「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 150 151 152 153 154 155 156 157 158 .... 287 288 次へ＞- To provide an original plate for a lithographic printing plate which is capable of recording an image by a laser emitting the light of a wavelength of 250-420 nm and is excellent in on-press developability and plate wear resistance, and a lithographic printing method.
波長２５０〜４２０ｎｍの光を放射するレーザーで画像記録可能であり、機上現像性および耐刷性に優れた平版印刷版用原版および平版印刷方法を提供する。 - 特許庁 - The ink-jet recording material in which hollow fine particles with a mean particle diameter of smaller than 400 nm and containing cationic groups are used in provided.
本発明の目的は、平均粒子径４００ｎｍ未満であり、かつカチオン性基を含有している中空微粒子を使用していることを特徴とするインクジェット記録材料によって達成された。 - 特許庁 - In a first texture working of a glass substrate, both surfaces of the glass substrate 1 are polished for 20 sec at 2 kg tape pressing pressure using polycrystalline diamond particles having 120 nm average particle diameter as polishing particles.
ガラス基板の１段目のテクスチャ加工は、平均粒径が１２０ｎｍの多結晶ダイヤモンドを砥粒として、テープ押しつけ圧２ｋｇで、ガラス基板１の両面を２０秒間研磨加工を行った。 - 特許庁 - In the recording strategy consisting only of a ratio for write power and bias power, a record mark is formed when a recording layer (a laminated recording layer) 18 is irradiated with a laser beam of blue wavelength (200-450 nm) or less.
ライトパワー及びバイアスパワーの比のみからなる記録ストラテジにて青色の波長以下（２００〜４５０ｎｍ）のレーザ光を記録層（積層記録層）１８に対して照射すると、記録マークが形成される。 - 特許庁 - In morphological observation of the membrane cross-section by an electron microscope, the width of the lamella structure composed of the polymer segment (B) to form the micro-phase separation structure shows that it is in the range of 5-200 nm.
膜断面の電子顕微鏡によるモルフォロジー観察において、ミクロ相分離構造を形成するポリマーセグメント（Ｂ）からなるラメラ構造の幅が、５〜２００ｎｍの範囲にあることを示す。 - 特許庁 - Metal oxide nanoparticles with primary particle size of 1-10 nm as expressed by MxOz, AxMyOz, Mx(DO4)y, AxMy(DO4)z (provided that, M: metal element, A: alkali metal or lanthanoid element) are dispersed highly and are carried on the surface of carbon particles.
MxOz、AxMyOz、Mx(DO4)y、AxMy(DO4)z（ただし、M:金属元素 A：アルカリ金属又はランタノイド元素）で表される一次粒子径１〜１０ｎｍの金属酸化物ナノ粒子を、カーボン粒子の表面に高分散担持させる。 - 特許庁 - Especially in a wavelength range of 400 nm or less, the concentration of oxygen in an optical-path purge space is controlled to be 0.5 ppm or above and 10 ppm or less so as to sustain the light quantity of the entire system of the optical device.
特に４００ｎｍ以下の波長域では光学装置全系光量も維持しなければならないので、光路パージ空間酸素濃度を０．５ｐｐｍ以上１０ｐｐｍ以下に制御する。 - 特許庁 - The resultant substrate glass has a property that when heat-treatment is carried out at the annealing point of glass+30°C for 10 hr, the transmittance in a wavelength region of 250-350 nm is increased compared to that before the heat treatment.
得られた基板ガラスは、ガラスの徐冷点＋３０℃の温度で１０時間熱処理すると、２５０ｎｍ〜３５０ｎｍの波長域における透過率が熱処理前と比べて高くなる性質を有している。 - 特許庁 - The skin tone concealer comprises a natural pigment-treated powder composed of a substrate powder and a natural pigment fixed thereon and having a maximum fluorescence emission peak in the range of 500-580 nm.
基材粉体上に固着された天然色素からなりかつ５００ｎｍ〜５８０ｎｍの範囲に最大蛍光発光ピークを持つ天然色素処理粉体からなることを特徴とする肌色補正剤。 - 特許庁 - To provide a method for precisely, quickly, and easily measuring the concentration of a trace amount of dioxins, especially that of 0.1 ng-TEQ/ Nm3 or less, by using an alternative index in measurement of dioxins concentration in exhaust gas.
排ガス中のダイオキシン類濃度の測定において、特に0.1ng-TEQ/Nm^3以下の極微量のダイオキシン類の濃度を、代替指標を用いて精度よく迅速にかつ簡易に測定する方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, even when the Cu seed layer is made into an extremely thin film of ≤60 nm, thinning of the thickness in the plated Cu film obtained in the vicinity of the center of the semiconductor substrate can be prevented.
これによって、Ｃｕシード層が６０ｎｍ以下の非常に薄膜になった場合においても、半導体基板の中心付近で得られるめっきＣｕ膜厚が薄くなることを防止できる。 - 特許庁 - Consequently, it is ensured that steering auxiliary force is applied to a steering system, though the steering auxiliary force may not be quite sufficient because optimum slip is not necessarily obtained according to the revolution speed Nm of the induction motor 10.
よって、誘導モータ１０の回転速度によっては、最適なすべりとはならないため、多少操舵補助力は不足するが、確実に操舵補助力を操舵系に付与することができる。 - 特許庁 - This iron oxide particle has a spinel structure, the volume accumulation particle size D_50 at accumulation volume of 50 vol.% is 5-100 nm, and the FeO abundance on the surface of the particle is 70% or more.
本発明の酸化鉄粒子は、スピネル構造を有し、累積体積５０容量％における体積累積粒径Ｄ_50が５〜１００ｎｍであり、粒子表面のＦｅＯ存在率が７０％以上である。 - 特許庁 - A TFT element 1 comprises: a P doped n^+a-Si film 6 formed on an a-Si film 5; and an Si film 7 of less than 1 nm formed on the P doped n^+a-Si film 6.
ＴＦＴ素子１は、ａ−Ｓｉ膜５上に形成されたＰドープｎ^＋ａ−Ｓｉ膜６と、Ｐドープｎ^＋ａ−Ｓｉ膜６上に形成された１ｎｍ以下のＳｉ酸化膜７を有している。 - 特許庁 - A substrate 3 to be treated with an amorphous silicon film 32 formed therein on a glass plate 31 therein has such a property that the substrate 3 absorbs part of a laser beam L for treatment having the wavelength of 532 nm and transmits part of the laser beam L.
ガラス板３１上にアモルファスシリコン膜３２を形成した被処理基板３は、波長５３２ｎｍの処理用レーザ光Ｌの一部を吸収し、一部を透過させる性質をもつ。 - 特許庁 - In an injection molding mold, the cavity face corresponding to the reflective face of the reflection mirror is formed from ceramics such as zirconia polished to ≤5 nm surface roughness, while other cavity face is formed from a steel material.
射出成形用金型においては、反射鏡の光反射面に対応するキャビテイ面を表面粗さ５ｎｍ以下に研磨したジルコニヤなどのセラミックスで形成し、他方のキャビテイ面は鋼材とした。 - 特許庁 - The structure has an electric insulating base material having metal particles present on its surface and the metal particles are separated by an electric insulating partition wall with a thickness of 2-20 nm.
金属粒子が表面上に存在する電気絶縁性基材を有する構造体であって、 前記金属粒子が、厚さ２〜２０ｎｍの電気絶縁性の隔壁により分離されている、構造体。 - 特許庁 - The liquid crystal display protection plate having an in-plane retardation value of 85 to 300 nm is constituted by a scratching-resistant resin plate in which a cured coating film is disposed on at least one face of a resin substrate.
樹脂基板の少なくとも一方の面に硬化被膜を形成してなる耐擦傷性樹脂板により、面内のリタデーション値が８５〜３００ｎｍである液晶ディスプレイ保護板を構成する。 - 特許庁 - The laminate has a structure wherein an inorganic layer is laminated on an organic layer, and the organic layer contains an anti-static agent and has a surface roughness of 2 nm or lower.
有機層の上に無機層を積層した構造を含む積層体であって、前記有機層が帯電防止剤を含みかつ前記有機層の表面粗さが２ｎｍ以下であることを特徴とする積層体。 - 特許庁 - On the surface of steel, a rust layer in which the size of crystallites of β-FeOOH components is ≤50 nm by an X-ray diffraction method is formed, and also, the specific surface area of the rust layer is controlled to ≥10 m2/g by a molecular adsorption method.
鋼材の表面に、β−FeOOH成分の結晶子サイズがＸ線回折法で５０nm以下の錆層を形成させ、且つ該錆層の比表面積を分子吸着法で１０m^2/g以上とする。 - 特許庁 - An SiNx film is formed on its surface in a thickness of about 100 nm by a P-CVD method, and a periodically striped mask is formed so that a ratio of area of opening portion/mask portion is 1:5.
その表面にＰ−ＣＶＤ法によりＳｉＮｘ膜を約１００ｎｍ製膜し、開口部とマスク部の面積比がそれぞれ１：５になるように周期的なストライプ状のマスクを形成した。 - 特許庁 - Preferably the reinforcing means possesses a form of particles with needle-like and/or flake-like shapes with a dimension of between 10 nm and 100 μm, or a fibrous form with an L/d shape factor greater than 10.
好ましくは、前記補強手段は、１０ｎｍ〜１００μｍの大きさの、針状および／または薄片状の粒子形態、もしくは、形状因子Ｌ／ｄが１０よりも大きいファイバー形態を有する。 - 特許庁 - The ceramic filter is provided with the NF membrane 142 which is formed on the inner wall of each of the plurality of flow paths 113 by a cross flow filtration method and whose content of coarse micro pores ≥5 nm is 5% or less.
このセラミックフィルタは、複数の流路１１３のそれぞれの内壁に、クロスフロー濾過法により形成され、５ｎｍ以上の粗大細孔含有率が５％以下のＮＦ膜１４２を備える。 - 特許庁 - In the fiber 12, a dispersion value DDCF (unit: ps/nm/km) and a dispersion slope SDCF (unit: ps/nm2/km) at a wavelength 1.55 μm satisfy -82≤DDCF≤-29 and 0.0023×DDCF≤SDCF≤0.033+0.0015×DDCF.
分散補償光ファイバ１２は、波長１．５５μｍにおける分散値Ｄ_DCF（単位：ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ）および分散スロープＳ_DCF（単位：ｐｓ／ｎｍ^2／ｋｍ）が -82≦Ｄ_DCF≦-29、0.0023×Ｄ_DCF≦Ｓ_DCF≦0.033＋0.0015×Ｄ_DCFの範囲にある。 - 特許庁 - Further, by controlling a flow of the above gas, a position control of a region in which an EUV light with a wavelength of 13.5 nm is irradiated in the high-density high-temperature plasma can be carried out in high accuracy.
また、上記ガスの流量を調整することにより高密度高温プラズマにおいて波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光を放射する領域の位置制御を高精度に行うことが可能となる。 - 特許庁 - The therapeutic agent contains a semiconductor nanodiamond having an activation energy level of 0.1-1.0 eV and a particle diameter of 5-300 nm in an amount of 0.0005-3.0 wt.% dispersed in or made to adhere to, a solution, an ointment or a fiber.
活性化エネルギーレベル０．１−１．０ｅｖ、粒子径５−３００ｎｍの半導体ナノダイヤモンドを重量比で０．０００５−３.０ｗｔ％溶液、軟膏剤又は繊維に分散付着させてなる。 - 特許庁 - As part of the precipitates, large precipitates in which the mean diameter defined as the one obtained by dividing the total of the major axis and the minor axis by 2 is 25 nm to 1 μm are present in the ratio of ≥10 pieces/μm^2.
この析出物の一部は、長径と短径の和を２で除したものとして定義される平均径が２５ｎｍ〜１μｍである大析出物が１０個／μｍ^2以上の割合で存在する。 - 特許庁 - An optical beam emitted from a light source, a semiconductor laser source 1 whose wavelength is 650 nm, is transformed into a parallel optical beam through a collimating lens 2, and the surface 5 of an optical recording medium is irradiated with the optical beam by an object lens 4.
光源である６５０ｎｍ半導体レーザ１から出射された光ビームは、コリメートレンズ２で平行光になって対物レンズ４により光記録媒体面５に照射される。 - 特許庁 - To provide a low cost chemically reinforced glass substrate for a magnetic disk capable of preventing thermal asperity and head crash even in a narrow magnetic head floating height of ≤10 nm and to provide the magnetic disk.
１０ｎｍ以下の極狭な磁気ヘッド浮上量においてもサーマルアスペリティ障害やヘッドクラッシュ障害を防止できる廉価な磁気ディスク用化学強化ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。 - 特許庁 - The image forming apparatus further includes an abrasive means for polishing the surface of a photoreceptor 1, wherein the 10-point average surface roughness of the surface of the photoreceptor 1 is controlled so as to be ≥10 nm.
画像形成装置については、感光体１の表面を削磨する削磨手段をさらに有し、感光体１の表面の十点平均面粗さが１０ｎｍ以上となるように制御されている。 - 特許庁 - The constitution of this optical information recording medium is given by removing a usual metallic layer from a conventional optical information recording medium or making the usual metallic layer thin to at most 30 nm in thickness.
従来の光情報記録媒体に用いられている金属層について金属層を除いた構成にするか、または金属層を薄くし３０ｎｍ以下の厚さとした光情報記録媒体とする。 - 特許庁 - A method for producing the polymer composite comprises drying absorbed water contained in the alumina particles having the major axis of 10-500 nm, so as to attain a loss on heating to 150°C from room temperature of not more than 2 wt%, and then mixing the dried alumina particles with the organic polymer, so as to form them into the composite.
長径10〜500nmのアルミナ粒子に含まれる吸着水を、室温から150℃までの加熱減量として２wt％以下になるまで乾燥した後、有機ポリマーに混合してコンポジット化する。 - 特許庁 - To obtain an optical recording medium which has a recording layer based on an organic dyestuff, is adaptable to high-speed recording and varies its reflectance and performs recording, when irradiated with recording light of wavelength 700 nm or shorter.
有機色素を主成分とする記録層を有し、高速記録に対応した、波長が７００ｎｍ以下の記録光照射により反射率を変化させて記録を行う光記録媒体を提供する。 - 特許庁 - According to the method, the silicon nitride film can be overetched while leaving the silicon oxide film even if a pad oxide film underlying a nitride film mask for forming an LOCOS film is as thin as 5 nm.
ＬＯＣＯＳ膜形成のための窒化膜マスク下方のパッド酸化膜が５ｎｍ程度に薄い場合にも、シリコン酸化膜を残した状態でシリコン窒化膜のオーバーエッチングを行なうことが可能となる。 - 特許庁 - In the silica alumina composite sol, silica alumina composite particles are spherical particles having the sphericity of 1 to 1.2 in a dispersing medium, and have the average particle diameter of 30 to 80 nm and the particle diameter distribution having the CV value of 30 or less.
シリカアルミナ複合粒子が、分散媒中において、真球度１〜１．２の球状粒子であり、平均粒子径３０〜８０ｎｍ、粒径分布がＣＶ値３０以下であるシリカアルミナ複合ゾル。 - 特許庁 - An AlN microcrystalline layer 13 of a thickness of ≥200 nm is formed on a silicon substrate 11 via a mask member 12 having a rectangular opening 12A by means of selective and lateral growth.
シリコン基板１１上に、矩形状の開口部１２Ａを有するマスク部材１２を介し、選択及び横方向の結晶成長を通じて厚さ２００ｎｍ以上のＡｌＮ微結晶層１３を形成する。 - 特許庁 - Acyloxylation reaction is performed using a catalyst prepared by making a carrier carry particles with a particle size of 10 nm or less, which contain at least one element of groups VIII-XI of the periodic table, thereon.
周期律表８族〜１１族の少なくとも１つの元素を含んでなる粒径１０ｎｍ以下の粒子が担体に担持されてなる触媒を用いて、アシロキシ化反応を行うことを特徴とする。 - 特許庁 - There is disclosed a procedure for coating the surface of a Cu Damascene wire with an element, having a thickness of 1 to 5 nm prior to deposition of an interlayer dielectric or dielectric diffusion barrier layer.
開示されているのは、層間の誘電体又は誘電体拡散障壁層の堆積に先立って、１から５ｎｍの厚さの元素でＣｕダマシン配線の表面をコーティングする手順である。 - 特許庁 - Thus, the substrate, having the bonding lead part 14 in which the ultra-thin thin film layer 26 of tin having a thickness of about 1 to 10 nm, is adhered to a surface of a substrate copper layer 20, can be obtained.
このようにして下地銅層２０の表面に、厚みがおよそ１ｎｍから１０ｎｍの錫のごく薄の薄膜層２６を付着させたボンディングリード部１４を有する回路基板を得ることができる。 - 特許庁 - This optical amplifying glass fiber is 25 cm in length, and its core glass is added with an Er, and then its wavelength width is 30 nm or larger sufficient to obtain a gain to a light of 1.50 to 1.59 μm in wavelength.
長さが２５ｃｍ以下であり、コアガラスにＥｒが添加されており、かつ、１．５０〜１．５９μｍの波長の光に対し利得が得られる波長幅が３０ｎｍ以上である光増幅ガラスファイバ。 - 特許庁 - The conductor paste contains a complex metal powder 3 in which a metal oxide 3b of a thickness of ≥10 nm is formed on the surface of each of metal particles 3a, a glass powder 5, and a resin 7.
金属粉末３ａの表面に１０ｎｍ以上の厚みの金属酸化物３ｂが形成された複合金属粉末３と、ガラス粉末５と、樹脂７とを含有することを特徴とする。 - 特許庁 - A hybrid control unit determines whether or not a deviation between the number of rotations Nm of a transmission member and the target number of rotations NmT is smaller than a threshold ΔN (S30) in an N range (YES, in S10).
ハイブリッド制御部は、Ｎレンジ時（Ｓ１０にてＹＥＳ）、伝達部材の回転数Ｎｍと目標回転数ＮｍＴとの偏差がしきい値ΔＮよりも小さいか否かを判定する（Ｓ３０）。 - 特許庁 - To provide the electrophotographic photoreceptor superior in sensitivity characteristics and small in light memory and good in repetition characteristics in the semiconductor wave-length region of 380-500 nm.
３８０〜５００ｎｍ付近の短波長の半導体レーザーの発振波長領域において、優れた感度特性と、光メモリーが小さく繰り返し特性の良好な電子写真感光体を提供する。 - 特許庁 - A first write once recording layer 14 which can record information by irradiation with a laser beam having a wavelength of 450 nm or less is provided on a first substrate 12 of a first optical information recording medium 10A.
第１光情報記録媒体１０Ａの第１基板１２上には、波長４５０ｎｍ以下のレーザ光照射による情報の記録が可能な第１追記型記録層１４が設けられる。 - 特許庁 - The substrate for solar cells has an anodic oxide coating film on a metal substrate, wherein the diameters of pores formed in the surface of the anodic oxide coating film are within the range of 10-600 nm.
金属基板上に陽極酸化皮膜を有する太陽電池用基板であって、前記陽極酸化皮膜の表面に形成された細孔の直径が１０ｎｍ〜６００ｎｍである太陽電池用基板。 - 特許庁 - The phase shift film 2 comprises a film, having a ratio of atomic percentages of the metal to silicon larger than metal:silicon=1:2 and is a dense film with ≤2 nm for root-mean-square (RMS) roughness.
位相シフト膜２に含まれる金属と珪素との原子％の比率が、金属：珪素＝１：２より大きい膜で構成され、かつ自乗平均平方根粗さ（ＲＭＳ）で２ｎｍ以下となる緻密な膜である。 - 特許庁 - To provide a method of forming a fine pattern of a semiconductor device capable of forming a fine pattern having a line thickness of 60 nm or less by preventing the deformation when patterning a hard mask.
ハードマスクをパターニングする際の変形を防止することにより、線幅が６０ｎｍ以下の微細パターンを形成することができる半導体素子の微細パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁 - A polyester film for a container has not less than 100,000/mm2 of a density of a projection having a 100 to 50 nm height at least on one surface and 0.10 to 0.15 of a surface orientation coefficient.
少なくとも片面の１００〜５０ｎｍの高さを有する突起の突起密度が１００，０００個／ｍｍ^2以上であり、かつ面配向係数が０．１０〜０．１５である容器用ポリエステルフィルム。 - 特許庁 - At least one surface of the polyolefin film is so smooth that the average surface roughness SRa measured about an area of at least 200 μm×200 μm is 20 nm or lower.
２００μｍ×２００μｍ以上の面積について測定された平均面粗さSRａが２０ｎｍ以下である平滑表面を、片面または両面に有することを特徴とするポリオレフィン系フィルム。 - 特許庁 - YN1 is so set that the inertia energy of the electric motor emitted while the motor speed Nm is reduced from YN1 to YN2 is equal to the energy necessary for cranking the engine to YN2.
モータ速度ＮｍがＹＮ１からＹＮ２に減速するまでに放出される電動モータの慣性エネルギーがエンジンをＹＮ２までクランキングするのに必要なエネルギーに等しくなるようにＹＮ１を設定する。 - 特許庁
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