「nm」を含む例文一覧(14378)

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  • This polyester film for the transfer medium substrate is a biaxially oriented polyester film, and mean surface roughness SRa on at least one side (side A), which is measured by a three-dimensional surface roughness meter, is set 13 nm or less.
    2軸配向ポリエステルフィルムであって、少なくとも片面(A面)の3次元表面粗さ計で測定した平均表面粗さSRaが13nm以下である転写媒体基材用ポリエステルフィルム。 - 特許庁
  • Because the metallizing temperature is lowered to about 400°C in the reduction atmosphere, thermal oscillation is decreased to suppress the aggregation and an effect to make the average particle diameter of the catalyst equal to or below 100 nm is attained.
    還元雰囲気とすると、金属化温度が400℃程度に低くなるので、熱振動を小さくして凝集を抑制し、触媒の平均粒径を約100nm以下とする効果が得られる。 - 特許庁
  • The silica gel powder according to this invention is characterized in that it has a specific surface area of 200-1,000 m^2/g, a pore diameter distribution curve having the main peak at 4 nm or smaller, and a hollow globular shape.
    本発明のシリカゲル粉末は、比表面積が200〜1000m^2/g、細孔分布曲線の主ピークの細孔直径が4nm以下であり、中空球の形状をしていることを特徴とする。 - 特許庁
  • At the wall and bottom parts of the wiring groove 5, a silicon oxide layer 6 is formed, where the silicon oxide layer 6 has a uniform thickness of approximately 20 nm or smaller, and at the same time a high density of 2.0 g/cm3 or higher.
    配線溝5の壁部及び底部には、20nm程度以下の均一な厚さを有すると共に2.0g/cm^3 以上の高い密度を有するシリコン酸化層6が形成されている。 - 特許庁
  • The magnetite which is mixed into the composition comprises such magnetite that a size of a longitudinal cross section of a crystal thereof is in a range of 10-100 nm and at least one or more of surfaces of discontinuity of the crystal exist in the cross section.
    上記マグネタイトとして、その結晶長辺断面の大きさが10〜100nmの範囲にあり、断面に結晶不連続面が少なくとも一面以上存在するものを配合する。 - 特許庁
  • In a color filter in which colored layers of plural colors including red are formed on a substrate, an average transmittance in a range of 430 to 460 nm, of the red-colored layer is 0.4% or lower.
    基板上に赤色を含む複数色の着色層が形成されたカラーフィルタにおいて、赤色着色層の、430〜460nmの範囲における平均透過率を0.4%以下とする。 - 特許庁
  • This system uses a light emitting element material exhibiting characteristics of external quantum efficiency not less than 5% and emission λmax not less than 590 nm and composed of a compound having a partial structure expressed by a general formula 1.
    外部量子効率5%以上、発光のλmax=590nm以上の特性を発揮する、一般式(1)で表される部分構造を有する化合物から成る発光素子材料を用いる。 - 特許庁
  • The environment-preservative silicon solution is the one wherein the nano silicon having a particle size of ≤3.5 nm is dispersed as the particulate simple substance and which fluoresces in any of red, green and blue.
    粒子サイズ3.5nm以下のナノシリコンが粒子単体で分散した溶液であって、赤色、緑色、青色の何れかが蛍光発光することを特徴とする環境保全性ナノシリコン溶液。 - 特許庁
  • A magnetic paint 10 having solid concentration NV (mass%) in the range of 3≤NV≤8 is applied, with ≤2,300 wet film thickness Tw (nm), on an underlayer 20 formed on a supporting body 12.
    固形分濃度NV(質量%)が3≦NV≦8である磁性塗料10を支持体12の上に形成された下地層20の上にTw≦2300の範囲のウェット膜厚Tw(nm)で塗布する。 - 特許庁
  • A non-magnetic metal element layer being an underlayer is provided between the substrate 2 and the amorphous magnetic layer 4, and average roughness Ra of this non-magnetic metal element layer surface is in a range of 0.7∼2.0 nm.
    また、基板2と非晶質磁性層4との間に下地層3である非磁性金属元素層を備え、この非磁性金属元素層表面の平均粗さRaが、0.7〜2.0nmの範囲となっている。 - 特許庁
  • However, if the metal protective film is too thick, the transmittance of the whole layered film decreases because of the absorption of light by the protective metal layer, and therefore, the film thickness of the protective metal layer is required to be <5 nm.
    また、保護金属層の膜厚が大きいと保護金属層による光の吸収により積層膜全体の透過率が低下するので、保護金属層の膜厚を5nm未満とする必要がある。 - 特許庁
  • The patterning of a photoresist 18, sensitive for UV light of 193 nm, is effected on the hard mask layer 16 so that a first width (CD) feature, on which a highly reliable patterning is effected with the wave length, is defined.
    193nmのUV光に感光するフォトレジスト18が、その波長で信頼度の高いパターニングが成された第1の幅(CD)のフィーチャーを画定するように、ハードマスク層16の上にパターニングされる。 - 特許庁
  • This tea beverage is obtained by adding 0.5-4 wt.% of a starch hydrolyzate which manifests an iodide coloration at 460 to 520 nm, to an extract of tea in production of the tea beverage.
    茶飲料の製造に際し、460nm〜520nmにヨ−ド呈色を有する澱粉加水分解物が茶飲料に0.5〜4質量%含まれるように茶抽出液に添加すること。 - 特許庁
  • As the abrasive particle, single crystalline diamond particles, the diameters of which are in the range of 1 to 50 nm, poly crystalline diamond particles or a cluster particles consisting of the single crystalline and poly crystalline diamond particles are used.
    研磨粒子として、粒径が1〜50nmの範囲にある単結晶ダイヤモンド粒子、多結晶ダイヤモンド粒子、又はこれら単結晶及び多結晶ダイヤモンド粒子からなるクラスター粒子が使用される。 - 特許庁
  • In this case, claim 1 claims a superoxide anion decomposing agent composed of platinum fine powder having a particle size of 6 nm or less as observed under a microscope which is prepared under a metal salt reduction method.
    この事例では、請求項1は、金属塩還元反応法により調製され、顕微鏡下で観察した場合に、粒径が6nm以下の白金の微粉末からなるスーパーオキサイドアニオン分解剤を請求している。 - 特許庁
  • To provide a novel metal cluster aggregate having a line width ranging from 10 to 300 nm, a polymethyl methacrylate-metal cluster complex for manufacturing the aggregate, and a method for manufacturing the same.
    発明の課題は、線幅が10〜300nmの範囲にある新規な金属クラスター集合体、この集合体を製造するためのポリメチルメタクリレート− 金属クラスター複合体及びその製造方法の提供。 - 特許庁
  • The film thickness of each photocatalyst TiO_2 layers 14-1, 14-2,..., 14-n, intermediate layer 16-1, 16-2,..., 16-n-1 and porous hydrophilic layer 17 is 5 to 50 nm.
    各光触媒TiO_2層14−1,14−2,…,14−n、各中間層16−1,16−2,…,16−n−1および多孔質親水層17の膜厚は、それぞれ5nm〜50nmである。 - 特許庁
  • A metallic particle carrier is obtained by depositing metallic particles on a carrier, and the metallic particles contain gold and copper and their average particle size is ≤10 nm.
    金属粒子が担体上に担持されてなる担持体であって、当該金属粒子が金及び銅を含有する粒子であり、かつ、その平均粒子径が10nm以下であることを特徴とする金属粒子担持体。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing technique of a semiconductor integrated circuit apparatus utilizing a defect modification technique of a reflection-type mask which uses an extreme ultra violet light (EUV) with a wavelength near 13.5 nm as an exposure light source.
    波長が13.5nm付近の極端紫外(Extreme Ultra Violet:EUV)光を露光光源とする反射型マスクの欠陥修正技術を利用した半導体集積回路装置の製造技術を提供する。 - 特許庁
  • A resistance layer 3 whose thickness and resistivity are less than 10 nm and 100 Ω/cm or more, respectively, is provided on the semiconductor region 2 and at the same time at least around a metal electrode 12.
    半導体領域2の上であって、かつ少なくとも金属電極12の周囲に、厚さが10nm未満であり、かつ抵抗率が100Ω・cm以上である抵抗層3が設けられている。 - 特許庁
  • The insulating layer 5 contains carbon, hydrogen, oxygen, and silicon, and is constituted of a material including an absorption peak caused by Si-CH_3 bonding in the vicinity of 1,274 nm when measured by FT-IR.
    絶縁層5は、炭素と水素と酸素とシリコンとを含み、かつFT−IRにより測定したときに1274nm付近にSi−CH_3結合に起因する吸収ピークを有する材質よりなっている。 - 特許庁
  • Surface roughness Ra of the thin silver film 50 on the conductor layer 30 becomes 0.2 μm or less, the glossiness becomes 0.8 or higher, and the reflectance for the light having a wavelength of 460 nm becomes 90% or higher.
    導体層30上の銀薄膜50の表面粗度Raは0.2μm以下となり、光沢度は0.8以上となり、波長460nmの光に対する反射率は90%以上となる。 - 特許庁
  • The sensor has a first silicon nitride layer having the thickness of about 1 to 5 nm on side edges of the sensor and on regions of a bottom shielding layer adjacent to the sensor below a ferromagnetic bias layer of the sensor.
    センサは、センサの側縁上で、およびセンサの強磁性バイアス層の下でセンサに隣接する下遮蔽層の領域上で、約1〜5nmの厚さを有する第1の窒化ケイ素層を有する。 - 特許庁
  • This fiber-reinforced composite material is provided by using an epoxy resin derived from a plant and a resin fiber having 100 to 2,000 nm mean fiber diameter to be able to improve its dynamic physical properties without substantially damaging its transparency.
    植物由来のエポキシ樹脂と平均繊維径100〜2000ナノメートルの樹脂繊維とを用いることにより、透明性を実質的に損なうことなく力学物性を改良することが可能となる。 - 特許庁
  • To provide a transmission optical fiber having an expanded effective area ≥120 μm^2 and an effective cut-off wavelength <1,600 nm without degradation of other optical characteristics of the optical fiber.
    光ファイバの他の光学特性が劣化せずに、120μm^2以上の拡大された実効面積を有し、かつ1600nm未満の実効カットオフ波長を有する伝送用光ファイバを提供すること。 - 特許庁
  • When a high-frequency voltage is applied to the cold cathodes 5 and 6 to generate an electric discharge to radiate vacuum ultraviolet rays 172 nm in wavelength from the xenon, the fluorescent layer 2 radiates white rays of light in high efficiency.
    冷陰極5、6に高周波電圧を印加して放電を発生させ、キセノンから172nmの真空紫外線を放射させると、蛍光体層2は白色光を効率良く放射する。 - 特許庁
  • This conductive polyvinyl alcohol-based fiber is characterized in that the cross section of the fiber has a skin-core structure, wherein copper sulfide fine particles having an average particle diameter of ≤500 nm are finely dispersed in the core layer.
    繊維断面がスキン−コア構造であり、且つそのコア層に平均粒子径が500nm以下の硫化銅微粒子が微細に分散されてなることを特徴とする導電性ポリビニルアルコール系繊維。 - 特許庁
  • The metalized plastic molding comprises, at least one transparent thermoplastic material layer 1, at least one metal layer 2 of 5-250 nm thickness, and an electroluminescent compound layer 3.
    少なくとも1つの透明な熱可塑性材料層1、5〜250nmの厚さを有する少なくとも1つの金属層2、および電界発光性化合物含有層3を具有する金属化プラスチク成形品。 - 特許庁
  • Also, the transmittance of the light should be set to -10 dB or lower, and the bandwidth should be set to 20 nm or more in second cut-off wavelength bands λ5 to λ6 at a longer wavelength side than for the communication wavelength bands λ3 to λ4.
    また、通信波長帯域λ_3〜λ_4より長波長側にある第2遮断波長帯域λ_5〜λ_6において、光の透過率が−10dB以下であって、この帯域幅が20nm以上である。 - 特許庁
  • The die pad of lead frame may contain a base material which comprises copper or copper based alloy and, an oxide thin film having a thickness of approximately 50 nm or less which comprises the oxide of base material formed on the base material.
    リードフレームのダイパッドは、CuまたはCu基合金からなる基材と、この基材上に形成された基材の酸化物からなる厚さ約50nm以下の酸化物薄膜とを有することができる。 - 特許庁
  • The needle-like tin oxide fine powder has an average minor axis particle diameter of 5-50 nm and an aspect ratio of ≥5, and contains germanium in an amount of 0.1-10% by mass based on tin.
    短軸平均粒子径が5〜50nmで、アスペクト比が5以上であり、かつゲルマニウムを錫に対して質量基準で0.1〜10%含有することを特徴とする、針状酸化錫微粉末である。 - 特許庁
  • The optical fibers 108 are excited by the laser beam emitted from the optical resonators, and the 455 nm oscillated is transmitted through the optical fiber 103 or 113 and is obtained as output.
    これら光共振器から発したレーザ光により光ファイバ108を励起し、発振した455nmの光を、光ファイバ103,113のどちらか一方を透過させた後に出力として得る。 - 特許庁
  • Until now, β-zeolite having an SiO_2/Al_2O_3 molar ratio of 20 to <30 and a crystallite diameter of ≥40 nm is obtained by using fluorine and thereby inevitably contains fluorine in the crystals.
    従来、20以上30未満のSiO_2/Al_2O_3モル比を有し、結晶子径が40nm以上のβ型ゼオライトはフッ素を用いなければ得られず、結晶中に必ずフッ素を含有するものであった。 - 特許庁
  • This soft resin composition comprises a copolyester resin (A), an acrylic polymer particle (B) having a glass transition temperature of the surface of 50°C or higher and an average particle diameter of primary particles of 300 nm or more, and a plasticizer (C).
    共重合ポリエステル樹脂(A)と、表面のガラス転移温度が50℃以上で一次粒子の平均粒子径が300nm以上のアクリル系重合体粒子(B)と、可塑剤(C)とを含む。 - 特許庁
  • When luminous flux having higher wavelength (e.g. 410 nm) than the reference wavelength is made incident on a filter element FLT, luminous flux transmitting through a selective transmission reflection plane TRP is more than reflecting luminous flux.
    基準波長より高い波長(例えば410nm)の光束がフィルタ素子FLTに入射した場合、選択的透過反射面TRPで透過する光束は、反射する光束よりも多くなる。 - 特許庁
  • The silicon film used for forming the channel forming region 26 is composed of nearly single-crystal silicon crystal grains grown from a crystal growth starting point and has a film thickness of 30-150 nm.
    チャネル形成領域の形成に用いられるシリコン膜は、結晶成長の起点部から成長した略単結晶のシリコン結晶粒からなり、その膜厚を30nm乃至150nmとする。 - 特許庁
  • A cobalt composite oxide manufactured in this method has a form of a ball or the like with a particle size of 10 nm through μm for surface area of 0.1 m2/g through 5 m2/g.
    この製造方法で製造されたコバルト系複合酸化物は、その形状が球形または類似球形、粒度が10nmないしμm表面積が0.1m^2/gないし5m^2/gである。 - 特許庁
  • This aqueous black ink composition for the writing utensil includes self-dispersion type carbon black with average particle size of 60-150 nm, where the content of the self-dispersion type carbon black is 3-16 mass%.
    平均粒子径が60〜150nmの自己分散型カーボンブラックを含み、前記自己分散型カーボンブラックの含有量が3〜16質量%である筆記具用水性黒色インキ組成物。 - 特許庁
  • The hydrophilic film is formed on a resin and is formed of a film containing silicon dioxide, and has voids with a size in the range of 20-200 nm.
    樹脂上に形成された親水膜であって、この親水膜は酸化ケイ素を含むからなる膜で形成され、かつ、この親水膜中に20〜200nmの大きさの空隙を有することを特徴とする。 - 特許庁
  • The carbon material for use in a power storage device electrode is characterized in that a total volume of fine holes in a range of diameters of 5.0-100 nm is 0.10 ml or more for 1 g of the carbon material.
    細孔直径5.0〜100nmの範囲内の細孔の総容積が炭素材料1g当たり0.10ml以上であることを特徴とする蓄電デバイス電極用炭素材料。 - 特許庁
  • The content of the metal component in the inorganic oxide particles is, in terms of oxide, within a range of 0.1-30 wt.% and the mean particle size of the inorganic oxide particle is within the range of 2-500 nm.
    無機酸化物微粒子中の金属成分の含有量は酸化物に換算して0.1〜30重量%の範囲にあり、無機酸化物微粒子の平均粒子径は2〜500nmの範囲にある。 - 特許庁
  • Positive electrode mixture paste for an alkaline battery contains an active material of nickel hydroxide powder, and a rare earth compound having an average particle diameter of 50 to 200 nm.
    本発明のアルカリ蓄電池用正極合剤ペーストは、水酸化ニッケル粉末を活物質とし、希土類化合物を含み、希土類化合物の平均粒子径を50〜200nmとしたことを特徴とする。 - 特許庁
  • The hybrid glassy material has a softening temperature of 50 to 350°C and meltability, and in which the reduction ratio of light transmittance due to the absorption by a silanol group with the light transmittance in 1,100 nm as the reference is ≤10%.
    軟化温度が50℃〜350℃、溶融性を有し、1100nmでの光透過率を基準としたシラノール基の吸収による光透過の低下率が10%以下である特徴を有す。 - 特許庁
  • The surface of SiC epitaxial substrate which is subjected to such a pretreating method is made free of the outstanding ruggedness and the Ra value (average value of surface ruggedness) is 40 nm based on the measurement of surface roughness meter.
    このような前処理方法を行ったSiCエピタキシャル基板表面には目立った凹凸はなく、表面粗さ計で測定したところ、Ra値(表面凸凹の平均値)が40nmであった。 - 特許庁
  • The plasmon waveguide 11 is constructed by aligning metal nanodots having a thickness size of ≤100 nm and composed of a metal material such as gold, silver, and aluminum, on a surface of a side of the transparent substrate 10 at regular intervals.
    プラズモン導波路11は、100nm以下の大きさをもつ厚み金、銀、アルミなどの金属材料による金属ナノドット13を、透明基板10の片側表面に等間隔に並べて構成されている。 - 特許庁
  • the multilayer semiconductor sample 31 is irradiated with UV-rays 30a having a wavelength in a range of 200-350 nm for one hour in the atmosphere at the room temperature and then heat-treated at 700°C for 30 min thus activating the p-type impurities.
    この半導体積層試料31に対して、大気中、室温にて波長200nm〜350nmの紫外線30aを1時間照射し、その後700℃で30分加熱処理することによりp型不純物を活性化させる。 - 特許庁
  • Most of emitted lights each having a wavelength of 650 nm from semiconductor laser 1a are reflected by a polarizing beam splitter 4a, and most of the lights transmit a polarizing beam splitter 4b, and are led to a disk 9.
    波長650nmの半導体レーザ1aからの出射光は偏光ビームスプリッタ4aで大部分が反射され、偏光ビームスプリッタ4bを大部分が透過してディスク9に向かう。 - 特許庁
  • To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency at ≤193 nm wavelength and excellent basic physical properties as a resist such as resolution or the like and suitable as a chemically amplifying resist.
    波長193nm以下における透明性が高く、解像度等のレジストとしての基本物性にも優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • The said layer 8 is composed to comprise a VUV phosphor that converts VUV light into UV light of 200 to 350 nm of wavelength and emits it in the direction of the said phosphor layer 10.
    前記層8は、プラズマ放電のVUV光を波長200〜350nmのUV光に転換し、前記蛍光体層10の方向にこれを放出するVUV蛍光体を含んで構成される。 - 特許庁
  • To provide high purity molybdenum ultrafine powder which is suitable for a sintering material, electronic component electrode material or the like, has a specific surface area size of ≤100 nm, and to provide an industrial and inexpensive production method therefor.
    焼結材料もしくは電子部品電極材料等に好適な、比表面積径100nm以下で高純度のモリブデン超微粉、及び工業的で低コストなその製造方法を提供する。 - 特許庁
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