To provide a semiconductor wafer which is suitable for manufacturing an element which has a line width of 65 nm or smaller and in which flat nature, nano-topography, and layer homogeneity are improved. 65nmまたはそれよりも小さい線幅で素子を製造するのに適しており、平坦性およびナノトポグラフィならびに層均一性を向上させた半導体ウェハを提供する。 - 特許庁
At least a part of the electrode systems 19, 20 is equipped with gold films 11, 23 having the thickness below 45 nm and metal base films 10, 22 provided between the gold films and the vibrator. 電極系19、20の少なくとも一部が、厚さ45nm以下の金膜11、23と、金膜と振動子との間に設けられている金属下地膜10、22とを備えている。 - 特許庁
The semiconductor laser device 1 comprises recesses 4 and 4 each having a depth Lr of 8.2 nm and disposed at both lateral ends of a light emitting stripe region 2 on a light emitting end face 3 of the device 1. 半導体レーザ装置1の光出射端面3に、発光ストライプ領域2の幅方向両端部に位置して8.2nmの深さLrを有する凹面4,4を形成する。 - 特許庁
To detect an alignment mark from a second surface side, even if a semiconductor substrate becomes thicker than 800 nm, when exposing a pattern on a second surface in accordance with a circuit pattern of a first surface. 第1面の回路パターンに合わせて第2面にパターンを露光する場合半導体基板が800nmより厚くなっても第2面側からアライメントマークを検出できるようにする。 - 特許庁
The first attempt to use the inner-shell losses for elemental microanalysis was made by Hiller and Baker (1944), who constructed an instrument which could focus 25 to 75 keV electrons into a 20 nm probe.
内殻(電子のエネルギー)損失を元素微小分析に利用する最初の試みは、HillerとBakerによってなされた (1944年)、彼らは、25〜75keVの電子を20nm(径)のプローブに集束できる装置を組み立てた。 - 科学技術論文動詞集
This inorganic fluorescent substance is characterized by containing ≥70 vol.% of an inorganic fluorescent substance ≤200 nm in average primary particle size and ≤1.0 μm in higher-order aggregate particle size. 平均一次粒子粒径が200nm以下であり、且つ高次凝集粒径が1.0μm以下である無機蛍光体が70容量%以上であることを特徴とする無機蛍光体。 - 特許庁
Even when a silicon nitride film is used whose thickness (d) is about 65 to 195 nm over the trimmed element 20, the above transmission factor of about 80% or above can be obtained. 絶縁層30として被トリミング素子20上での厚さdが約65〜195nm程度のシリコン窒化膜を用いても上述の約80%以上の透過率が得られる。 - 特許庁
The absorbent article contains a hydrophilic inorganic compound of 4-40 mass% of the total amount of the absorbent article, wherein the average primary particle size is 3-30 nm. 本発明は、平均一次粒子径が3〜30nmの親水性無機化合物を、吸収性物品全量に対し4〜40質量%含有する吸収性物品を提供する。 - 特許庁
The first light-shieldable film 13 is a film that is not substantially etched by fluorine-based (F-based) dry etching and is formed with a layer mainly comprising Cr and having a thickness of 3 to 15 nm. 第1の遮光性膜13はフッ素系(F系)のドライエッチングでは実質的にエッチングされない膜であり、Crを主成分とする膜厚3nm以上15nm以下の層からなる。 - 特許庁
Next, the molten metal of the above alloy is rapidly cooled in an atmospheric gas under the pressure of ≥30 kPa to produce a rapidly cooled alloy containing an R2Fe14B type compound phase having the average particle size of ≤50 nm. 次に、圧力30kPa以上の雰囲気ガス中で前記合金の溶湯を急冷し、平均粒径50nm以下のR_2Fe_14B型化合物相を含む急冷合金を作製する。 - 特許庁
The laminated polyester film has a laminated film, of which the product nd of a film thickness d and a refractive index n is 15-35 nm, on at least one side of a polyester layer (a base-material layer). 膜厚dと屈折率nの積ndが15〜35nmである積層膜をポリエステル層(基材層)の少なくとも片側に有することを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁
The method for manufacturing the carbonaceous porous powder comprises the steps of: kneading carbon black having 12-300 nm average particle size with the carbon precursor; firing or graphitizing the kneaded material; and crushing the fired or graphitized material. 平均粒子径12〜300nmのカ−ボンブラックを炭素前駆体と混捏し、焼成もしくは黒鉛化し、粉砕することを特徴とする炭素質多孔性粉末の製造法。 - 特許庁
The display substrate, having a phosphor layer with a convexoconcave surface on the substrate, is characterized in that the phosphor layer is coated with a protective film of 10-1000 nm in thickness. 表面に凹凸のある蛍光体層を基板上に有する表示基板において、該蛍光体層を膜厚が10〜1000nmの保護膜で被覆することを特徴とする表示基板。 - 特許庁
The rugged structure Y is two-dimensional rugged structure in which most frequent pitch P_y of ruggedness is 3 to 380 nm and a ratio R_y of most frequent height H_y to the most frequent pitch P_y is 0.5 to 10. 凹凸構造Y:凹凸の最頻ピッチP_yが3〜380nmであり、前記最頻ピッチP_yに対する最頻高さH_yの比R_yが0.5〜10である2次元凹凸構造。 - 特許庁
This poolytrimethylene terephthalate polyester fiber with the (010)-plane crystallite size being 12-15 nm is obtained by spinning the corresponding polytrimethylene terephthalate polyester at a take up velocity of e.g. 4,500-8,000 m/min followed by, as necessary, drawing. ポリトリメチレンテレフタレート系ポリエステルを、例えば4500〜8000m/分の引取速度で紡糸し、必要に応じて延伸して(010)面の結晶サイズが12〜25nmである繊維とする。 - 特許庁
At least a part of light emitting envelope of the ultraviolet lamp having emission spectrum with wavelength of 200 nm or less at least with mercury or xenon enclosed therein consists of the synthetic quartz which has spectral transmittance of 65% or more in wavelength of 165 nm, and contains fluorine of 200 wt.ppm to 10000 wt.ppm. 少なくとも水銀あるいはキセノンが封入され、波長200nm以下の発光スペクトルを有する紫外線ランプにおいて、該紫外線ランプを構成する発光容器の少なくとも一部分が、波長165nmにおける分光透過率が65%以上、かつ、フッ素を200wt.ppm以上10000wt.ppm以下の範囲で含有した合成石英ガラスでからなる構成とした。 - 特許庁
To provide an F-doped quartz glass material used in the lithographic application operating at a shorter wavelength than about 300 nm, which shows a lower polarization-induced birefringence or preferably, does not show the polarization-induced birefringence substantially even after being subjected to 10 million pulses of linearly polarized pulsed laser beam at 157 nm having a fluence of 250 μJ×cm^-2×pulse^-1 and a pulse length of 30 ns. フルエンスが250μJ・cm^−2・パルス^−1で、パルス長が30nsの、157nm直線偏光パルスレーザビームの1000万パルスをかけた後でも低い偏光誘起複屈折を示し、あるいはさらに望ましくは、実質的に偏光誘起複屈折を示さない、約300nmより短波長で動作するリソグラフィ用途に適する石英ガラス材料を提供する。 - 特許庁
In the magnetic recording medium, in which a coating layer having at least a magnetic layer including ferromagnetic powder and a binder is formed on a substrate, when the fine pores of the coating layer are measured by a N2 adsorption method, the peak values of the fine pore distribution obtained from an adsorption branch and from a desorption branch are 4-8 nm and 3-5.5 nm, respectively. 支持体上に強磁性粉末と結合剤を含む磁性層を少なくとも有する塗布層を設けてなる磁気記録媒体において、塗布層の細孔をN_2吸着法で測定したときの吸着枝から求めた細孔分布のピーク値が4〜8nmであり、かつ脱着枝から求めた細孔分布のピーク値が3〜5.5nmであることを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁
To obtain an optical head device, by which the stable information recording/reproducing operation is carried out in the optical head device compatible with three wavelengths of 785/660/410 nm conformed to CD/DVD/next-generation optical disk, by transmitting a linear polarization of a 660 nm wavelength band in this polarized state and mounting a phase unit on the device to rotate the polarizing direction by 90°. CD/DVD/次世代光ディスク対応の785/660/410nmの3波長互換の光ヘッド装置で、660nm波長帯の直線偏光はこの偏光状態で透過し、785nm波長帯の直線偏光は、偏光方向を90°回転する位相子を装置に搭載し、安定した情報の記録・再生が行える光ヘッド装置を得る。 - 特許庁
This silicone/acrylic composite rubber-based graft copolymer obtained by graft copolymerizing one or more vinylic monomers on a composite rubber comprising a polyorganosiloxane rubber and a polyalkyl (meth)acrylate rubber is characterized by having a number-average particle diameter of 300 to 2,000 nm and containing <300 nm particles in an amount of ≤20 vol.% in the whole particles. ポリオルガノシロキサンゴムおよびポリアルキル(メタ)アクリレートゴムを含む複合ゴムに一種以上のビニル系単量体がグラフト重合されてなるシリコーン/アクリル複合ゴム系グラフト共重合体であって、その数平均粒子径が300〜2000nmであり、かつ全粒子中に占める300nm未満の粒子の割合が20vol%以下であるシリコーン/アクリル複合ゴム系グラフト共重合体。 - 特許庁
This coating composition contains (A) a component of a silicon- containing material and (B) a component of modified metal oxide colloidal particles comprising (c) particles obtained by coating the surfaces of (a) colloidal particles of a metal oxide having 2-60 nm primary particle diameters as nuclears with (b) a coating material comprising colloidal particles of an acidic oxide, and having 2-100 nm primary particle diameters. (A)成分:ケイ素含有物質、及び(B)成分:2〜60nmの一次粒子径を有する金属酸化物のコロイド粒子(a)を核として、その表面を酸性酸化物のコロイド粒子からなる被覆物(b)で被覆して得られた粒子(c)を含有し、且つ2〜100nmの一次粒子径を有する変性金属酸化物コロイド粒子、を含有するコーティング組成物である。 - 特許庁
Disclosed is the heat radiation sheet characterized in that an aggregate of diamond is contained in rubber and the aggregate is obtained by drying dispersion liquid prepared by dispersing diamond of 10 to 500 nm in average particle size, obtained by re-aggregating diamond of 1 to 30 nm in average particle size in water, in water and the amount of blending is ≥10 vol.% to the heat radiation sheet. ゴム中にダイヤモンドの凝集体を存在させた放熱シートであって、上記ダイヤモンドの凝集体は、平均粒径1〜30nmのダイヤモンドを水中で再凝集させて得られる平均粒径10〜500nmのダイヤモンドを水中に分散した分散液を乾燥させて得られるものであり、かつ、配合量が放熱シートに対して10容積%以上である放熱シート。 - 特許庁
The X-ray detected by the method described above is discharged mostly from the region within the diffusion range of the incident electron in the observation sample support member, and if the diffusion range of the incident electron is controlled to about a few nm, the resolution of the scanning X-ray microscope can be not more than 10 nm which has been considered to be the theoretical limit by the conventional method. 上述の手法で検知されるX線は、概ね、観察試料支持部材内での入射電子の拡散範囲内の領域から放出されることとなり、当該入射電子の拡散範囲を数nm程度に制御すれば、得られる走査型X線顕微鏡像の分解能は、従来の手法の理論的限界とされていた10nm以下とすることが可能となる。 - 特許庁
The method for producing the surface-coated resin microparticles comprises pressurizing a mixture of the base resin microparticles of an average particle diameter of 100 nm to 10 μm with the functional microparticles of a mean particle diameter of 10 to 50 nm with at least one fluid pressurized to 5 to 100 MPa and selected from the group consisting of carbon dioxide, nitrogen, an organic solvent, and water. 平均粒子径が100nm〜10μmである基材樹脂微粒子と、平均粒子径が10〜50nmである機能性微粒子との混合物を、5〜100MPaの圧力に加圧された二酸化炭素、窒素、有機溶媒及び水からなる群より選択される少なくとも1種の加圧流体中で加圧する表面被覆樹脂微粒子の製造方法。 - 特許庁
To provide a new hydroxyl ester-containing polymer composition which is useful as a base resin of a resist for photoimaging to form an image in the manufacture of a semiconductor device and for the use of a photoresist (positive-working and/or negative-working) and which has a potential as a base resin for various purposes, and to provide a photoresist having improved performance at 193 nm and 157 nm. 半導体デバイス製作における像形成のための、光像形成、およびフォトレジスト(ポジ型および/またはネガ型)の使用において、レジストのベース樹脂として有用であり、その他多くの用途のベース樹脂としても可能性のある、新規なヒドロキシエステル含有ポリマー組成物を提供すること、ならびに193および157nmでの性能が改良されたフォトレジストを提供すること。 - 特許庁
This method for attracting fleas, characterized by attracting the fleas by the luminescence of a high luminance light-emitting diode having an emitted light main wavelength of 470±20 nm and a spectrum half-value width of 30±10 nm, when a forward electric current of 29 mA is applied, and the flea-exterminating device characterized by disposing a means for exterminating the fleas attracted by the above flea-attracting method. 順電流20mAを通電した時の発光主波長が470±20nmであり、スペクトル半値幅が30±10nmである高輝度発光ダイオードを発光させてノミを誘引することを特徴とするノミ誘引方法、および前記ノミ誘引方法により誘引されたノミを駆除するための手段を設けたことを特徴とするノミ駆除装置。 - 特許庁
In the expression (1), F represents a forming rate (nm/min) of the oxide film during electrolysis in anodizing; D represents a dissolution rate (nm/min) of the oxide film which has been immersed in the electrolytic solution used in the anodizing at the treatment temperature in the electrolysis, without being electrolyzed; and V represents voltage (V) during electrolysis in the anodizing. H=F/(D×V) (1) 前記式(1)中、Fは前記陽極酸化処理における電解時の酸化皮膜の形成速度(nm/min)を表し、Dは前記陽極酸化処理に使用する電解液中に電解時の処理温度で無電解にて浸漬処理した時の酸化皮膜の溶解速度(nm/min)を表し、Vは前記陽極酸化処理における電解時の電圧(V)を表す。 - 特許庁
This polyolefin-based agricultural film comprises a multi-layered or mono-layered substrate film, has an average transmittance of ≤10% for UV rays in a wavelength region of 320 to 350 nm, an average transmittance of ≥50% for light in a wavelength region of 380 to 400 nm, and has at least one layer comprising a polyolefin-based resin and at least one of triaryltriazine type UV ray absorbents. 320〜350nmの波長域の紫外線の平均透過率が10%以下であり、380〜400nmの波長域の光の平均透過率が50%以上であり、且つ、ポリオレフィン系樹脂とトリアリールトリアジン型紫外線吸収剤の少なくとも一種を含有してなる層を少なくとも一層有する、多層又は単層の基体フィルムからなるポリオレフィン系農業用フィルム。 - 特許庁
The hydrogen separating material is equipped with a porous body (preferably comprising a baked ceramic material) having a hydrogen separating layer (preferably an average pore size is 0.3-0.5 nm and thickness is 5-200 nm), of which the pore size has a size capable of permeating hydrogen selectively, provided at least to a part thereof, and keeps the hydrogen separating layer modified with a silazane compound. 本発明の水素分離材は、少なくともその一部に、孔径が水素を選択的に透過し得るサイズである水素分離層(好ましくは平均細孔径が0.3〜0.5nmの範囲及び厚さが5〜200nmの範囲)を有する多孔体(好ましくは焼成されたセラミック材から成る)を備え、該水素分離層がシラザン化合物で修飾されていることを特徴とする。 - 特許庁
An image recording medium contains a composition composed of one kind or more compounds having an acid-sensitive substituent in which C-C bonds or C-N bonds are generated by the intermolecular reaction or intramolecular reaction accompanying desorption of the substituent to generate changes on 360 nm-900 nm absorption zones and also contains a compound generating acid by the action of light or heat. 酸感受性の置換基を有し、該置換基の離脱に伴う分子間または分子内反応によりC−C結合またはC−N結合が形成され、360nm〜900nmの吸収域に変化を生じることができる1種類以上の化合物からなる組成物、および、光または熱の作用により酸を発生する化合物を含有する画像記録媒体。 - 特許庁
The retardation film includes the resin composition containing an acrylic resin having a ring structure in a main chain, wherein the resin composition contains a compound having a 2, 4, 6-triphenyl-1, 3, 5-triazine skeleton as a retardation-increasing agent which increases a retardation shown by the retardation film, and a thickness-direction retardation Rth for light of 589 nm wavelength is ≥30 nm. 主鎖に環構造を有するアクリル樹脂を含む樹脂組成物からなる位相差フィルムであって、前記樹脂組成物は、前記位相差フィルムが示す位相差を増大させる位相差増加剤として、2,4,6−トリフェニル−1,3,5−トリアジン骨格を有する化合物を含み、波長589nmの光に対する厚さ方向の位相差Rthが30nm以上である位相差フィルムとする。 - 特許庁
This coverlay film for protecting a conductor circuit of a printed wiring board is composed by including a layer (A) containing a thermoplastic resin and a layer (B) including an inorganic filler in a silicone resin, wherein average reflectivity at a wavelength of 400-800 nm is ≥70%, and the falling rate of the reflectivity at a wavelength of 470 nm after heat treatment for 4 hrs at 200°C is ≤10%. 熱可塑性樹脂を含有してなる層(A)とシリコーン樹脂に無機充填材を含有してなる層(B)とを備えて構成され、波長400〜800nmにおける平均反射率が70%以上であって、かつ200℃で4時間熱処理した後の波長470nmにおける反射率の低下率が10%以下であるプリント配線板の導体回路保護用のカバーレイフィルム。 - 特許庁
A polymerization catalyst for the polyester comprises a metal complex compound which is used as the catalyst in a polycondensation process of polyester synthesis reaction and has an organic ligand, wherein the complex compound has a molecular volume of not less than 0.2 nm^3 and not more than 0.4 nm^3 which is obtained by calculating a stable molecular structure of the compound according to a molecular orbital procedure based on its structural formula. ポリエステル合成反応の縮重合工程において触媒として、有機配位子を持った金属錯化合物であって、かつ、該錯化合物の構造式に基づいて安定分子構造を分子軌道法で計算した場合に得られる分子体積が0.2nm^3以上、0.4nm^3以下である、ポリエステル用重合触媒を用いて重縮合を行う。 - 特許庁
The photographing device includes: an imaging part 140 picking up an image by an optical system 146; and the casing 4 where at least a reflection layer 24 whose lightness L in a Lab color specification system is less than 40, and whose reflectance to light having wavelength of 900 nm or more and less than 1,700 nm is 30% or more, is partially provided, wherein the casing houses the imaging part. 光学系146による像を撮像する撮像部140と、Lab表色系における明度Lが40未満であって、波長900nm以上1700nm未満の光の反射率が30%以上となる反射層24が少なくとも一部に備えられ前記撮像部を収納する筐体4とを含むことを特徴とする撮影装置。 - 特許庁
Thermoplastic resin compositions comprise (A) 1-99 wt.% aromatic polycarbonate resin which has a relative fluorescence intensity of not more than 4×10-3 at 465 nm relative to a reference substance when the fluorescence spectrum is measured (with an excitation wavelength of 320 nm) and has been obtained by reacting a dihydric phenol with a carbonate precursor by the melt method and (B) 99-1 wt.% styrenic resin. (A)蛍光スペクトルを測定したとき(励起波長320nm)、基準物質に対する465nmにおける相対蛍光強度が4×10^-3以下であり、且つ二価フェノールとカーボネート前駆体とを溶融法で反応させて得られた芳香族ポリカーボネート樹脂1〜99重量%および(B)スチレン系樹脂99〜1重量%からなる熱可塑性樹脂組成物。 - 特許庁
The optical axis of laser light L1 of 650 nm for DVD which is emitted by a two-wavelength light source of the two-wavelength light source type optical pickup unit is aligned with the optical axis of a system, but the optical axis of the other laser light L2 of 780 nm for CD deviates from the system optical axis, so an optical axis adjusting element 10 diffracts it to adjust the optical axis. 2波長光源型の光ピックアップ装置における2波長光源から射出される650nmのDVD用レーザ光L1の光軸はシステム光軸に一致しているが、他方の780nmのCD用レーザ光L2の光軸をシステム光軸からずれているので、光軸調整素子10により回折することで光軸調整が行われる。 - 特許庁
Mainly by adding a suitable additive to a retardation compensation film, film size stability is improved, and also by a stretch process, a retardation compensation film has a retardation value (Re) in the in-plane direction (xy direction) within the range of 20 to 300 nm and a retardation value (Rth) in the film thickness direction (z direction) within the range of 30 to 500 nm. 主に位相差補償フィルムに好適な添加剤を添加することによって、フィルムサイズの安定性を向上すると共に、延伸プロセスによって位相差補償フィルムが面内方向(xy方向)におけるレターデーション値(Re)が20〜300nmの範囲内にあり、膜厚の方向(z方向)におけるレターデーション値(Rth)が30〜500nmの範囲内にあることとする。 - 特許庁
The transparent barrier film including a carbon deposition layer having a thickness of 0.5 to 10 nm at least on one face of the substrate comprising a plastic material and laminating an aluminium oxide layer having a thickness of 3 to 500 nm thereon, the transparent barrier film in which the carbon deposition face of the substrate is a treated face utilizing plasma of a reactive ion etching (RIE) mode, and its production method are provided. プラスチック材料からなる基材の少なくとも一方の面に、厚さ0.5〜10nmのカーボン蒸着層を有し、その上に厚さ3〜500nmの酸化アルミ層を積層した透明バリアフィルムや上記基材のカーボン蒸着面がリアクティブイオンエッチング(RIE)モードのプラズマを利用した処理済みの面である透明バリアフィルムおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
Though the optical axis of the laser beam L1 for a CD of 780 nm emitted from a 2-wavelength light source in the 2-wavelength light source type optical pickup device coincides with a system optical axis, since the optical axis of the other laser beam L2 for a DVD of 650 nm is shifted from the system optical axis, the optical axis is adjusted by performing diffraction by an optical axis adjusting element 10. 2波長光源型の光ピックアップ装置における2波長光源から射出される780nmのCD用レーザ光L1の光軸はシステム光軸に一致しているが、他方の650nmのDVD用レーザ光L2の光軸をシステム光軸からずれているので、光軸調整素子10により回折することで光軸調整が行われる。 - 特許庁
In the coated paper type ink-jet recording medium at least one side of the support of which is provided with one coating layer including pigment and organic polymer adhesive, at least one coating layer includes as the pigment a synthetic amorphous silica and titanium oxide, the average particle diameter of the primary particles of which is 5-100 nm and that of the secondary particles of which is 300-2,000 nm. 少なくとも支持体の片面に顔料及び有機高分子接着剤を含有する塗工層を一層設けた塗工紙タイプのインクジェット記録媒体において、塗工層の少なくとも一層が顔料として合成非晶質シリカと一次粒子の平均粒子径が5〜100nmで、且つ二次粒子の平均粒子径が300〜2,000nmの酸化チタンとを含有させる。 - 特許庁
The maximum diameter of the connected Au ball is below the double precision of the wire side of the extrafine wire, and the oxide layer of additional trace elements having a thickness of 8 nm-20 nm is formed as the surface layer of the ball part. 純度99.99質量%以上のAuからなる極細線が酸化性雰囲気下でAlパッドへボール・ボンディングされた半導体装置において、該接合されたAuボールの最大直径が極細線の線径の2倍以下であり、かつ、そのボール部の表層として8nm〜20nm厚の微量添加元素の酸化物層が形成されていることを特徴とする半導体装置。 - 特許庁
When the silicone oil present in one side of the material absorbing light of <300 nm wavelength is cured by being irradiated with light from the other side of the material, the silicone oil is cured by transmitting femtosecond laser having 300-600 nm wavelength through the material and focusing the laser to irradiate an aimed position with the laser. 波長が300nm未満の光を吸収する材料の一方の側にあるシリコーンオイルを該材料の他方の側からの光照射によって硬化させるにあたり、波長が300〜600nmのフェムト秒レーザを、前記材料を透過させ目的とする箇所に集光して照射することにより、シリコーンオイルを硬化させることを特徴とするシリコーンオイルの硬化方法。 - 特許庁
In the optical recording medium having a recording layer formed on a substrate, at least one kind of organic dyestuff having 500 to 650 nm maximum absorption wavelength of a film absorption spectrum and at least one kind of organic dyestuff having 660 to 720 nm maximum absorption wavelength of a film absorption spectrum are mixed into the recording layer. 基板上に記録層を設けてなる光記録媒体において、該記録層中少なくとも1種、膜の吸収スペクトル最大吸収波長が500〜650nmである有機色素と更に少なくとも1種、膜の吸収スペクトル最大吸収波長が660〜720nmである有機色素を混合してなる記録層であることを特徴とする光記録媒体。 - 特許庁
The current variation characteristics are set so that the motor current is reduced as the rotation speed of the drum increases and that the motor current corresponding to a standard speed NM becomes a standard current value DM when the motor current necessary for rotating the rotary drum at the prescribed standard speed NM is the standard current value DM in the state when the quantity of clothes is a prescribed standard quantity. 電流変化特性は、ドラム回転速度の上昇に伴いモータ電流が減少すると共に、衣類量を所定の標準量にした状態で回転ドラムを所定の標準速度NMで回転させるのに必要なモータ電流を標準電流値DMとして、標準速度NMに対応するモータ電流が標準電流値DMになるように設定される。 - 特許庁
This platinum-carrying titanium oxide carrier carries platinum microparticles on the surface of a titanium oxide carrier, wherein the titanium oxide carrier comprises titanium oxide microparticles with an average particle diameter of 1-100 nm, and more than 30% of the titanium oxide microparticles constituting the titanium oxide carrier has a crystal form of a Magneli phase structure, and the platinum microparticle has an average particle diameter of 1-5 nm. 酸化チタン担体の表面に、白金微粒子が担持されてなる白金担持酸化チタン担体であって、前記酸化チタン担体は、平均粒子径が1〜100nmの酸化チタン微粒子からなり、且つ、該酸化チタン担体を構成する酸化チタン微粒子の30%以上が、マグネリ相構造の結晶形態を有し、前記白金微粒子は、平均粒子径が1〜5nmである、白金担持酸化チタン担体。 - 特許庁
To provide a colored composition which is applied to an exposure method using a laser of 330-430 nm wavelength or a semiconductor laser of 405 nm as a light source and which cures in a short exposure time even with an increased pigment content, a method for producing a color filter using such a colored composition, and a color filter manufactured by such a method. 波長330〜430nmのレーザを光源とする、あるいは405nmの半導体レーザを光源とする露光方式に適用される着色組成物であって、色素の含有量を多くした場合でも短い露光時間で硬化する着色組成物、そのような着色組成物を用いたカラーフィルタの製造方法、およびそのような方法により製造されたカラーフィルタを提供する。 - 特許庁
To provide a multilayer halftone type phase shift mask in which a transmittance suppression effect that develops according to a high transmittance layer having occurred when using a halftone type phase shift mask comprising a conventional two layer or multilayer film in the wavelength range of 140-200 nm including the wavelength 157 nm of an F_2 excimer laser, does not become a problem; and also to provide a manufacturing method of the mask blank. F_2エキシマレーザの波長157nmを含む140〜200nmの波長範囲において、従前の2層又は多層膜からなるハーフトーン型位相シフトマスクを使用する上で生じていた、高透過率層に付随して発現してしまう透過率抑制効果が問題とならないような、多層型ハーフトーン型位相シフトマスク及びそのマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁
Composite particles which enables a light of a specific wavelength to pass through with the minimum light absorbed, and where a high refractive index material having a diameter of 1-500 nm on a surface of a polymer including a core and shell and having a diameter of 100 nm-3.5 μ is disposed to reflect or perform backscatter of lights of other specific wavelengths with the minimum light absorbed, are used. 特定の波長の光が最小限の吸収で透過することを可能にする一方で、多の特定の波長の光を最小限の吸収で反射または後方散乱させるため、コアおよびシェルを含む100nm〜3.5ミクロンの直径を有するポリマーの表面上に1nmから500nmの直径を有する高屈折率物質が配置された複合体粒子を用いる。 - 特許庁
Then, the fibers having the polymer coating films are treated with a dispersion containing photocatalyst particles composed of at least one kind selected from tungsten oxide fine particles and tungsten oxide composite material fine particles having an average primary particle diameter (D50) of ≥1 nm and ≤400 nm, dried, and the photocatalyst particles are fixed through the polymer coating films to the fiber surfaces. 次いで、ポリマーの被膜を有する繊維を、平均一次粒子径(D50)が1nm以上400nm以下の範囲の酸化タングステン微粒子および酸化タングステン複合材微粒子から選ばれる少なくとも1種の微粒子からなる光触媒粒子を含有する分散液で処理した後に乾燥させ、繊維の表面にポリマーの被膜を介して光触媒粒子を固着させる。 - 特許庁
The gas barrier laminate has the base material comprising a thermoplastic adhesive resin and the fine cellulose fiber layer, wherein fine cellulose forming the fine cellulose fiber layer contains a cellulose fiber having ≤200 nm average fiber diameter and the content of carboxy group in the cellulose constituting the cellulose fiber having ≤200 nm average fiber diameter is 0.1-2 mmol/g. 熱可塑性の接着性樹脂からなる基材と微細セルロース繊維層を有するガスバリア性積層体であって、前記微細セルロース繊維層を形成する微細セルロースが、平均繊維径が200nm以下のセルロース繊維を含み、前記平均繊維径が200nm以下のセルロース繊維を構成するセルロースのカルボキシル基含有量が0.1〜2mmol/gである、ガスバリア性積層体。 - 特許庁