「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 155 156 157 158 159 160 161 162 163 .... 287 288 次へ＞- In the case of a vapor phase epitaxy of the second clad layer, the growth pit is formed in the front surface using the growth temperature as 1,000°C or less, and the vapor phase epitaxy is performed until the thickness is set to 100 nm or more.
第２クラッド層の気相成長に際しては、成長温度を１０００℃以下としてその表面に成長ピットを形成し、且つ、厚さが１００ｎｍ以上となるまで気相成長させる。 - 特許庁 - In the chain-like antimony oxide fine particles, the antimony oxide fine particles having an average particle diameter of 5 to 50 nm are connected in a chain form, and the average number of connected particles is within a range of 2 to 30.
平均粒子径が５〜５０ｎｍの範囲にある酸化アンチモン微粒子が鎖状に連結し、平均連結数が２〜３０個の範囲にあることを特徴とする鎖状酸化アンチモン微粒子。 - 特許庁 - The adjacent microlenses 26 are connected to a boundary part 26a so as not to be included in a substantially flat region, and the boundary part 26a of the adjacent microlenses has a thickness of 10 nm or more.
また、隣接するマイクロレンズ２６は、境界部２６ａに実質的に平坦な領域を含まないように接続されており、隣接するマイクロレンズの境界部２６ａは、１０ｎｍ以上の厚みを有する。 - 特許庁 - The surface roughness of a substrate 10 as a base face on which a recording and reproducing magnetic layer is formed or the surface roughness of a dielectric film 5 formed on the surface of the substrate is adjusted to ≤0.3 nm.
記録再生磁性層が形成される下地面となる基板１０の表面、あるいはこの基板面上に形成される誘電体膜５の表面粗さを０．３ｎｍ以下とするものである。 - 特許庁 - The information recording medium has two or more recording layers, wherein a track pitch of the recording layer is in the range of 250 to 500 nm and a half-value width of the groove of the substrate is in the range of 47.5 to 72.5% of the track pitch.
２以上の記録層を有し、そのトラックピッチが２５０−５００ｎｍの範囲にあり、基板のグルーブ溝の半値幅がトラックピッチの４７．５％から７２．５％の範囲にある情報記録媒体。 - 特許庁 - To provide a reflection optical element which can make the light whose wavelengths is shorter than 157 nm having uniform intensity distribution with excellent efficiency, a lighting optical device using the element, and projection aligner.
１５７ｎｍ未満の光を効率良く均一な強度分布の光とすることができる反射型光学素子、及び該素子を用いる照明光学装置、投影露光装置を提供すること。 - 特許庁 - After a substrate 1 on whcih a trench 5 is formed is thermally oxidized, a first insulating film 7 having a film thickness of 30 to 80 nm and a strong membrane stress is formed by a high power CVD under high-temperatur condition.
トレンチ５を形成した基板１を熱酸化した後、高出力且つ高温条件でのＣＶＤにより厚さ３０〜８０ｎｍの膜応力の強い第１の絶縁膜７を形成する。 - 特許庁 - Tabular, granular or elliptic magnetic powder having average particle sizes of 5 to 50 nm is used as the magnetic powder to be added to a magnetic layer and the thickness of the magnetic layer is set at ≤0.09 μm.
磁性層に添加する磁性粉として、数平均粒子径が５〜５０ｎｍの板状、粒状ないし楕円状の磁性粉を使用し、そのうえで磁性層の厚さを０．０９μｍ以下に設定する。 - 特許庁 - As the method of coating the resin base material with the silicone resin with a high adhesion, after at least a surface roughness of Ra of 50 nm-500 μm is formed on the surface of the resin base material, the silicone resin is coated thereon.
樹脂基材上にシリコーン樹脂を密着性高くコーティングする方法として、少なくとも、樹脂基材の表面にＲａ ５０ ｎｍ〜５００μｍの凹凸を設けた後、シリコーン樹脂を塗布する。 - 特許庁 - A change rate of mercury penetration into the plurality of pores measured by a mercury penetration method using a mercury porosity meter is distributed to show a peak in the pore diameter range from 30 to 10,000 nm.
水銀ポロシメータを用いて水銀圧入法によって測定される複数の細孔への水銀の浸入量の変化率は、３０ｎｍ以上１００００ｎｍ以下の孔径にピークを示すように分布する。 - 特許庁 - To provide a lamp for testing weather and light resistant property capable of reducing estrangement between deterioration due to sunlight including energy of a visible area with 500 nm as a center and a result of the weather and light resistant property test, at the weather and light resistant property test of a sample.
試料の耐候光性試験において５００ｎｍを中心とした可視域のエネルギーを含む太陽光による劣化と耐候光性試験の結果との乖離を低減することができること。 - 特許庁 - The mean particle diameter of the silica particles is adjusted to 3-6 nm and the concentration of the silica particles in the essential component is adjusted to 0.28-2.25 wt.%.
上記主剤中のシリカ粒子の平均粒径を３〜６ｎｍの範囲内に設定するとともに、上記主剤中の上記シリカ粒子の濃度を０．２８〜２．２５ｗｔ．％の範囲内に設定する。 - 特許庁 - The Si upper layer 206 is thinned within a range of a layer thickness of 5 to 200 nm, and protruded source region 212, drain region 218, LDD region 216 and internal drain region 214 are formed.
Ｓｉ上部層２０６は、層厚５〜２００ｎｍの範囲に薄化され、隆起した、ソース領域２１２、ドレイン領域２１８、ＬＤＤ領域２１６及び内部ドレイン領域２１４が形成される。 - 特許庁 - The surface roughness Ra of a cylindrical base body mainly consisting of aluminum in the area of 10 μm X 10 μm is set to ≤2.5 nm in a surface state before heaping an amorphous silicon layer.
アルミニウムを主成分とする円筒状基体の、アモルファスシリコン層を堆積させる前の表面状態において、１０μｍ×１０μｍ範囲における表面粗さＲａが２．５ｎｍ以下の範囲とする。 - 特許庁 - The base material for supporting the catalyst comprises the composite oxide, which includes at least two kinds of metal elements, having a specific surface area of 250 m^2/g or above and having the peak of a pore distribution at 1-10 nm.
２５０ｍ^２／ｇ以上の比表面積を有し、１〜１０ｎｍに細孔分布のピークを有し、少なくとも２種の金属元素を含む複合酸化物から成る触媒担持用基材。 - 特許庁 - When manufacturing a polycrystalline silicon TFT1, a gate electrode 6 is formed using silver as a conductive material having a wavelength of 300-700 nm and an average reflection factor of 50% or higher.
多結晶シリコンＴＦＴ１を製造するにあたって、波長が３００〜７００ｎｍにおける平均反射率が５０％以上の導電材料としての銀を用いてゲート電極６を形成する。 - 特許庁 - (1) This composite yarn comprises the modified cross-section regenerated cellulose fibers having 1.1-10 degree of modified cross section of the fibers and 10-50 nm fiber surface roughness parameter Ra measured under an atomic force microscope.
(1) 繊維の異型度が１．１〜１０で、原子間力顕微鏡で測定した繊維表面粗度パラメーターＲａが１０〜５０ｎｍである異型断面再生セルロース繊維を含有する複合糸。 - 特許庁 - When electrical discharge is caused by applying a high-frequency voltage to the cold anodes 5 and 6 to irradiate vacuum ultraviolet rays of 172 nm from the xenon, the phosphor layer 2 irradiates near ultraviolet rays efficiently.
冷陰極５、６に高周波電圧を印加して放電を発生させ、キセノンから１７２ｎｍの真空紫外線を放射させると、蛍光体層２は近紫外線を効率良く放射する。 - 特許庁 - Further, in the optical glass comprising SiO_2 and B_2O_3 by 3 to 70% in total and having a thickness of 10 mm, the transmissivity in the wavelength of 546 nm is preferably ≥70%.
更に、ＳｉＯ_２とＢ_２Ｏ_３の合計量を３〜７０％含有し、厚みが１０ｍｍの前光学ガラスにおいて、５４６ｎｍの波長における透過率が７０％以上であることが好ましい。 - 特許庁 - After the formation with this steel material, quenching, tempering and grinding finish are executed to form chromium oxide films (Cr2O3) of 5 to 300 nm thickness on the track surfaces of the inner ring and the outer ring.
この鉄鋼材料で形成した後に、焼入れ、焼き戻し、研磨仕上げを施して、内輪および外輪の軌道面に５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の厚さのクロム酸化膜（Ｃｒ_2 Ｏ_3 ）を形成する。 - 特許庁 - When the device is applied to a relay, the device has a means in which exciting light having shorter wavelength band than a signal wavelength band of the relay by 100 nm is made incident on DCF being a constituting element of an optical relay.
中継器へ応用する場合は中継器の信号波長帯よりも約100nm 短い波長帯の励起光を光中継器の構成要素となっているDCF に入射する手段をもつ。 - 特許庁 - Pentaerythritol tetrakis (PEMP) was used as the polymerizable monomer, and anatase type titanium oxide having an average primary particle size of about 7 nm was used as finely divided titanium oxide as the metal oxide particulates.
重合性モノマーとしてペンタエリスリトールテトラキス（ＰＥＭＰ）を使用し、金属酸化物微粒子として微粒子化した酸化チタンとして一次平均粒径約７ｎｍのアナターゼ型酸化チタンを使用した。 - 特許庁 - The achromatic lens corrects the color aberration of the vacuum ultraviolet ray area from 200 nm to an absorption edge wavelength on a short wavelength side, where the refractive indexes of the lithium fluoride and the magnesium fluoride are drastically changed.
この色消しレンズは、フッ化リチウムおよびフッ化マグネシウムの屈折率が大きく変化する２００ｎｍから短波長側の吸収端波長までの真空紫外線領域の色収差を補正する。 - 特許庁 - A Raman spectrum of a light emitting layer is obtained by irradiating an organic EL element that is an evaluation object in the organic EL display, with a monochromic laser beam having 532 nm of wavelength, using a laser Raman microspectrograph 11.
顕微レーザーラマン分光装置１１を用いて、有機ＥＬディスプレイの中の評価対象である有機ＥＬ素子に単色光の波長５３２nmのレーザー光を照射して発光層のラマンスペクトルを得る。 - 特許庁 - A surface treatment is performed to a surface of a heat radiation mechanism 2 of a bulb type LED luminaire by using a photocatalyst material such as titanium oxide which reacts with ultraviolet lays (400-250 nm).
電球型ＬＥＤ照明器具の放熱機構２の表面に紫外光（４００ｎｍ〜２５０ｎｍ）に反応する酸化チタンで代表される、光触媒材料の表面処理を行なう。 - 特許庁 - To attain irradiation with high luminescent efficiency, when using a curing material containing a photoinitiator having an absorption wavelength range, in short wavelength ultraviolet rays of 220-300 nm as an irradiation object.
２２０〜３００ｎｍの短波長紫外線に、吸収波長域を有する光開始剤を含有した硬化材料を被照射物として使用した場合に、高い発光効率の照射を実現する。 - 特許庁 - The color temperature is lowered by causing reddish light to effectively transmit the shade 15 with an average transmittance on the long wavelength side higher by more than 3% than the transmittance for light with a wavelength of 550 nm.
波長５５０ｎｍの光の透過率に対して長波長側の光の透過率が平均３％以上高いセード15により、赤色系の光を効果的に透過させ、色温度を低くする。 - 特許庁 - The number average particle diameter of the carbon black is preferably 30 nm or less, and the volatile part when the carbon black is heated at 950°C for 7 hours is preferably 1 mass% or more relative to the carbon black.
カーボンブラックの数平均粒径は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、カーボンブラックを９５０℃で７時間加熱したときの揮発分は、カーボンブラックに対して、１質量％以上であることが好ましい。 - 特許庁 - The other objective method for bleaching teeth comprises coating the surface of teeth with the composition described in either one of the Claims 1 to 4 (See the Specification) and irradiating the resultant coat with rays including component(s) ≥420 nm in wavelength.
歯牙の表面に請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物を塗布し、この塗布物に波長４２０ｎｍ以上の成分を含む光を照射することを含む、歯牙の漂白方法。 - 特許庁 - The conductive paste composition for an external electrode includes 100 parts by weight of conductive metal powder and 0.1 to 10 parts by weight of ceramic powder having an average particle size of 50 to 500 nm.
本発明による外部電極用導電性ペースト組成物は、導電性金属粉末１００重量部と、平均粒径が５０〜５００ｎｍであるセラミック粉末０．１〜１０重量部と、を含む。 - 特許庁 - A resist film of 0.3 μm thickness, which is formed of the chemically amplifying positive resist composition, has a light transmittance of 20 to 75% at 248 nm wavelength.
化学増幅型ポジ型レジスト組成物から形成されてなる厚さ０．３μｍのレジスト膜の、波長２４８ｎｍの光の透過率が、２０〜７５％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - When a phosphor wavelength shorter than 450 nm is cut out by use of B370 as an optical filter, the phosphor lifetime of a short phosphor lifetime component could be improved from 370 ns to 200 ns.
光学フィルタとしてＢ３７０を用い、４５０ｎｍより短い蛍光波長を取り出し場合、短い蛍光寿命成分の蛍光寿命を３７０ｎｓから２００ｎｓに改善することができた。 - 特許庁 - The substrate for a planographic printing plate has a hydrophilic layer, containing porous inorganic particles and two or more types of fine metal oxide particles having 100 nm or smaller average particle diameter and different from each other in average particle diameter.
多孔質無機粒子と、平均粒径１００ｎｍ以下でかつ平均粒径の異なる金属酸化物微粒子を２種以上含有する親水性層はを有する平版印刷版用支持体。 - 特許庁 - To provide a silica glass optical material that has high initial transmission to the excimer laser or excimer lamp of 155-195 nm wavelengths and a small fluctuation range in the refractive index (Δn) and shows excellent durability under irradiation therewith.
波長155〜195nmのエキシマレーザ、エキシマランプに対して初期透過率が高く、屈折率変動幅Δnが小さく、しかも長時間照射下での耐久性に優れたシリカガラス光学材料を提供する。 - 特許庁 - The metal wires 12 are made of metal constituting a metal layer formed on the fine rugged grid of a member to be extended as above mentioned and the pitch of neighboring metal wires 12 is 100 nm pitch level.
金属線１２は、上述したように被延伸部材の微細凹凸格子上に形成された金属層を構成する金属からなり、隣接する金属線１２のピッチは１００ｎｍピッチレベルである。 - 特許庁 - A medicinal preparation in the transparent package containing tranilast or its salt, wherein the transparent package is provided with a light shielding means which shields the light with wave length of 350-450 nm.
トラニラスト又はその塩を含有する医薬製剤を、波長３５０〜４５０ｎｍの光線を遮断する遮光手段が施されている透明包装体に入れてなる透明包装体入り医薬製剤。 - 特許庁 - A light of wavelength 660 nm, emitted from a semiconductor laser 5b, is almost all reflected by a beam splitter 55b, almost all passed through the beam splitter 55a and made to converge on the disk of the DVD standard.
半導体レーザ５ｂからの波長６６０ｎｍの出射光は、ビームスプリッタ５５ｂで殆んど全て反射し、ビームスプリッタ５５ａを殆んど全て透過し、ＤＶＤ規格のディスク２０４上に集光される。 - 特許庁 - A silicon substrate is cleaned in the condition that the etching quantity of the first silicon oxide 106 in a region 102 where the peripheral circuit is formed is made 0.01 to 0.2 nm in film thickness.
周辺回路が形成される領域１０２の第１シリコン酸化膜１０６のエッチング量が、膜厚にして０．０１ｎｍ以上０．２ｎｍ以下となる条件により、シリコン基板を洗浄する。 - 特許庁 - The nanoparticles have an average diameter of ≤10 nm and a variation coefficient of particle diameters of ≤20%, and are formed of a metal oxide single crystal or silicon dioxide.
本発明のナノ粒子は、平均粒子径が１０ｎｍ以下で、粒子径の変動係数が２０％以下であり、且つ、金属酸化物の単結晶からなるもの、あるいは、二酸化ケイ素からなるものである。 - 特許庁 - This plaque detection method is characterized in sticking the plaque dyeing agent having the constitution to the object in the oral cavity and then illuminating the light having the wavelength within 250-500 nm to the object.
また、上記構成の歯垢染色剤を口腔内の対象物に付着させた後、該対象物に２５０〜５００ｎｍの範囲内の波長を有する光を照射する歯垢検出方法とする。 - 特許庁 - To make it possible to prevent deviation from the design of a lithography pattern that is caused by the switching of lithograph devices, when forming a resist pattern that includes a layout with a minimum line width of 100 nm or less.
最小線幅が１００ｎｍ以下のレイアウトを含むレジストパターンの形成において、描画装置の切り替え作業に起因する描画パターンの設計からのずれを防止することを可能とする。 - 特許庁 - The alkaline-soluble resin is featured that Tg is 200°C or more, dissolution time to 5 wt.% sodium hydroxide solution is within 10 min and light transmittance at 350 nm is 5% or more.
Ｔｇが２００℃以上、５重量％水酸化ナトリウム水溶液に対する溶解時間が１０分以内、３５０ｎｍの光線透過率が５％以上であることを特徴とするアルカリ可溶性樹脂。 - 特許庁 - The composite semi-permeable membrane consists of a micro-porous support membrane and a cross-linked aromatic polyamide, and the support membrane has an average surface pore diameter of 30-40 nm.
微多孔性支持膜と架橋芳香族ポリアミドからなる複合半透膜であって、微多孔性支持膜の平均表面孔径が３０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることを特徴とする複合半透膜。 - 特許庁 - In the electrode foil for the capacitor and the capacitor using the same, an aluminum foil has at least a film which has a crystal size of 2.5 nm or less, or amorphous titanium oxide.
結晶サイズが２．５ｎｍ以下もしくはアモルファスの酸化チタンを有する被膜を少なくとも有するアルミニウム箔であることを特徴とするコンデンサ用電極箔及びこれを用いたコンデンサである。 - 特許庁 - The optical fiber has its mode field diameter increased to ≥5.5 μm at a wavelength of 1,100 mm by optimizing the design, and is capable of propagating single-mode light of 1,100 nm in wavelength.
本発明による光ファイバは、設計の最適化により、波長１１００ｎｍにおけるモードフィールド径を５．５μｍ以上に拡大しつつ、波長１１００ｎｍにおけるシングルモード光伝搬を可能とする。 - 特許庁 - A ratio of the total surface area of copper particles having particle sizes of 40-100 nm with respect to the total surface area of all the copper particles composing the metal layer 2 is 7% or more.
金属層２を構成する全ての銅粒子の表面積の合計に対して、４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の粒径を有する銅粒子の表面積の合計の比率は、７％以上である。 - 特許庁 - To provide a method for producing liquid-film nanocapsule food comprising applying shear stress to obtain droplets each having a diameter of ≤200 nm comprising oil-soluble food component liquid and preventing association thereof so as to obtain stable liquid-film nanocapsule food.
強い剪断力を与えて、油溶性食品成分の２００ｎｍ以下の液滴を得ると共に、その会合を防ぎ、安定した液膜ナノカプセル状食品を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - To realize a copper wiring in which the resistance rate of a wiring does not remarkably increases even if a trench forming the wiring has a width of not more than 70 nm and a value disclosed in the international semiconductor road map is met.
配線を形成するトレンチ幅が７０ｎｍ以下になっても配線の抵抗率が大幅に増加せず、国際半導体技術ロードマップに開示されている値を満たす銅配線を実現する。 - 特許庁 - (2) At least one aqueous dispersion of a water-insoluble photographically useful compound is contained in the silver halide color photographic photosensitive material and an average particle size of the dispersion is ≤100 nm.
２）該ハロゲン化銀カラー写真感光材料中に、水不溶性写真有用化合物の水性分散物を少なくとも一つ含有し、該分散物の平均粒子サイズが１００ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The organic-inorganic composite material contains a composite metal oxide nanoparticle which comprises Si and at least one metal element other than Si and has a size of 1-200 nm.
有機無機複合材料において、少なくとも１種のＳｉ以外の金属元素とＳｉとからなる複合金属酸化物ナノ微粒子を含み、ナノ微粒子のサイズが１ｎｍ〜２００ｎｍとなっている。 - 特許庁
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