「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 157 158 159 160 161 162 163 164 165 .... 287 288 次へ＞- The grism can be used preferably in a vacuum ultraviolet range from 200 nm to the absorption edge wavelength on a short wavelength side in which the refractive indices of the lithium fluoride and the magnesium fluoride vary significantly.
このグリズムは、フッ化リチウムおよびフッ化マグネシウムの屈折率が大きく変化する２００ｎｍから短波長側の吸収端波長までの真空紫外線領域で好適に利用できる。 - 特許庁 - The visible light type photocatalyst particulate 21 is applied with a visible light treatment such as a nitrogen conversion treatment and the average particle diameter of the visible light type photocatalyst particulate 21 is approximately 5-20 nm.
可視光型光触媒微粒子２１には窒素置換処理等の可視光化処理が施されており、また可視光型光触媒微粒子２１の平均粒径は約５〜２０ｎｍとなっている。 - 特許庁 - The electrophotographic toner contains a nonmetal IR absorbent the absorbance of which at 650 nm is ≤5% of the absorbance at the wavelength at the spectral absorption maximum in the IR region.
６５０ｎｍにおける吸光度が赤外領域の分光吸収極大波長における吸光度の５％以下である非金属系赤外吸収剤を含有することを特徴とする電子写真用トナー。 - 特許庁 - The cation organic resin particle is an acrylic resin particle having an amino group and the mean grain size of the cation organic resin particle is 5-100 nm, which improve the ink absorbability and printing glossiness.
カチオン性有機樹脂粒子がアミノ基を有するアクリル樹脂粒子であり、更にカチオン性有機樹脂粒子の平均粒子径が５〜１００ｎｍであることでインク吸収性及び光沢性は向上する。 - 特許庁 - To obtain a means for manufacturing, with an improved yield, a metal probe that is optimum for a probe for STM or the like that has a tip radius of curvature of approximately 10 nm or is smaller and has a smooth surface.
電解研磨により先端曲率半径１０ｎｍ程度またはより小さく表面がなめらかなＳＴＭ用探針等に最適な金属探針を歩留まりよく製造する手段の開発。 - 特許庁 - The nano-size carbon materials are obtained as a carbon nano tube whose diameter is ranging from 1 to 100 nm, and whose length is not more than 50 μm, and for example, the nano size carbon materials are mixed with the resin at the rate of 1 to 10 wt.pts to 100 wt.pts.
ナノサイズ炭素材料は、直径1〜100ｎｍ、長さ50μｍ以下のカーボンナノチューブ等であり、例えば、樹脂100重量部に対して、ナノサイズ炭素材料が1〜10重量部の割合で配合されている。 - 特許庁 - In a spectral diffraction position where X-ray intensity is high, if the dispersion is greater than a certain degree Er (indicated allowable error), the counting is performed for "tm" time interval longer than "to", to increase the total value to a count Nm.
Ｘ線強度の高い分光位置で、このばらつきが一定の大きさＥｒ（表示許容誤差）より大きい場合、ｔｏよりも長いｔｍ時間計数して総計数値をＮｍカウントに増やす。 - 特許庁 - A coating film of a far infrared radiation paint containing a 2-70 wt.% of a pigment, of which the spectral radiation brightness within a wavelength region of 1,500-15,000 nm is not less than 40% as integral radiation, is provided on the surface of a substrate comprising a foamed aluminum material.
発泡アルミニウム素材の基板表面に、1500nm〜15000nm 波長域で分光放射輝度が積分放射で40% 以上の顔料を2 〜70重量％含有する遠赤外線放射塗料の塗膜を設けた。 - 特許庁 - Between a base layer comprising GaAs and an emitter layer comprising InGaP, a layer comprising one out of InAs, InGaAs, InAsP, GaAsP or AlGaAs that has a thickness of 2-3 nm is formed.
ＧａＡｓより成るベース層とＩｎＧａＰより成るエミッタ層との間にＩｎＡｓ、ＩｎＧａＡｓ、ＩｎＡｓＰ、ＧａＡｓＰ、ＡｌＧａＡｓの何れか一つの層を厚さ２から３nm形成したことにある。 - 特許庁 - The (a) process is a process which mixes a hydrophobic silica powder having 5-100 nm of an average primary particle diameter with a resin liquid, and the (b) process is a process which cures the silica containing resin liquid obtained at the (a) process.
（ａ）工程：平均一次粒子径５〜１００ｎｍの疎水性シリカ粉末と樹脂液とを混合する工程、（ｂ）工程：（ａ）工程で得られたシリカ含有樹脂液を硬化させる工程。 - 特許庁 - Si and Mo tend to react, and an MoSix layer 13 whose thickness is about 1 nm is generated on border when alternately depositing is performed by a sputtering method etc., so that deriving is difficult in reflecting property as design.
ＳｉとＭｏは反応しやすく、スパッタリング法等によって交互に成膜すると境界に略１ｎｍの膜厚のＭｏＳｉｘ層１３が発生し、設計通りの反射特性を得るのが難しい。 - 特許庁 - To provide a micronization mixer stably producing particles with a diameter of not less than 10 nm and not more than 50 μm by efficiently micronizing a certain liquid mixed with the other liquid, a gas or a solid.
液体に混合された他の液体、気体又は固体を効率よく微細化して直径が１０ｎｍ以上５０μｍ以下の粒子を安定して生成できる微細化混合装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a polymerization composition for optical member that makes it possible to manufacture an optical member which has a small light transmission loss at a 650 nm light source wavelength and suppresses an increase in loss at a high temperature and a high humidity.
光源波長６５０ｎｍでの光伝送損失が小さく、かつ、高温高湿下での損失上昇を抑制する光学部材を製造可能な光学部材用重合性組成物を提供する。 - 特許庁 - In the magnetic recording medium, ferromagnetic powder having a substantially spherical shape and 2 to 30 nm average particle diameter is used and the particle size distribution of the particle diameter of the magnetic powder particles is sharply controlled.
実質的に球状で平均粒子径が２〜３０ｎｍである強磁性粉末を用いて、該磁性粉末粒子の粒子径の粒度分布を非常にシャープに制御することよりなる磁気記録媒体による。 - 特許庁 - The separator material for the fuel cell, composed of one or not less than two kinds of components selected from Pt, Pd, Rh, and Ru, has a thickness of not less than 10 nm, and formed on a base material made of titanium.
組成がＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕのうち１種もしくは２種以上よりなり、厚みが１０ｎｍ以上で、チタン基材上に成膜したことを特徴とする燃料電池のセパレータ用材料。 - 特許庁 - To provide a method of forming a trench, in a short time, which has no sub-trench and has a flat bottom through dry etching in which a trench made narrow to approximately ≤200 nm is formed in a single crystal Si.
単結晶Ｓｉに２００ｎｍ以下程度に狭幅化したトレンチを形成するドライエッチングにおいて、サブトレンチがなく底部が平坦なトレンチを短時間で形成する方法を提供する。 - 特許庁 - The illumination means irradiates a light of 420-530 nm wavelength range to an inspection surface of the wood to be inspected, and the processing means extracts a defect part based on the luminance in the photographed image.
上記照明手段は検査木材の検査面に４２０ｎｍ〜５３０ｎｍの波長域の光を照射し、上記処理手段は撮像された画像における輝度を基に欠陥部を抽出する。 - 特許庁 - The device 1 for inhibiting nocturnal insect pests comprises a hollow light guide form 3 and a light source 2 set on the end of the light guide form 3 and functioning to irradiate the ambience with light with about 490-700 nm wavelengths.
夜行性害虫抑制装置１は、内部が中空である導光体３と、導光体３の端部に設けられて波長が略４９０〜７００ｎｍの光を照射する光源２と、を備える。 - 特許庁 - To provide a tubular heater constituted so that a wavelength of the light transmitted through a bulb becomes a peak in the vicinity of 830 nm, by forming an optical multi-layer film on an outer face of a bulb.
バルブの外面に光学多層膜を形成することにより、バルブを透過する光の波長が８３０ｎｍ付近でピークとなるように構成した管形ヒータを提供することを目的とする。 - 特許庁 - Since the thickness (t) of the ITO film 1 is 15-20 nm, ITO crystals grow sufficiently, a dense crystal structure is formed and the thin film has superior wear resistance.
ＩＴＯ膜１の膜厚ｔを、１５ｎｍ〜２０ｎｍとしたことにより、ＩＴＯの結晶が十分に成長し、結晶構造が緻密な薄膜が形成され、優れた耐摩耗性を有することになる。 - 特許庁 - Preferably, the magnetization direction of the free layer (11) and the fixing layer when there is no magnetic field substantially has a relative angle of 90°, and the tunnel insulating layer has a film thickness in a range of 1.8-5 nm.
自由層（１１）と固着層との無磁界時の磁化方向は、好ましくは、実質的に相対角が９０度をなしており、また、トンネル絶縁層は膜厚１．８ｎｍから５ｎｍの範囲の膜厚を有する。 - 特許庁 - Then, an interlayer insulating film 6b and an etching stopper film 10 of about 20-70 nm which is easy to take selectivity ratio to a storage node interlayer insulating film 9 are made, and the Storage node interlayer insulating film 9 is grown.
その後、層間絶縁膜６ｂ、ストレージノード層間絶縁膜９に対して選択比の取りやすい２０〜７０ｎｍ程度のエッチングストッパ膜１０を形成し、ストレージノード層間絶縁膜９を成膜する。 - 特許庁 - This organic electroluminescence element for optical writing has a base board 4, and the light-emitting layer 6 formed on the base board, and including an organic electroluminescence material, and is 30 nm or less in a half value width of a emission spectrum.
基板４と、その上に形成されかつ有機電界発光材料を含む発光層６を有し、発光スペクトルの半値幅が３０ｎｍ以下である光書込み用有機電界発光素子。 - 特許庁 - Co-Ti nanoparticles having particle diameters of ≤2 nm are deposited on an Si-substrate by generating pulse arcs in a range of about 50-100 times by using pulse arc plasma at a vacuum degree of 1×10^-5 Torr.
Ｓｉ基板上に、１×１０^-5Tprrの真空度で、パルスアークプラズマを用いて、５０回〜１００回程度の範囲でパルスアークを発生させて、粒径２ｎｍ以下のＣｏ−Ｔｉナノ粒子を堆積させる。 - 特許庁 - In the suitable form, the barrier layer has 190-1500 nm film thickness by optical distance and the light reflecting layer is composed of a metallic based, a metallic compound based or a nonmetallic based film.
好適な態様においては、上記バリヤー層は光学距離で１９０〜１５００ｎｍの膜厚を有し、前記光反射性層は、金属系、金属化合物系又は非金属系の膜からなる。 - 特許庁 - To realize a photonic crystal fiber whose leak of light due to bending is suppressed although its mode field diameter and dispersion value in a 1,300 nm band are equal to those of a normal single-mode optical fiber.
モードフィールド径及び１３００ｎｍ帯における分散値が通常の単一モード光ファイバと同等でありながら、曲げによる光の漏れ出しを抑えたフォトニック結晶ファイバを実現すること。 - 特許庁 - The soft magnetic backing layer 12 is a film having a composition containing 40 to 60 at% Co, 20 to 40 at% Ni and 10 to 40 at% Fe as a main component and 50 to 1,000 nm film thickness.
この軟磁性裏打ち層１２は、主成分として、Ｃｏを４０〜６０原子％、Ｎｉを２０〜４０原子％、Ｆｅを１０〜４０原子％含有する組成の５０〜１０００ｎｍの膜である。 - 特許庁 - The solder powder has a substantially globular shape and has a plurality of rugged parts over the entire surface, wherein an average surface roughness Ra measured by a scanning probe microscopy (SPM) is 18 to 100 nm.
略球形状であり、表面全体に亘って複数の凹凸を有し、走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）により測定される平均面粗さＲａが１８〜１００ｎｍであるはんだ粉とする。 - 特許庁 - The beautifying component such as an aqueous solution of Na hyaluronate and an aqueous solution of a placental extract is included in 2.5 wt.% weak powder obtained by subjecting a light anhydrous silicic acid having 5-45 nm particle diameter to a surface hydrophilic treatment with octylsilane.
５〜４５ｎｍの粒径の軽質無水ケイ酸をオクチルシランで表面疎水処理した脆弱粉末２．５重量％にヒアルロン酸Ｎａ水溶液，プラセンタエキス水溶液等の美容成分を包括した。 - 特許庁 - The light-storable light-emitting device is made up by combining a light-emitting diode having a light-emission peak wavelength of 500 nm or shorter and a luminous phosphor that allows instantaneous light-emission when excited by emission light of the light-emitting diode.
発光ピーク波長が５００ｎｍ以下である発光ダイオードと、該発光ダイオードの発光光で励起されて瞬時発光し得る蓄光性蛍光体とを組み合わせて蓄光性発光素子とする。 - 特許庁 - The capacitor is manufactured by a method wherein the deposit of a dielectric material is effected with a speed less than 0.1 nm/s, and the substrate 4 is heated at a temperature lower than 500°C in a dielectric film forming process.
誘電体膜形成工程において、誘電体材料の蒸着を０．１ｎｍ／ｓ以下の速度で行い、基板４を５００℃以下の温度で加熱するコンデンサの製造方法である。 - 特許庁 - To provide a high strength thick steel plate having high heat input weld zone toughness and brittle propagation arrest properties, and suitable as a thick steel plate with a plate thickness of >50 nm, and to provide a method for producing the same.
板厚５０ｍｍ超えの厚鋼板として好適な大入熱溶接部靭性および脆性き裂伝播停止特性に優れた高強度厚鋼板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive type photosensitive composition improved in a LWR, an exposure latitude and an MEEF, and fit to a liquid immersion process, of 45 nm of line width, and to provide a pattern forming method which use the composition.
ＬＷＲ、露光ラチチュード、ＭＥＥＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合したポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The optical information recording medium has a reflecting layer, a recording layer, a barrier layer, a pressure-sensitive adhesive layer and a covering layer in this order on the surface of a substrate having a pre-group with a track pitch of 50-500 nm on its surface.
トラックピッチ５０〜５００ｎｍのプリグルーブを表面に有する基板の該表面上に、反射層、記録層、バリア層、粘着層およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体。 - 特許庁 - The area ratio of the regions A to D is so determined that when the lights passing through those regions are superposed, nearly no 0-th diffracted light is present at two wavelengths of 480 and 633 nm.
そして、これらの領域を透過した光の重ね合わせにおいて、２つの波長480nmと633nmにおいて、０次回折光が０に近くなるように、各領域Ａ〜Ｄの面積比が決定されている。 - 特許庁 - To provide a processing method of precision-cutting of a thin film material, in which a piezoelectric thin film material may be efficiently cut off in a predetermined form, with surface roughness of the order of nm and few damages.
ナノオーダの仕上げ面粗さで且つ損傷が少なく圧電薄膜材料を所定形状に効率よく切り出すことができる薄膜材料の精密切り出し方法を提供することにある。 - 特許庁 - The method for producing a lithographic printing plate comprises a step of exposing a light-sensitive layer on a support with laser light having a wavelength of ≤450 nm and a step of treating the exposed light-sensitive layer with a developing solution having a pH of ≤13.0.
平版印刷版の製造方法は、支持体上の感光層に４５０ｎｍ以下の波長を有するレーザ光で露光し、次いでｐＨ１３．０以下の現像液で処理する工程を含む。 - 特許庁 - The carrier for NO_x purification is prepared by crystallizing the surface of micro pores of the mesoporous silica of which the pore diameter is 2-20 nm and the specific surface area is 400-1,400 m^2/g.
２〜２０ｎｍの細孔径と４００〜１４００ｍ^２／ｇの比表面積とを有するメソポーラスシリカの細孔表面を結晶化させて成ることを特徴とするＮＯｘ浄化用触媒の担体。 - 特許庁 - To provide a mold for an optical element which has a thickness of the mold surface of ≥50 nm, thus permits enhancement of the degree of freedom of the optical element with respect to the height and size and being suitable for mass production.
型面が５０ｎｍ以上の膜厚を有し、従って、高さや大きさの点で光学素子の自由度を高めることができて、しかも、量産に適する光学素子用成形型を提供すること。 - 特許庁 - On one end face, an approximately 1 nm Si film (14a) is formed, the surface of the Si film (14a) is oxidized for forming a thin SiO_x film (14b), and a λ/2 Al_2O_3 film (14c) is formed on the SiO_x film for forming a low reflection film 14.
端面の一方に、Ｓｉ膜(14a)を１nm程度形成し、Ｓｉ膜(14a)の表面を酸化して薄いＳｉＯ_x膜(14b)を形成し、その上にＡｌ_2Ｏ_3膜(14c)をλ/２形成して低反射膜14を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for adjusting a phase of a delay demodulation device, which can suppress a polarization separation amount to a small value, e.g. 0.5 GHz (0.004 nm) and less which is difficult to achieve in a conventional method.
従来実現するのが困難であった偏波乖離量が小さい、例えば偏波乖離量を0.5GHz(0.004nm)以下に抑えることが可能な遅延復調デバイスの位相調整方法を提供する。 - 特許庁 - Here, the first sidewall protective films 4 and the second sidewall protective films 9 are composed of the porous low dielectric-constant films, have the content of 30% or less of the holes and have the size of 2 nm or less of the holes.
ここで、第１側壁保護膜４および第２側壁保護膜９は多孔質の低誘電率膜で成り、その空孔の含有率は３０％以下であり、空孔の寸法は２ｎｍ以下である。 - 特許庁 - In the method of manufacturing the optical disk by forming the reflection layer 12, the recording layer 14 and the light transmission layer 16 in this order on the substrate, the deposition speed of the recording layer 16 is set at ≥5 nm/sec.
基板上に、反射層１２、記録層１４及び光透過層１６をこの順に形成する光ディスクの製造方法であって、記録層１６の成膜速度を５ｎｍ／ｓｅｃ以上に設定する。 - 特許庁 - Preferably, the metal foil chip has an average thickness of 30-100 nm, a 50% average particle size of ≥1.0 μm and ≤4.0 μm and the maximum particle size in a particle size distribution of ≤12 μm.
該金属箔片は、平均厚み３０〜１００ｎｍ、かつ５０％平均粒子径が１．０μｍ以上４．０μｍ以下、粒度分布における最大粒子径が１２μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁 - To provide an optical information recording medium that is provided with a recording layer, capable of performing high density recording and reproduction of information and having superior recording quality, even if it is irradiated with a laser light having wavelength of 450 nm or shorter.
４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射しても情報の高密度記録及び再生が可能であり、記録品質に優れた記録層を具備する光情報記録媒体を提供する。 - 特許庁 - The liquid dispersion of fine silica particles whose primary particles have a ≤50 nm average particle size, contains a cationic polymer having an average molecular weight of ≤100,000, wherein, as the cationic polymer, a cationic polymer containing a polydiallylamine derivative as a constitutional repeating unit, is desired.
（１）一次粒子の平均粒径が５０ｎｍ以下のシリカ微粒子の分散液において、該分散液が平均分子量１０万以下のカチオンポリマーを含有することを特徴とするシリカ分散液。 - 特許庁 - The concentration of the nitric acid in the etching solution in terms of the mass ratio is to be in the range of 11.3-12.78 mass%, the liquid temperature is to be in the range of 37.5-42.5°C, and the etching rate is to be in the range of 200-400 nm/ min.
エッチング液の硝酸の濃度は質量比で１１．３〜１２．７８質量％の範囲とし、液温は３７．５〜４２．５℃の範囲とし、エッチングレートは２００〜４００ｎｍ／分の範囲とする。 - 特許庁 - The anti-reflective composition can be used very suitably in the immersion lithography process using particularly an ArF light source having 193 nm wavelength and the damascene process when a semiconductor device is manufactured.
該反射防止膜用組成物は半導体素子の製造工程中、特に１９３ｎｍＡｒＦ光源を利用した液浸リソグラフィ工程及びダマシン工程に非常に適切に用いられ得る。 - 特許庁 - An engine revolution number is decreased only by the revised revolution number Ns in accordance with the predetermined characteristic L2 when the revolution number Nm of the running motor 12 exceeds the fixed value Na at the time of running on the down slope.
降坂走行時に走行モータ１２の回転数Ｎｍが所定値Ｎａを越えると、予め定めた特性Ｌ２に従ってエンジン回転数を補正回転数Ｎｓだけ減少させる。 - 特許庁 - The optical information recording medium 10A has a reflection layer, a recording layer 14, a barrier layer 20, an adhesive layer 22 and a cover layer 16 in this order on a surface of a substrate having a pre-groove having 50 to 500 nm track pitch in the surface.
トラックピッチ５０〜５００ｎｍのプリグルーブを表面に有する基板の該表面上に、反射層、記録層、バリア層、粘着層およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体。 - 特許庁
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