「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 151 152 153 154 155 156 157 158 159 .... 287 288 次へ＞- This antistatic agent for the vinyl chloride-based resin is silica particles containing ≥99.0 mass% SiO_2 and ≤0.00005 mass% sodium, and ≥98 mass% silica particles have 30-1,000 nm particle size distribution.
SiO_2を99.0質量%以上、ナトリウムを0.00005質量%以下含有するシリカ粒子であって、該シリカ粒子の98質量％以上が30〜1,000nm の粒度分布をもつことを特徴とする塩化ビニル系樹脂用帯電防止剤とする。 - 特許庁 - To enable continuous operation over a long period of time by enhancing the output keeping ratio of ultraviolet rays of a discharge lamp for emitting ultraviolet rays with a region of 240 nm or less to achieve the conservation of maintenance and resources.
２４０ｎｍ以下の領域の紫外線を放射する放電灯の紫外線出力の維持率を高めることで、長期間にわたる連続運転を可能にして、省メンテナンス、省資源を図る。 - 特許庁 - The polyester film for the diffusion plate has a value of retardation within the range of 2,000-4,500 nm, ≤2.0 average value of a* value in crossed nicols and ≤4.0 maximum value thereof.
リターデーションの値が２０００〜４５００ｎｍの範囲であり、クロスニコルにおけるａ＊値の平均値が２．０以下であり、かつその最大値が４．０以下であることを特徴とする拡散板用ポリエステルフィルム。 - 特許庁 - The substrate for the liquid crystal element has the phase difference of the designed value ±10 nm generated by being stretched and ≥80% total light transmittance and is provided with at least one or more layer having a gas barrier effect.
延伸により設計値±１０ｎｍの位相差を発生させた全光線透過率が８０％以上であり少なくとも１層以上のガスバリア効果を有する層を備えた液晶素子用基板。 - 特許庁 - Each face-to-face dimension d_002 before and after performing heat treatment to the easy graphitization carbon material is 0.340-0.350 nm, and a specific surface area of the porous carbon material is 50 m^2/g or less.
易黒鉛化性炭素材料の熱処理を行う前後の面間距離ｄ_００２がいずれも０.３４０ｎｍ〜０.３５０ｎｍであり、また、多孔質炭素材の比表面積が５０ｍ^２／ｇ以下である。 - 特許庁 - The covering material comprises (1) a vinyl chloride resin and (2) a graft copolymer formed by graft-copolymerizing a vinyl monomer to a rubber polymer with an average particle size of 260 nm or more.
（１）塩化ビニル系樹脂と、（２）平均粒子径が２６０ｎｍ以上のゴム重合体に、ビニル系単量体をグラフト共重合させてなるグラフト共重合体とを含有してなる管継手被覆材。 - 特許庁 - In this sample cell for differential scanning calorimeter, a barrier layer with a thickness of 10-500 nm is provided inside the sample cell, and chemical reaction and alloying with the sample are prevented under a temperature higher than the fusing point of the sample.
試料容器内側に厚さ１０〜５００ｎｍのバリア層を設け、試料の融点より高温において該試料と化学反応および合金化を生じない、示差走査熱量計用試料容器。 - 特許庁 - To remove nanotopography (wavelength: 0.2 mm-20 mm, wave height: unevenness of one to several hundreds of nm) which has been generated on the surface of a semiconductor wafer and considered incapable of removal.
これまで除去不可能といわれてきた半導体ウェーハの表面に既に発生してしまったナノトポグラフィ（波長：０．２ｍｍ〜２０ｍｍ、波高：１〜数百ｎｍの凹凸）を除去することを課題とする。 - 特許庁 - The transparent base substrate with the transparent conductive film has a low light absorbing property over the light wavelength range from 800 to 1,100 nm, and appropriate irregularities on the surface, and is low in electric resistivity.
８００〜１１００ｎｍの光波長範囲に渡って、低い光吸収性であって、表面に適度な凹凸を有し、かつ、低い電気抵抗率である透明導電膜付き透明基体とする。 - 特許庁 - After recessed grooves 2 are formed on the surface of an insulating substrate 1 in prescribed patterns, fine metallic particle layers having a mean particle diameter of 1-300 nm are formed in the grooves 2, and plated metal layers are formed on the fine metallic particle layers.
絶縁性基体１の表面に、所定のパターンで凹溝２形成し、この凹溝２内に、平均粒径1〜300nmの金属微粒子層を形成し、さらにその上に金属めっき層を、形成する。 - 特許庁 - The optical retardation plate is produced by stretching a molding obtained with an extrusion molding method, has ≥50 nm retardation (Re) value and has depths of recessing parts of die lines formed on the surface satisfying an inequality (Δd/d)≤(1/Re).
押出成形法により得た成形体を延伸してなり、レターデーション（Ｒｅ）値が５０ｎｍ以上であり、表面に形成されたダイラインの凹部深さが、（Δｄ／ｄ）≦（１／Ｒｅ）、を満たす位相差板である。 - 特許庁 - An A7075 piece is etched, a roughness of micron order is produced on its surface, ultrafine unevenness made of a recess 40-100 nm in diameter is formed, and the surface layer is made of a thin aluminum oxide layer.
Ａ７０７５片にエッチングを施し、その表面にミクロンオーダーの粗度を生じさせ、且つ、４０〜１００ｎｍ径の凹部からなる超微細凹凸を形成させ、且つ、表層を酸化アルミニウムの薄層とする。 - 特許庁 - Moreover, adding to with this structure, a protective glass tube 15 or a protective tube 16 which transmits at least light in a 300 to 400 nm wavelength range may be installed on the outer face of the bulb 1 for reinforcing the lamp.
さらに、上記構成でバルブ１外面に、少なくとも３００〜４００ｎｍの波長域内の光を透過する保護ガラス管１５または保護チューブ１６を設けて、補強する構成も採られる。 - 特許庁 - The adsorbent may be constituted by porous graphite particles having an average pore diameter of 0.5 to 10 nm and a porosity measured by a BET method of 0.0001 to 0.5 ml/g.
また、前記吸着剤は、平均孔径が０．５〜１０ｎｍ程度であり、かつＢＥＴ法における空孔率が０．０００１〜０．５ｍｌ／ｇ程度である多孔質グラファイト状炭素粒子で構成されていてもよい。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of wire-grid polarizing plate capable of obtaining a wire-grid polarizing plate having a fine rugged grid of a pitch of 100 nm level or less which cannot be realized up to date.
今まで実現できなかった１００ｎｍレベル又はそれ以下のピッチの微細凹凸格子を有するワイヤグリッド偏光板を得ることができるワイヤグリッド偏光板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - With respect to the retardation compensator to be used in 400-500 nm blue light region, retardation R2_B shifted downward by making summed up film thickness of the multilayer film thinner is obtained and retardation compensation effect is improved therewith.
青色光領域４００ｎｍ〜５００ｎｍで用いる位相差補償素子については多層膜の合計膜厚を薄くして下方にシフトさせたレターデーションＲ２_Ｂ を得、位相差補償効果を改善する。 - 特許庁 - Further, the optical fiber is reduced in loss increases due to bending such that bending loss at the wavelength of 1,100 nm during bending to a radius of 2 mm is ≤1 dB/turn.
また、本発明による光ファイバは、曲げによる損失増加が低減され、半径２ｍｍで曲げたときの波長１１００ｎｍにおける曲げ損失が１ｄＢ／ターン以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide pellets of a cycloolefin polymer which is preferable for obtaining a molded item which does not suffer discoloration or degradation even after a long time exposure to a short wavelength-light of not more than 500 nm and is excellent in transparency.
５００ｎｍ以下の短波長の光を長時間照射した後でも変色や劣化が起きない透明性に優れた成形体を得るのに好適な環状オレフィンポリマーのペレットを提供する。 - 特許庁 - A non-colored resin composition containing a photosemiconductor having an average particle diameter of 10-20 nm and a silicon resin is applied onto a base material to form a coating film having an average film thickness of 0.1-1.0 μm.
平均粒径が１０〜２０ｎｍの光半導体粒子とシリコーン樹脂とを含有した非着色系の樹脂組成物を、基材に塗布し、平均膜厚が０．１〜１．０μｍの塗膜を形成する。 - 特許庁 - Then a message is communicated between monitor controllers WS1-WSm and the in-office monitoring devices N1-Nm conduct monitor control at a network level (entire network).
そして、監視制御装置ＷＳ１〜ＷＳｍと局舎内監視装置Ｎ１〜Ｎｍとの間でのメッセージの授受を行うことで、ネットワークレベル（ネットワーク全体）での監視制御を実現するようにした。 - 特許庁 - To provide a cosmetic composition having all of transparency, ultraviolet-shielding property of UV-A range (320-400 nm) and wide-angle scattering property of uniformly scattering light over a wide range, and further low in cost.
透明性、ＵＶ−Ａ領域（３２０ｎｍ〜４００ｎｍ）の紫外線遮蔽性、及び光を広範囲に均一に散乱できる広角散乱性を兼ね備え、更に安価な化粧品組成物の提供。 - 特許庁 - First thermal treatment (750°C) is performed in a nitrogen atmosphere to self-aligningly form silicide films 31, 32 and 33 (thickness: 30 nm each) on a gate region, a source region, and a drain region, respectively.
窒素雰囲気中で１回目の熱処理（７５０℃）を行い，ゲート領域，ソース領域，およびドレイン領域にそれぞれ自己整合的にシリサイド膜３１，３２，３３（膜厚３０ｎｍ）を形成する。 - 特許庁 - A signal light is made incident on the optical shutter elements 24 from a signal light source 11, and also control light mainly containing light of 380 nm or shorter wavelength is made incident thereon from a control light source 45.
光シャッタ素子２４へは信号光源１１から信号光が入射されると共に、制御光源４５から主として波長が約３８０ｎｍ以下の光を含む制御光が入射される。 - 特許庁 - The rubber composition comprises a crosslinkable rubbery polymer (A), a thermoplastic resin (B) and inorganic materials (C), and is crosslinked, wherein the mean particle diameter of (C) is 1-1000 nm.
（Ａ）架橋性ゴム状重合体、（Ｂ）熱可塑性樹脂、及び（Ｃ）無機系化合物とからなる架橋されたゴム組成物において、（Ｃ）の平均粒子径が１〜１０００ｎｍであることを特徴とするゴム組成物。 - 特許庁 - To provide a photosensitive element capable of ensuring satisfactory sensitivity and resolution and capable of obtaining a good resist shape, when light having a wavelength of 400-450 nm is used as exposure light.
露光光として波長４００〜４５０ｎｍの光を使用した場合に十分な感度及び解像度を得ることができ、然も良好なレジスト形状を得ることのできる感光性エレメントの提供。 - 特許庁 - The water-resistant layer 3a is formed by applying a water-resistant material including a binder and an inorganic acid in particles of the average particle diameter ≤200 nm to the surface of the substrate member 3b.
耐水性層３ａは、バインダーと、平均粒径が２００ｎｍ以下である無機酸化物とを含む耐水性材を前記基板３ｂの表面上に塗布し、焼成することにより形成される。 - 特許庁 - The method of refining and/or sterilizing the contaminated biological liquid in the state of holding the protein comprises irradiation of the liquid for a sufficient time by a UV radiation of a wavelength of 260-360 nm.
汚染された生物学的液体を十分な時間２６０nm〜３００nm波長のＵＶ放射線で照射することからなる、該液体をタンパク質保持の状態で精製および／または滅菌する方法。 - 特許庁 - The diameter of the silicon ultrafine particles is controlled to the range from 1.0 to 5.0 nm which is necessary to develop the quantum size effect by controlling the energizing amount to 0.5 to 2.0 F per 1 mol.
また、通電量をモルあたり０.５Ｆから２.０Ｆとすることにより、量子サイズ効果を発現させるのに必要な直径１.０ｎｍから５.０ｎｍの範囲のサイズにしたシリコン超微粒子である。 - 特許庁 - To prepare a cationic resin-modified silica dispersion not causing the aggregation of silica particles and comprising silica fine particles having <200 nm average particle diameter and a cationic resin.
シリカ粒子の凝集が発生しない、平均粒子径が２００ｎｍ未満のシリカ微粒子とカチオン性樹脂とからなる、カチオン性樹脂変性シリカ分散液およびそれを製造する方法を提供すること。 - 特許庁 - An n-contact electrode 31 is formed through deposition and lift-off, and a p-contact electrode 21 made of a silver alloy layer, having a film thickness 400 nm and containing Pd and Cu, is formed by sputtering and lift-off.
蒸着とリフトオフによりｎコンタクト電極３１を形成し、スパッタリングとリフトオフによりＰｄとＣｕを含む膜厚４００ｎｍの銀合金層から成るｐコンタクト電極２１を形成した。 - 特許庁 - In the lighting system, light in a specific wavelength range (480-520 nm) detected by a light receiving sensor 3 corresponds to the valley part of a spectroscopic spectrum K1 of illumination light generated by a light source 2.
この照明装置では、受光センサ３が検知する特定の波長領域(４８０〜５２０ｎｍ)の光は、光源２が発生する照明光の分光スペクトルＫ１の谷部に相当している。 - 特許庁 - This invention relates to the resin composition containing a cationically polymerizable group-containing organic compound as an organic resin component, wherein the cured body of the resin composition has a refractive index of 1.49 or below in 850 nm wavelength.
カチオン重合性基含有化合物を有機樹脂成分として含む樹脂組成物であって、該樹脂組成物は、硬化体の８５０ｎｍにおける屈折率が１．４９以下である樹脂組成物。 - 特許庁 - The metal particles 30 are two-dimensionally arrayed between the first electrode 20 and the isolation layer 40 and are separated at a distance of 2-15 nm from the photoelectric conversion layer 50 by the isolation layer.
金属ナノ粒子３０は、第１の電極２０と隔離層４０との間に２次元配列されており、隔離層４０によって光電変換層５０から２ｎｍ〜１５ｎｍだけ隔てられている。 - 特許庁 - In a destaticizer, including an emitter 13 as an electron emitter and a target 15, a thin film made of diamond particles having a particle size of 2 to 100 nm, is formed on a surface of the emitter 13.
電子放出部であるエミッタ１３とターゲット１５を備えた除電装置において、粒径が２ｎｍ〜１００ｎｍのダイヤモンド粒子からなる薄膜がエミッタ１３の表面に形成されている。 - 特許庁 - An embodiment where the volume average particle diameter of the resin particles is 10-300 nm and an embodiment where the amount of silicon (Si) derived from the silicone-modified acrylic resin in the recording ink is 50-400 ppm are preferable.
該樹脂微粒子の体積平均粒径が１０〜３００ｎｍである態様、該記録用インクにおけるシリコーン変性アクリル樹脂由来のシリコン（Ｓｉ）量が、５０〜４００ｐｐｍである態様が好ましい。 - 特許庁 - To provide a method for producing fine fibrous cellulose efficiently, namely a method for producing the fine fibrous cellulose with a maximum of a fiber width of ≤1,000 nm simply and efficiently.
本発明は、微細繊維状セルロースを効率よく製造する方法であり、最大繊維幅１０００ｎｍ以下の微細繊維状セルロースを簡便な方法により効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, the oxide layer having a mean thickness of ≥10 nm and containing, as essential components, Zn and metal particles mainly comprising Sn is deposited on the surface of the galvanized steel sheet.
以上により、めっき鋼板表面に、平均厚さが10nm以上であり、かつ、Snを主体成分とする金属粒子およびZnを必須成分として含む酸化物層が形成され、課題が解決される。 - 特許庁 - This composite material composition comprises (a) a (meth) acrylate having two or more functional groups and (b) silica fine particles having an average particle diameter of 1 to 100 nm, and a molded cured article obtained by crosslinking the composite material composition.
２つ以上の官能基を有する（メタ）アクリレート（ａ）、平均粒子径が１〜１００ｎｍであるシリカ微粒子（ｂ）を含む複合体組成物およびこれを架橋させてなる成形硬化物。 - 特許庁 - This water-repellent film 10 includes a plurality of pores 21 having an average pore diameter of 5-50 nm, a film layer 20 having porosity of 25-75 vol.%, and whiskers 30 contained in the film layer 20.
撥水性皮膜１０は、平均気孔径が５ｎｍ〜５０ｎｍの複数の気孔２１を有し、気孔率が２５〜７５体積％である皮膜層２０と、この皮膜層２０に含有されたウィスカ３０とを具備する。 - 特許庁 - The semiconductor device is equipped with a substrate (11), and a dielectric thin film (12) which is epitaxially formed on the substrate (11) and has a rocking curve half-value width of 1° or below, and 0.7 to 10.0 nm in thickness.
基板（１１）と、前記基板上にエピタキシャル成膜されたロッキングカーブ半値幅が１度以内で膜厚が０．７ｎｍ以上１０．０ｎｍ以下の誘電体薄膜（１２）とを具備する半導体装置である。 - 特許庁 - There is provided oxide crystals, etc. for scintillators, expressed by structural formula (1) and having a ^10B content of ≥1.85 atom/nm^3.
この目的を達成するため、下記式（１）に示す構造式を備え、且つ、^１０Ｂ含有量が１．８５ａｔｏｍ／ｎｍ^３以上であることを特徴とする中性子シンチレータ用酸化物結晶等を採用する。 - 特許庁 - To provide a laser device which increases the wavelength width of laser beam up to several nm while satisfying a pseudophase matching condition of a periodical poling structure of a nonlinear optical element capable of obtaining high conversion efficiency.
高い変換効率が得られる非線形光学素子の周期分極反転構造の擬似位相整合条件を満たしつつ、レーザ光の波長幅を数ｎｍにまで拡大するレーザ装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an oligo(5,15-diaryl-substituted Zn(II)-porphyrinylene) compound family which is composed of an exact length and a structure of monodisperse polymer rod and has a maximum length of 106 nm for example.
正確な長さと構造の単分散系高分子ロッドを構成する、特に極めて長い例えば１０６ｎｍまでのオリゴ（５，１５−ジアリール置換Ｚｎ（II）−ポルフィリニレン）化合物類を提供する。 - 特許庁 - A composite electrode material includes: a carbon base material; and iron oxide particles that mainly contain Fe_3O_4, are supported on the carbon base material, and have a D_90 of 50 nm or less.
炭素基材および酸化鉄粒子を含み、前記酸化鉄粒子はＦｅ_3Ｏ_4を主成分とし、かつ炭素基材に担持されており、前記酸化鉄粒子のＤ_90が５０ｎｍ以下である、複合電極材。 - 特許庁 - The pre-alignment mark AM1 is detected by ultraviolet rays having a wavelength of 248 nm which is emitted from a pre-alignment sensor PA, while the fine alignment mark AM2 is detected by a space image sensor on a wafer stage.
プリアライメントマークＡＭ１は、プリアライメントセンサＰＡから発せられる、波長が２４８ｎｍの紫外線で検出され、ファインアライメントマークＡＭ２は、ウェハステージ上の空間像センサで検出される。 - 特許庁 - The implant has the surface that has the macro pores having the inner diameter with the level of several tens of μm and micro pores having the inner diameter of 1-2 μm and comprises nano discharge craters having an inner diameter with the level of several tens of nm.
数十マイクロメートルレベル内径のマクロ孔を有し、かつ、１〜２マイクロメートル内径のミクロ孔を有し、かつ、数十ナノメートルレベル内径のナノ放電痕からなる表面をもつインプラントとする。 - 特許庁 - When engine speed Ne is decided to be less than an electric oil pump stop engine speed Noff in 22, a motor 3 of the electric oil pump is driven at target engine speed Nm of every oil temperature TEMP in 23 to 25.
22でエンジン回転数Ｎｅが電動オイルポンプ停止回転数Ｎｏｆｆ未満と判定する場合、23〜25で電動オイルポンプのモータ3 を油温ＴＥＭＰごとの目標回転数Ｎｍで駆動する。 - 特許庁 - To provide a calibration jig capable of precisely calibrating the length measurement and the squareness of the XYZ axes in nm order which is used in a three dimensional measuring machine for measuring the surface shape from upside.
上面より表面形状を測定する３次元測定機において用いられる、長さ測定とＸＹＺ軸の直角度をナノメートルのオーダで高精度に校正するための校正治具を提供する。 - 特許庁 - The present invention provides a zirconium oxide fine powder which has an average particle size of 30 nm or less, a specific surface area of more than 35 m^2/g, and an oil absorption of more than 40 mL/100 g.
本発明によれば、３０nｍ以下の平均粒子径と３５ｍ^2／ｇよりも大きい比表面積と４０ｍＬ／１００ｇよりも大きい吸油量を有する酸化ジルコニウム微粉末が提供される。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device capable of stably forming a fine pattern which is 50 nm or less by minimizing nonuniformity generated at the time of CMP in the step of forming the fine pattern.
微細パターンの形成工程におけるＣＭＰ時に生じる不均一性を最小化し、５０ｎｍ以下の微細パターンを安定的に形成可能な半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
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