「or -R」を含む例文一覧(4854)
＜前へ 1 2 .... 27 28 29 30 31 32 33 34 35 .... 97 98 次へ＞- To provide a compound represented by formula I (wherein, R^1, Q, S, T, U, V and R^2 are the same as those defined in the specification) or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
本発明は、式Ｉ（式中、Ｒ^1、Ｑ、Ｓ、Ｔ、Ｕ、ＶおよびＲ^2は明細書中で定義されたのと同様である）の化合物またはその製薬上許容可能な塩を提供する。 - 特許庁 - When both data of M and Y are each 1 or above, R data of these values are generated and the remainder after conversion into the R data become new data of M and Y.
Ｍ、Ｙのデータが両方とも１以上であるとき、それらの値のＲデータが生成されるとともに、Ｒデータに変化した分の残りが新たにそれぞれＭ、Ｙのデータとなる。 - 特許庁 - A small siping group 12 comprising sipings 11 of the length L1 of 2-10 mm in which both ends of sipings are broken off in a land section R is provided on the land section R comprising a block or a rib.
ブロック又はリブからなる陸部Ｒに、長さＬ１が２〜１０ｍｍ、しかも両端が陸部Ｒ内で途切れる小サイピング１１からなる小サイピング群１２を設ける。 - 特許庁 - A multi-axle vehicle makes a turn by using intermediate driving wheels 34L, R and 36L, R disposed one or more intermediate axles 24, 26 arranged between the front most axle 22 and the rear most axle 28.
最前車軸２２と最後車軸２８の間に配置された１以上の中間車軸２４、２６に設けられた中間駆動輪３４Ｌ、Ｒ、３６Ｌ、Ｒを使って旋回を行なう。 - 特許庁 - X=(R/ d)×(D/T)1/2 (where R: reduction volume, d: thickness of the unsolidified portion of 0.8 or less solid rate at the time of reducing start, D: diameter of reducing roll, T: thickness of billet after bulging, unit: mm).
Ｘ＝（Ｒ／ｄ）×（Ｄ／Ｔ）^1/2 ・・・（Ａ） Ｒ：圧下量、ｄ：圧下開始時の固相率が０．８以下の未凝固部分の厚み、Ｄ：圧下ロールの直径、Ｔ：バルジング後の鋳片の厚み、単位：ｍｍ。 - 特許庁 - In the formulas, R^1 to R^8 each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl amino group, a carbonyl amino group, a cyano group, an aryl group or a heteroaryl group.
式中、Ｒ^１〜Ｒ^８は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニルアミノ基、カルボニルアミノ基、シアノ基、アリール基、又はヘテロアリール基を表す。 - 特許庁 - In the formula, R^a to R^g represents a hydrogen atom, a carboxyl group, a hydroxyl group, a carbamoyl group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or a substituent group containing such groups as a partial structure.
（式中、Ｒ^a〜Ｒ^gは、それぞれ独立に、水素原子、カルボキシ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、又はこれらの基を部分構造として含む置換基を表す。） - 特許庁 - To provide a method and a device for drying a substrate, especially a CD-R substrate or a recordable DVD semi-substrate which is coated with a dyestuff dissolved in a solvent.
本発明は、基板、特に、溶剤中に溶解された染料で被覆されたCD-R基板または記録可能なDVD片面１層記録基板を乾燥するための方法およびデバイスを提供する。 - 特許庁 - In formula (1), R^1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R^2 represents an alkylene group, M represents a monovalent cation, n represents an integer of 1-10, and m represents an integer of 1-3.
（式（１）中、Ｒ^1は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^2はアルキレン基を表し、Ｍは１価のカチオンを表す。ｎは１〜１０の数を表し、ｍは１〜３の整数を表す。） - 特許庁 - The new amino-disilane is represented by the general formula: (CH_3)_3Si_2(NR^1R^2)_3 (wherein R^1 is hydrogen or a methyl group; and R^2 is a 1-6C alkyl group).
一般式（ＣＨ_3）_3Ｓｉ_2（ＮＲ^1Ｒ^2）_3（ただし、式中のＲ^1は水素またはメチル基、Ｒ^2は炭素数１から６のアルキル基を示す）にて表されることを特徴とする新規なアミノジシラン。 - 特許庁 - The treating agent for polysaccharides comprises an ionic liquid constituted of an imidazolium-based cation represented by formula (1) and (CH_3O)(R^3)PO_2^- (wherein R^3 is a hydrogen atom, a methyl group or a methoxy group).
式（１）で示されるイミダゾリウム系カチオンおよび（ＣＨ_3Ｏ）（Ｒ^3）ＰＯ_2^-（Ｒ^3は、水素原子、メチル基、またはメトキシ基を示す。）から構成されるイオン液体からなる多糖類の処理剤。 - 特許庁 - (In the general formula (A), at least one of R^1 to R^13 is a monovalent organic group having at least any of an amide group, an urea group and an urethane group. m represents 0 or 1.)
（一般式（Ａ）中、Ｒ^１〜Ｒ^１３の少なくともいずれかは、アミド基、ウレア基、及びウレタン基の少なくともいずれかを有する１価の有機基である。ｍは、０又は１を表す。） - 特許庁 - This solvent contains at least one 1,2,5-thiadiazole compound represented by formula (1) (wherein R^1 and R^2 each represent hydrogen or a methyl group).
下記式（１）<chemistry num="1"> </chemistry>（式中、Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ水素又はメチル基を表す）で表される１，２，５−チアジアゾール化合物の少なくとも１種を含有してなる溶剤を提供する。 - 特許庁 - This method for producing an (R)-hydroxynitrile lyase extract comprises extracting a natural material containing an (R)-hydroxynitrile lyase with water in the presence or absence of a buffer at pH 3.3 to 5.5.
（Ｒ）−ヒドロキシニトリルリアーゼを含む天然物質を、ｐＨ３．３〜５．５で、緩衝剤の不存在下または存在下で、水で抽出する、（Ｒ）−ヒドロキシニトリルリアーゼ抽出物を製造する方法。 - 特許庁 - A method comprises supplying an effective amount of a free radical polymerization inhibitor to the cyclotetrasiloxane expressed by the formula (R^1 to R^7 are each H, a 1-10C alkyl or a 1-4C alkoxy).
次の式で表されるシクロテトラシロキサン（Ｒ^１−７は、水素、Ｃ_１−１０アルキル基、またはＣ_１−４アルコキシ基）に有効量の有離基重合抑制剤を供給する。 - 特許庁 - The sealing material sheet contains EVA, and a compound represented by the following formula (1) (where, R^1 and R^2 are each a hydrogen atom or an alkyl group of 1-20C.)
ＥＶＡ、および下式（１）で表される化合物（ただし、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に水素原子、または炭素数１〜２０のアルキル基である。）を含有する封止材シート。 - 特許庁 - In the formula, R^1-R^5 are each selected from a hydrogen atom, a 1-6C alkyl group and a 1-2C alkoxy group and are the same as or different from each other, and n denotes an integer.
（ここで、Ｒ^１〜Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜２のアルコキシ基から選ばれ、互いに同一であっても異なってもよい。ｎは整数を示す。） - 特許庁 - R^1 and R^2 are bonded to the 2, 3 or 4 position of the aldehyde compound on a cyclohexane ring.
（式中、Ｒ^1は炭素数１〜４の炭化水素基を示す。Ｒ^2は炭素数２〜４の飽和炭化水素基を示し、シクロヘキサン環上のアルデヒド基に対して２、３又は４位に結合していることを示す。） - 特許庁 - In this case, R^1 is any group selected from groups constituted of a di-methylene group, a trimethylene group, a tetra-methylene group and a penta-methylene group, and R^2 is a tetra-methylene group or a penta-methylene group.
ここで、Ｒ^１はジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、及び、ペンタメチレン基からなる群から選択されるいずれかの基であり、Ｒ^２はテトラメチレン基又はペンタメチレン基である。 - 特許庁 - This method for producing the phenol compound of formula (2) is characterized by reacting a trienone of formula (1) (R^1 to R^10 are each H, a hydrocarbon group or the like) in the presence of a ruthenium catalyst and then isomerizing the double bonds of the obtained ring-closed product.
式（１）（Ｒ^１〜Ｒ^１０；Ｈ、炭化水素基等）のトリエノンがルテニウム触媒下で反応、得た閉環生成物の２重結合を異性化し式（２）のフェノール誘導体を得る。 - 特許庁 - The conveyance amount R of the recording medium is decided as either of the P1 or the P2 so as not to allow the difference between the logic conveyance amount P and the actual conveyance amount R of the recording medium.
論理搬送量Ｐと実際の記録媒体の搬送量Ｒとの差が所定値を超えないように記録媒体の搬送量ＲをＰ１又はＰ２のいずれかに決定する。 - 特許庁 - The deviance of the target path R(t) relative to the reference path S(t) is evaluated, and the target path R(t) is corrected on the assumption that the deviance is equal to or higher than a threshold.
基準経路Ｓ（ｔ）に対する目標経路Ｒ（ｔ）の乖離度が評価され、この乖離度が閾値以上であることを要件として目標経路Ｒ（ｔ）が補正される。 - 特許庁 - The government is carrying out fundamental R&D for creating new substances or new materials, and promoting the R&D of materials for sophisticating and increasing the reliability of environmental and energy materials.
新物質・新材料の創製に向けた基盤的研究開発を行うとともに、環境・エネルギー材料の高度化、高信頼性等を確保する材料の研究開発を推進。 - 経済産業省 - There is provided a sulfamide derivative represented by general formula (I) or pharmacologically acceptable salts thereof, wherein R^1 to R^8 each denote hydrogen or a halogen, and R^9 or R^10 denotes hydrogen or an alkyl group which may be substituted.
一般式（Ｉ）（式中、Ｒ^１乃至R^８は、水素原子又はハロゲン原子等を示し、Ｒ^９又はＲ^１０は水素原子、置換されてもよいアルキル基等を示す。）を有するスルファミド誘導体又はその薬理上許容される塩、及び、 一般式（Ｉ）（式中、Ｒ^１乃至R^８は、水素原子又はハロゲン原子等を示し、Ｒ^９又はＲ^１０は水素原子、置換されてもよいアルキル基等を示す。）を有するスルファミド誘導体又はその薬理上許容される塩と 一般式（ＩＶ）で表される化合物等［Ｘはベンゾイミダゾール環基、Ｙ^１は、酸素原子等を示し、Ｚは２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル基等、Ｒは、水素原子、Ｃ１−６アルキル基等、ｍは、１乃至５の整数を示す。 - 特許庁 - Wherein, Z is S or the like; X is CR^4 or the like; X^1 is O, S or the like; and R is CONR^5R^6, CO_2R^5, NR^5R^6, NR^5SO_2R^6, SO_2NR^5R^6 or the like.
（式中、ＺはＳ，ＸはＣＲ^４，Ｘ^１はＯ，Ｓ，Ｒは−ＣＯＮＲ^５Ｒ^６，−ＣＯ_２Ｒ^５，−ＮＲ^５Ｒ^６，−ＮＲ^５ＳＯ_２Ｒ^６，−ＳＯ_２ＮＲ^５Ｒ^６等を示す。） - 特許庁 - The skin care composition for external use comprises either one or two or more of diethylene glycol monoethers and triethylene glycol monoethers represented by general formula (1) (wherein R is a 5-8C alkyl or alkenyl group; and n is 2 or 3) and 2-phenoxyethanol.
一般式（１）で示されるジエチレングリコールモノエーテル又はトリエチレングリコールモノエーテルのいずれか１種または２種以上と２−フェノキシエタノールを含有することを特徴とする皮膚外用組成物。 - 特許庁 - In the formula, R is an alkyl, an alkenyl, an alkoxy or the like, R_2 is an alkanoyl, an aroyl, a carbocyclic aryl or the like, and Z is a hydrogen, an alkyl, an alkenyl, a carbocyclic aryl, a heteroalicyclic or a heteroaromatic group, or the like.
（式中、Ｒはアルキル、アルケニル、アルコキシなどであり、Ｒ２はアルカノイル、アロイル、炭素環アリールなどであり、Ｚは水素、アルキル、アルケニル、炭素環アリール、ヘテロ脂環式又はヘテロ芳香族の基などである） - 特許庁 - There is provided the compound of formula I or formula II or a pharmaceutically acceptable salts thereof {wherein, each R is independently 1-8C alkyl; and each P is independently an electron withdrawing group or hydrogen, wherein when each R is methyl, and P is hydrogen, the compound is complexed with a metal selected from the group consisting of manganese, iron, copper, cobalt, nickel or zinc}.
本発明は、式Ｉ若しくはＩＩの化合物またはその薬学的に許容される塩［ここで、各Rは独立してＣ_1−Ｃ_8アルキル基であり、および各々のPは独立して電子離脱基または水素であり、ここで、各Ｒはメチルであり、且つＰが水素であるとき、前記化合物は、マンガン、鉄、銅、コバルト、ニッケルまたは亜鉛からなる群より選択された金属との複合体である］である。 - 特許庁 - The new epoxy compound is represented by the general formula(wherein, R^1 and R^2 are each H, a 1-6C alkyl or 1-4C trialkylsilyl; R^3s may be same or different and each H, an alkyl, aryl, aralkyl, alkenyl or fluoroalkyl; and n is 0 or a positive integer).
一般式（上式中、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子、炭素数１から６までのアルキル基または炭素数１から４までのトリアルキルシリル基を表し、Ｒ^３は同一であっても相異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基またはフルオロアルキル基を表し、そしてｎは０または正の整数を表す）でもって代表される化合物。 - 特許庁 - A compound is represented by general formula (1) (wherein, A is phenyl, pyridyl, 1-oxypyridyl or thienyl or the like which may be substituted with hydroxy or halogen; R^1 is hydrogen or a substituent selected from the group consisting of hydroxy, halogen or the like; R^2 is hydrogen or lower alkyl; and m is an integer of 1-3) or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
一般式（１）（式中、Ａは水酸基、ハロゲン、置換されてもよいフェニル基、ピリジル基、１−オキシピリジル基またはチエニル基等であり、Ｒ^１は水素もしくは水酸基、ハロゲン、等から成る群から選択される置換基であり、Ｒ^２は水素または低級アルキル基であって、ｍは１から３の整数である）で表される化合物またはその医薬的に許容される塩。 - 特許庁 - The medicine comprises compounds expressed by formula (1) or their salts or their prodrugs.
式［式中、Ar^1は（置換基のある）環状基を；Rは水素原子、（ハロゲン化）C_1-6アルキル、（置換基のある）フェニルまたはピリジルを；Ra^1、Ra^2、Ra^3、Ra^4は、同一または異なって、水素原子、（ハロゲン化）C_1-6アルキル等を；Arは（置換基のある）単環式芳香環を；Ｙは（ハロゲン化）アルキレン基を示し；R^1、R^2は、（1）同一または異なって、水素原子またはC_1-6アルキルか、（2）隣接する窒素原子とともに（置換基のある）含窒素複素環を形成するか、（3）R^1とＹとは隣接する窒素原子とともに（置換基のある）含窒素複素環を形成し、R^2は水素原子またはC_1-6アルキルを示す。 - 特許庁 - The pyran (II) represented by formula (II) is produced by reacting isoprenol with an aldehyde (I) represented by R^1-CHO (I) (wherein R^1 is a 1-12C alkyl or alkenyl group or a 6-12C aryl group which may be substituted for an alkyl or alkoxy).
アルデヒド（Ｉ）とイソプレノールとを反応させ、ピラン(II)を製造する方法であって、アルデヒド（Ｉ）及びイソプレノールのうち総仕込モル数の少ないものの転化率が５０％未満において、系内の水分量を０．２５重量％以下に保持する、ピランの製造法。 - 特許庁 - Provided are a compound of formula (I) or its salt, wherein the naphthalene ring may be substituted in the 2, 3, 4, 5, 6, 7 or 8 position by R^1, and R^1 represents -CH_2CH_2COOH or -CH=C(CH_3)COOH, and a composition containing the compound.
式（Ｉ）［式中、ナフタレン環は２、３、４、５、６、７または８位においてＲ^１によって置換され得、そしてＲ^１は−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯＨまたは−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＨを表す］の化合物またはその塩、及び該化合物を含有する組成物。 - 特許庁 - The method for producing a diesterified diene derivative (1) [R^1 to R^3 are each the same or different hydrocarbon group or the like; X is an eliminable group] comprises dimerizing an esterified alkene (2) in the presence of a stoichiometric amount of a transition metal compound or typical metal and a catalytic amount of a transition metal compound.
量論量の遷移金属化合物存在下、又は、典型金属及び触媒量の遷移金属化合物存在下、エステル化アルケン（２）をニ量化させることを特徴とするジエステル化ジエン誘導体（１）の製造方法により上記課題を解決する。 - 特許庁 - In the formula, each of R^1 and R^2 independently represents a hydrogen atom or a 1-6C hydrocarbon group, and may be identical or different from each other, or may be coupled to form a cyclic structure.
ＣＨ_３−ＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯ−ＮＲ^１Ｒ^２（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基であり、互いに同一であっても異なっていてもよく、さらに互いに結合して環構造を形成してもよい。） - 特許庁 - In formula (1), R^1 represents hydrogen or methyl; L represents hydrogen, fluorine, chlorine, 1-3C alkyl or 1-3C alkoxy; R^2 represents hydrogen, -C≡N, 1-12C alkyl or 1-12C alkoxy; and m represents an integer of 1 to 12.
式（１）において、Ｒ^１は水素またはメチルを示し、Ｌは水素、フッ素、塩素、炭素数１〜３のアルキルまたは炭素数１〜３のアルコキシを示し、Ｒ^２は水素、−Ｃ≡Ｎ、炭素数１〜１２のアルキルまたは炭素数１〜１２のアルコキシを示し、ｍは１〜１２の整数を示す。 - 特許庁 - In the gas dispersion plate 1, one or a number of gas holes 3 are formed at a base material 2 made of Y_2O_3 ceramic having a relative density of 96% or higher, and the edge 4 of the gas hole 3 is machined to an R shape, where R is 0.2 mm or larger by sandblast processing.
本ガス分散プレート１は、相対密度９６％以上のＹ_２Ｏ_３セラミックスからなる基材２に１個あるいは多数のガス孔３が設けられ、このガス孔３のエッジ部４はサンドブラスト処理によりＲ０．２ｍｍ以上のＲ形状に加工されている。 - 特許庁 - This method for producing the adamantane derivative represented by formula (3) [R^1 is H or methyl; R^2 is adamantyl or the like; and (n) is an integer of 1 to 4] comprises reacting, for example, acrylic acid or methacrylic acid (specific unsaturated carboxylic acid) with a vinyl ether represented by the general formula (5).
式（３）（Ｒ^1は水素またはメチル基、Ｒ^2はアダマンチル基等、ｎは１〜４の整数を示す。）で表されるアダマンタン誘導体の製造において、例えばアクリル酸またはメタクリル酸（特定の不飽和カルボン酸）と、下記式（５）で表されるビニルエーテルとを反応させる。 - 特許庁 - In the formula, R^1 is a 1-8C linear or 3-8C cyclic alkyl group or the like; n is 0 or an integer of 1-3; and R^2 is a group selected from among a 1-8C linear alkyl group, a 6-12C aromatic group and the like.
（式中、Ｒ^１は、炭素数１〜８の鎖状あるいは炭素数３〜８の環状のアルキル基などを表す。ｎは、０または１〜３の整数である。Ｒ^２は、炭素数１〜８の鎖状アルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基などから選ばれる基を表す。） - 特許庁 - In formula (1), each of R^1 and R^2 represents a 1-4C alkyl group and they may be same or different or may be bonded with each other to form a heterocyclic group containing a nitrogen atom, n represents an integer 1 to 4, and Ar represents a substituted or unsubstituted aromatic cyclic group.
（Ｒ^１，Ｒ^２は、炭素数１〜４のアルキル基を表わし、同一でも異なっていてもよい。また、互いに結合し窒素原子を含む複素環基を形成してもよい。ｎは１〜４の整数を、Ａｒは置換もしくは無置換の芳香環基を表わす。） - 特許庁 - In formula 1, x is 1, 2, 3, 4, or 5; y is 2, 3, 4, 5, or 6; and R and R', which are independent of each other, are each a 1-30C straight-chain aliphatic hydrocarbon group, a cycloaliphatic hydrocarbon group, or an aromatic hydrocarbon group.
前記一般式において、ｘは１、２、３、４または５であり、ｙは２、３、４、５または６であり、Ｒ及びＲ’はそれぞれ独立して、炭素数１〜３０の鎖状脂肪族炭化水素基、環状脂肪族炭化水素基、または芳香族炭化水素基である。 - 特許庁 - This 3-aminothiophene derivative is expressed by general formula (6a) [wherein, R^9 is H, carboxyl or a 1-6C alkoxycarbonyl; and R^a is trifluoromethyl, difluoromethyl, methyl, ethyl, a pyrazole substituted by a halogen atom or the like, thiazole, furil, thienyl, phenyl, pyridyl, pyrazinyl, isothiazole or the like, and especially trifluoromethyl is preferable as the R^a].
下記一般式（６ａ）で示される３−アミノチオフェン誘導体（式中、Ｒ9は水素原子、カルボキシル基または炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基であり、Ｒaは、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基、ハロゲン原子等で置換されたピラゾール基、チアゾール基、フリル基、チエニル基、フェニル基、ピリジル基、ピラジニル基、イソチアゾール基等であり、Ｒaとしては、特にトリフルオロメチル基が好ましい。）。 - 特許庁 - A material mainly containing an organic Si compound R^1_xSi(OR^2)_4-x (where R^1 is a phenyl or a vinyl group, R^2 is an alkyl group, and x is an integer of 1-3.) is plasma polymerized or reacted with an oxidizer to form an organic-containing Si oxide interlayer insulation film.
一般式：Ｒ^1_xＳｉ（ＯＲ^2 ）_4-x （但し、Ｒ^1 はフェニル基又はビニル基であり、Ｒ^2 はアルキル基であり、ｘは１〜３の整数である。）で表わされる有機シリコン化合物を主成分とする原料を、プラズマ重合反応させるか又は酸化剤と反応させることによって、有機含有シリコン酸化膜よりなる層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁 - This invention relates to a new nitrogen-containing organosilicon compound having a tertiary amino group represented by R^1R^2N- (R^1 and R^2 are the same or a different and a 1-15C monovalent hydrocarbon group) or an alicyclic amino group containing at least a tertiary amino group in the ring or a heterocyclic amino group, and a carbonyl group, and to its production method.
Ｒ^１Ｒ^２Ｎ−（Ｒ^１およびＲ^２は同一もしくは異種の炭素原子数１〜１５の一価炭化水素基である。）で示される三級アミノ基または、環内に１個以上の三級アミノ基を含む脂環式アミノ基もしくは複素環式アミノ基と、カルボニル基を有する新規な含窒素有機珪素化合物とその製造方法。 - 特許庁 - In the formula, R^1, R^2 are each independently H, F, a ≤3C alkyl group or a ≤3C fluoroalkyl group, Q is O, NR^3 (R^3 is H, ≤6C alkyl group, an alkylcarbonyl group or a tosyl group) or a divalent organic group optionally having a functional group.
ＣＦ_２＝ＣＲ^１−Ｑ−ＣＲ^２＝ＣＨ_２ ・・・（１）（ただし、Ｒ^１、Ｒ^２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数３以下のアルキル基または炭素数３以下のフルオロアルキル基、Ｑは酸素原子、ＮＲ^３（Ｒ^３は水素原子、炭素数６以下のアルキル基、アルキルカルボニル基またはトシル基を表す）または官能基を有していてもよい２価の有機基、を表す。） - 特許庁 - The method for purifying the acetal compound comprises a step of distilling a feedstock containing the acetal compound represented by general formula (I) (wherein, R^1 is H, methyl or ethyl; R^2 is n-propyl or i-propyl; R^3 is H, n-propyl or i-propyl) at 80-170°C in the presence of an antioxidant.
酸化防止剤の存在下、一般式（Ｉ）（式中、Ｒ^1は水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ^2はｎ−プロピル基又はｉ−プロピル基を示し、Ｒ^3は水素原子、ｎ−プロピル基、又はｉ−プロピル基を示す。）で表されるアセタール化合物を含有する原料を８０〜１７０℃で蒸留する工程を有するアセタール化合物の精製方法。 - 特許庁 - The ink composition comprises (a) a radical-polymerizable compound and (b) at least one pyrithione compound represented by general formula (I) (wherein R and R' are each a hydrogen atom or a monovalent group; n is an integer of 1-4; and when n is 2 or more, R' may be the same or different) as a photopolymerization initiator.
（ａ）ラジカル重合性化合物、及び（ｂ）光重合開始剤として少なくとも１種の下記一般式（Ｉ）で表されるピリチオン化合物、を含有することを特徴とするインク組成物：（式中、Ｒ、Ｒ'は水素原子もしくは一価の基を表す。ｎは１〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合、Ｒ'は互いに同一でも異なっていてもよい。）。 - 特許庁 - The abrasion-resistant gasoline composition has a research octane number of ≥89 and <96 and a sulfur content of ≤10 mass ppm and contains a compound expressed by general formula (1): R^1-O-R^2 (R^1 is a 2-8C straight or branched chain alkyl; and R^2 is H or a 3-5C branched chain alkyl).
リサーチ法オクタン価が８９以上９６未満であり、硫黄分が１０質量ｐｐｍ以下であって、下記の一般式（１） Ｒ^1−Ｏ−Ｒ^2 ・・・（１）（式中、Ｒ^1は、炭素数２〜８の直鎖又は分岐アルキル基、Ｒ^2は、水素原子又は炭素数３〜５の分岐アルキル基を表す。）で表される化合物を含有することを特徴とする耐摩耗性ガソリン組成物である。 - 特許庁 - The abrasion-resistant gasoline composition has a research octane number of ≥96 and a sulfur content of ≤10 mass ppm and contains a compound expressed by general formula (1): R^1-O-R^2 (R^1 is a 2-8C straight or branched chain alkyl; and R^2 is H or a 3-5C branched chain alkyl).
リサーチ法オクタン価が９６以上であり、硫黄含有量が１０質量ｐｐｍ以下であって、下記の一般式（１） Ｒ^1−Ｏ−Ｒ^2 ・・・（１）（式中、Ｒ^1は、炭素数２〜８の直鎖又は分岐アルキル基を示し、Ｒ^2は、水素原子又は炭素数３〜５の分岐アルキル基を示す。）で表される化合物を含有することを特徴とする耐摩耗性ガソリン組成物である。 - 特許庁 - The additive for electrolytic copper plating comprises a compound expressed by general formula (1) (wherein, R^1 to R^4 are each hydrogen, a 1-6C alkyl group or a 5-9C cycloalkyl group, which may have a 1-3C substituent, and all of R^1 to R^4 are not simultaneously hydrogen; and M represents an alkali metal, ammonium or monovalent organic ammonium).
以下の一般式（１）で表される化合物からなる電解銅メッキ用添加剤：（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜３の置換基を有していてもよい炭素数５〜９のシクロアルキル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^４の全てが同時に水素原子であることは無く、Ｍは、アルカリ金属、アンモニウムまたは１価の有機アンモニウムを表す） - 特許庁
