００ｎｍ乃至２μｍの厚さで、有機材料又は珪素と酸素との結合で骨格構造が形成された材料で作製することを特徴とする。 - 特許庁 - The particle diameter of a nodule derived from a resin component and existing on the surface of a substrate 20 is decreased to 300 nm or less by irradiating the surface of the substrate 20 comprising a resin material with microwave plasma P2.
樹脂材料からなる基材２０の表面に、マイクロ波プラズマＰ２を照射することにより、基材２０の表面にある樹脂成分由来のノジュールの粒子径を３００ｎｍ以下にする。 - 特許庁 - To manufacture a yttria microparticle which can be utilized as a red phosphor and does not need a high-temperature treatment, and has a high crystallinity and a particle diameter of ≤100 nm, and in which a luminescence center metal ion is dissolved as a solid solution.
赤色蛍光体として利用可能な高温処理を必要としない高結晶性かつ粒子径が１００ｎｍ以下の発光中心金属イオンを固溶したイットリア微粒子を製造する。 - 特許庁 - An α (hexagonal) silicon carbide mnocrystal wafer is characterised in that the off-angle from the (0001)c plane at a homoepitaxial growth surface having a surface roughness of 2 nm or less is 0.4 degrees or smaller.
表面が表面粗さ２ｎｍ以下のホモエピタキシャル成長面で（０００１）ｃ面からのオフ角が０．４度以下であることを特徴とするα型（六方晶）炭化ケイ素単結晶ウェハ。 - 特許庁 - A second insulating film 7 whose thickness is 400 nm is formed on the substrate, and a contact hole 8 is formed through the second insulating film 7 and the first insulating film 6a, and reaches the impurity diffusion layer 5.
基板上に、厚さ４００ｎｍの第２絶縁膜７を形成し、第２絶縁膜７及び第１絶縁膜６ａを貫通して不純物拡散層５に到達するコンタクトホール８を形成する。 - 特許庁 - To provide a light emitting diode which is formed with a reflecting surface that is high in reflectivity to light rays having wavelengths of 300 to 420 nm so as to be improved in luminous efficiency, and to provide a lighting device using the same.
波長３００〜４２０ｎｍに対して高い反射率を示す反射面を備えて発光効率の向上を図った発光ダイオードおよびこれを用いた照明装置を提供する。 - 特許庁 - An upper λ/4 retardation film is disposed between the upper substrate and the upper λ/2 retardation film, and includes Δnd2 of 130 to 150 nm and a slow axis forming at an angle of 101 to 120° in the clockwise direction with respect to the absorption axis.
上部λ／４位相差フィルムは130〜150nmのΔｎｄ２及び吸収軸から時計方向に101〜121°であるスロー軸を有し、上部基板と上部λ/２位相差フィルムとの間に位置する。 - 特許庁 - This polymer binder contains a polymer which has a glass transition temperature of -20°C to 25°C, an average particle size of 250-400 nm, and a content of the acid component of 1-10% based on the polymer weight.
ガラス転移温度が−２０℃から２５℃の範囲であり、平均粒子径が２５０から４００ｎｍの範囲であり、酸成分がポリマーの１から１０重量％の範囲で存在するポリマーを含むポリマーバインダー。 - 特許庁 - The polyester film for the release film is characterized by providing the maximum height (Rmax) of projections on one surface (a face A) of the polyester film of at most 500 nm and the unevenness of the thickness of at the most 5%.
ポリエステルフィルムの一方の表面（Ａ面）の最大突起高さ（Ｒｍａｘ）が５００ｎｍ以下であり、厚みムラが５％以下であることを特徴とする離型フィルム用ポリエステルフィルム。 - 特許庁 - The substrate layer has a glass transition temperature of 100-160°C, a heat conductivity of ≥0.10 W/(m×K), a light transmittance of ≤30% at the wavelength of 355 nm, and a Young's modulus of 5-20 GPa.
なおかつ基材層は、ガラス転移温度が１００〜１６０℃、熱伝導率が０．１０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上、波長３５５ｎｍでの光線透過率が３０％以下であり、ヤング率が５〜２０ＧＰａである。 - 特許庁 - Then, laser beams L1 having, for example, a wavelength of 800 nm are applied to the surface 1a to be treated, and recesses 1b are formed at the positions of the metal nano particles 2 each, thus roughening the surface 1a to be treated.
次に、被処理面１ａに例えば波長８００ｎｍのレーザ光Ｌ１を照射して、金属ナノ粒子２の位置にそれぞれ凹部１ｂを形成することにより被処理面１ａを粗面化する。 - 特許庁 - A reflective coating having a reflectance of 75% or more can be easily formed by polishing the surface of the silicon carbide sintered compact to a mirror polished surface having a center line average roughness (Ra) of 15 nm or less.
炭化珪素焼結体の鏡面研磨面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を１５ｎｍ以下とすることにより、反射率７５％以上の反射膜を容易に形成することができる。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition having such resist characteristics that a line-and-space (1:1) with a pattern process accuracy of ≤90 nm can be achieved with a satisfactory shape in the lithographic process for a semiconductor integrated circuit.
半導体集積回路のリソグラフィーによるパターン加工精度として９０ｎｍ以下のライン・アンド・スペース（１：１）を良好な形状で達成可能なレジスト特性を有するホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - This suture thread comprises a bundle of the microfiber consisting of a biocompatible thermoplastic resin and having an average fiber diameter of 10 to 1,000 nm has a tensile strength of 1.5 cN/dtex or higher, and a knot strength of 1.5 to 6.0 cN/dtex.
生体適合性の熱可塑性樹脂からなり、平均繊維径が１０〜１０００ｎｍの微細繊維束からなる、引張り強度が１．５ｃＮ／ｄｔｅｘ以上、結節強度が１．５〜６．０ｃＮ／ｄｔｅｘの縫合糸。 - 特許庁 - Under an oxidation atmosphere at a high temperature, at least a part of the Rh is formed into the solid solution of the hollow particles and under a reduction atmosphere at a high temperature, the solid solution of Rh of a grain size below several nm deposits.
高温における酸化雰囲気下ではＲｈの少なくとも一部が中空粒子に固溶し、高温における還元雰囲気下では固溶したＲｈが数ｎｍ以下の粒子径で析出する。 - 特許庁 - Preferably, the method is further provided with the treatment of the second component with an ultrahigh-pressure emulsifier under a pressure of 980-2,940 MPa to obtain particles having an average particle diameter of 200-1,400 nm.
さらに、第２の成分を、超高圧乳化機を用いて、９８０〜２９４０ＭＰａの範囲の圧力下に処理して、平均粒子径２００〜１４００ｎｍの粒子を得る工程を備えてることが好ましい。 - 特許庁 - A sensor medium comprises the metal film and the sensor material, wherein the size and interval of the openings which are periodically located in the first direction are not greater than 200 nm.
また、前記金属膜と、前記センサ材料とを有し、前記開口の第一の方向における周期的配列の方向の大きさと間隔が、ともに200nｍ以下であることを特徴するセンサ媒体。 - 特許庁 - Additionally, in the second monitor mark 102, the substrate 1 has, for example, a bent of 124 nm to make the phase difference between exposure light passing through a transparent film 2 and exposure light passing through the openings.
なお、第２のモニタマーク１０２では、半透明膜２を通過する露光光と開口部を通過する露光光とに９０度の位相差を付けるために、基板１が例えば１２４ｎｍ堀込まれている。 - 特許庁 - The drive of the motor is controlled to keep the motor rotating speed NM to the target rotating speed NMOBJ until the control shaft angle CSA substantially matches the control-shaft-angle command value CSACMD.
制御軸角度ＣＳＡが制御軸角度指令値ＣＳＡＣＭＤとほぼ一致するまで、モータ回転速度ＮＭが目標回転速度ＮＭＯＢＪに維持されるようにモータ駆動制御を行う。 - 特許庁 - Further, in the first process, an impregnated body can be impregnated in advance with the coating composition containing fine particles having hydrophobic surface and particle size of ≤100 nm in the dispersed state.
また、第一の工程においては、表面が疎水性で、粒子径が１００ｎｍ以下の微粒子を分散状態で含有するコーティング組成物を含浸体に予め含浸させておいてもよい。 - 特許庁 - To provide a storage medium which includes an organic pigment material with which the recording/reproduction can be performed with light of wavelength of less than 620 nm and to provide a recording method and recording device in which the medium is used.
本発明は６２０ｎｍ以下の波長の光で記録／再生できる有機色素材料を用いた記憶媒体、及びそれを用いる記録方法，記録装置を提供することである。 - 特許庁 - The magnetic layers 3, 5, 7, 9, 11, and 12 are composed mainly of tetragonal R2Fe14B (where, R represents Nd and/or Pr) and has thicknesses of 50-500 nm.
希土類合金磁性層３、５、７、９、１１、および１２は、主たる構成相が正方晶Ｒ_2Ｆｅ_1_4Ｂ（ＲはＮｄおよび／またはＰｒ）であり、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の厚さを有している。 - 特許庁 - The method of flattening the treated surface reduces maximum protrusion 5a, 5b, 5c length (Rmax) of the treated surface 2 to 10 nm or less by etching the treated surface using the near-field light.
さらに、被処理面の平坦化方法は、近接場光を用いて被処理面をエッチングすることにより、この被処理面２の最大突起５ａ，５ｂ，５ｃ長（Ｒｍａｘ）を１０ｎｍ以下とする。 - 特許庁 - The coating layer is provided on the surface having ≥1 nm center line average roughness (Ra) of the surface of the transparent film and smoothness of the surface of the transparent film is heightened and fine flaws are reduced.
また、該コーティング層は透明フィルムの表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上である面に設けられており、透明フィルムの表面の平滑性を高め、微細キズを低減させる。 - 特許庁 - To provide an optical scanner using a light source of a short wavelength of ≤450 nm, where a small spot diameter will always be obtained, even if the environmental temperature varies.
本発明は４５０ｎｍ以下の短波長光源を使用した光走査装置において、環境温度変化が生じても常に微小なスポット径を達成した光走査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a titania fiber having a small 50-1,000 nm mean fiber diameter, ≥50 μm fiber length and a large 10-1,000 m^2/g BET specific surface area, and a method for producing the same.
平均繊維径が５０〜１０００ｎｍと小さく、繊維長が５０μｍ以上であり、ＢＥＴ比表面積が１０〜１０００ｍ２／ｇと大きい、チタニア繊維およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an optical information recording medium which enables the high-density recording and reproduction of information to be properly performed by the application of laser light with a wavelength of 440 nm or less, and which has good preservability.
４４０ｎｍ以下のレーザー光照射によって行われる情報の高密度記録及び再生が良好に可能であり、かつ保存性の良好な光情報記録媒体を提供する。 - 特許庁 - When the undercoat layer comprises an ultraviolet curable resin, the undercoat layer is irradiated with ultraviolet rays so that the integrated quantity of light at a wavelength of 365 nm is >150 mj/cm^2 to <400 mj/cm^2.
アンダーコート層が紫外線硬化型樹脂である場合、アンダー層に３６５ｎｍにおける積算光量が１５０ｍｊ／ｃｍ２を超え４００ｍｊ／ｃｍ２未満となるように紫外線を照射する。 - 特許庁 - The paper charcoal invented is a paper charcoal in which papers are carbonized in a superheated steam, characterized in that the pores with pore diameters of 10-10^3 nm have cumulative pore volumes of 3,000 mm^3/g-4,000 mm^3/g.
本発明の紙炭は、紙類を過熱水蒸気中で炭化した紙炭であって、細孔径１０〜１０^３ｎｍの細孔の累積細孔容積が、３０００ｍｍ^３／ｇ〜４０００ｍｍ^３／ｇである。 - 特許庁 - A negative electrode active material layer is made of a material containing an active material composed of a carbon material, carbon fiber being linear and having an average diameter of 100 to 1000 nm, and a binder.
炭素材料からなる活物質と、線状で、平均直径が１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の範囲にある炭素繊維と、結合剤とを含有した材料で、負極活物質層を形成する。 - 特許庁
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