「pattern area」を含む例文一覧(3575)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 .... 71 72 次へ＞- The verification device sets a retrieval area in a pattern of a shielded wire of the layout data 30.
検証装置は、レイアウトデータ３０の被シールド配線パターンに対して検索領域を設定する。 - 特許庁 - A part of a support substrate 2 is released through a pattern of a counter-electrode contact area.
支持基板２の一部分は、対向電極コンタクト領域のパターンの中を通って解放される。 - 特許庁 - A character pattern is stored in a bit map area 302 together with its belonging group number.
また、ビットマップ領域３０２には文字パターンが属するグループ番号とともに記憶されている。 - 特許庁 - A command indicating right, left and middle patterns received from a main board is stored in a current pattern area.
主基板から受信した左右中図柄を示すコマンドが今回図柄エリアに格納される。 - 特許庁 - The arrangement pattern of the puzzle elements in the prescribed area is changed according to the operation of a player.
所定領域内におけるパズル要素の配置パターンは、プレイヤの操作に従って変更される。 - 特許庁 - A picture processor retrieves a specific pattern from a partial retrieval area R of a picture.
画像処理装置は、画像の一部の検索領域Ｒについて特定パターンを検索する。 - 特許庁 - A pattern of acceleration in everyday life is automatically detected and registered in the area.
そして、日常生活中の加速度パターンを自動的に検出し、この領域に登録する。 - 特許庁 - To generate a fine crossing groove of a periodic pattern on a surface of a workpiece of the large area.
大面積な被加工物の表面に周期的なパターンの微細な交差溝を生成する。 - 特許庁 - The arrangement pattern of the puzzle elements in the prescribed area is changed according to the operation of a player.
所定領域内におけるパズル要素の配置パターンは、プレイヤの操作に従って変更される。 - 特許庁 - STORAGE SYSTEM FOR CONTROLLING ASSIGNMENT OF STORAGE AREA TO VIRTUAL VOLUME STORING SPECIFIC PATTERN DATA
特定パターンデータが格納される仮想ボリュームへの記憶領域の割り当てを制御するストレージシステム - 特許庁 - Thus, the pattern rotation angle at the edge part of a scan area 7 is made small, and the positional accuracy improves.
これによって、スキャンエリア７端部でのパターン回転角が小さくなり、位置精度が向上する。 - 特許庁 - To accomplish exposure of a non-periodic pattern on a large-area exposed object with high resolution.
大面積の被露光体における非周期性のパターンの露光を高解像力にて行う。 - 特許庁 - An device pattern is acquired from image data to be processed by the area division (S302).
領域分割処理により処理対象の画像データから要素パターンを取得する（Ｓ３０２）。 - 特許庁 - The hairline pattern is drawn, based on hairline data by every separated area by the raster drawing device 5.
ラスタ描画装置５は、各分割領域毎に、ヘアラインデータに基づいてヘアラインパターンを描画する。 - 特許庁 - A pattern container is created in the minimum rectangular area including rectangles of the respective selected fields.
選択している各フィールドの矩形を含む最小の矩形領域に地紋コンテナが作成される。 - 特許庁 - To provide a circuit board whose area of circuit pattern of boundary scan test is reduced.
バウンダリスキャンテストの回路パターンの面積を縮小した回路基板を提供することである。 - 特許庁 - To provide an output circuit the electrostatic destruction strength of which can fully be ensured, while reducing its pattern area.
出力回路のパターン面積を縮小しながら静電破壊強度を十分に確保する。 - 特許庁 - Reference pattern data are recorded on a non-user data area with optimum laser intensity at initial starting.
初期起動時に最適レーザ強度にて非ユーザデータ領域に参照パターンデータを記録しておく。 - 特許庁 - To reduce a polishing process and have a fine gate space pattern on an element separating area.
研磨工程などを削減するとともに素子分離領域の上に微細なゲートスペースパターンを有する。 - 特許庁 - A grid-shaped and/or pattern-shaped hydrophobic area is formed to the light-receiving surface of a solar cell.
太陽電池受光面に、グリット状および／或いはパターン状の疎水性エリアを形成すること。 - 特許庁 - Preferably, in the area R1 between the main grooves, a tread pattern is constituted by siping.
好ましくは、主溝間領域Ｒ１において、トレッドパターンがサイピングにより構成されている。 - 特許庁 - A CPU updates the area table and the occupancy ratio table during inputting the layout pattern.
ＣＰＵは、レイアウトパターンの入力中において、面積テーブル及び占有率テーブルを更新する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a large-area fine pattern inexpensively in high throughput.
高スループット・大面積・低コストの微細パターンの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To improve visibility by making a pattern variation area formed of two or more reels uniformly bright.
複数のリールからなる図柄変動領域を一様に明るくし、視認性の向上を図ること。 - 特許庁 - As a result, an emission distribution pattern A of the light is lied on an almost whole area of the transparent substrate 2.
その結果、光の出射分布パターンＡは透明基板２のほぼ全域に渡ることとなる。 - 特許庁 - A depositing mask 21 is provided with an opening 103 corresponding to a panel pattern area of a display panel.
蒸着マスク２１に表示パネルのパネルパターン領域に対応した開口部１０３を有する。 - 特許庁 - In the filter setting data, a filter pattern displayed in each index area is set.
フィルタ設定データは、各インデックス領域で表示されるフィルタのパターンを設定したデータである。 - 特許庁 - To provide a laminated directional coupler for easily reducing the area required for pattern arrangement.
パターン配置に要する面積の低減が容易な積層型方向性結合器を提供する。 - 特許庁 - After then, a character pattern 352 is segmented from the area 351 of the image 340 to execute character recognition.
その後、イメージ３４０の領域３５１から文字パターン３５２を切り出して文字認識を行う。 - 特許庁 - In the reticle 1 provided with plural patterns in which a light shielding area and a light transmissive area are alternately formed at a prescribed pitch so that the pitch between the light shielding area and the light transmissive area of each pattern is different from each other, the pattern having a fine pitch in the plural patterns is placed on the central side in an exposure area L of the reticle 1 than the pattern having a coarse pitch.
光遮断領域と光透過領域とが所望のピッチで交互に形成されているパターンを複数個備え、かつ前記複数のパターンに形成された光遮断領域と光透過領域とのピッチが互いに異なるレチクルにおいて、前記複数のパターンのうちピッチの細かいパターンを、ピッチの粗いパターンよりも、レチクル照明領域の中央部側に配置する。 - 特許庁 - The image processor includes a character area decision means of deciding a character area from input image data, a pattern recognizing means 204 of recognizing the specific pattern from the input image data, and a control means 203 of performing processing for excluding an area decided as the character area from based upon a character area decision result from objects of specific pattern recognition.
入力された画像データから文字領域を判別する文字領域判別手段５３と、入力された画像データから特定パターンを認識するパターン認識手段２０４と、前記文字領域判別結果により文字領域と判別された領域は、前記特定パターン認識を行う対象から除外する処理を行う制御手段２０３を備えている。 - 特許庁 - The synchronous position detecting code (121) is recorded in the fixed code area (111), and this code contains a combination pattern of a pattern with (k + 2) consecutive pieces of "0" and a pattern with two consecutive pieces of "0".
固定コード領域（１１１）に同期位置検出用コード（１２１）を記録し、このコードには“０”がｋ＋２個連続するパターンと“０”が２個連続するパターンの組み合わせパターンが含まれる。 - 特許庁 - A peak position having the highest correlation value is regarded as the area for aligning of the pattern to be measured, and the positions of the areas for aligning of the master pattern and the pattern to be measured are adjusted (step 110).
最も相関値が高いピーク位置を被測定パターンの位置決め用領域と見なし、マスタパターンと被測定パターンの位置決め用領域の位置を合わせる（ステップ１１０）。 - 特許庁 - A character frequency calculation part divides a circuit pattern to be exposed in a plurality of small areas, and calculates the frequency appearance of a character pattern constituting the details of the circuit pattern for every small area.
キャラクタ頻度計算部は、露光すべき回路パターンを複数の小領域に分割し、各小領域ごとに回路パターンの細部を構成するキャラクタパターンの出現頻度を計算する。 - 特許庁 - A control means lessens the amount of arrangement of the liquid material arranged on the substrate 20 in a region 51 outside of a pattern region 50 as compared with the pattern area 50, in which the pattern is formed.
制御手段は、基板２０上に配置される液体材料の配置量を、パターンが形成されるパターン領域５０に比べて、パターン領域の外側の領域５１で少なくする。 - 特許庁 - This processing method forms holes by recording an etching pattern (an area removed by etching) in a substrate, forming a prior machine hole inside the etching pattern, and executing the isotropic etching according to the etching pattern.
基板にエッチングパターン（エッチングにより除去される領域）を記録し、前記エッチングパターン内に加工先穴を形成し、前記エッチングパターンに従って等方性エッチングを行い、穴を形成する。 - 特許庁 - Furthermore, since no cut is made in the land pattern (4), adhesion area to an insulating substrate is not decreased and thereby stripping of pattern is prevented and the lead pattern (7) can be led out in any direction.
また、ランドパターン（４）には、切り欠き部が形成されないので、絶縁基板との密着面積が減少せず、パターン剥離を防ぎ、また、いずれからもリードパターン（７）を引き出すことができる。 - 特許庁 - The pattern area rate in the peripheral region around the correction cell including the respective pattern as the objective of correction is measured based on the design data for forming the real pattern (ST1 to ST3).
実パターン形成用の設計データに基づき、補正対象となる各パターンを含む補正セルを中心とした周辺領域内におけるパターン面積率を測定する（ＳＴ１〜ＳＴ３）。 - 特許庁 - A losing pattern is displayed in a special pattern display area 9A in losing, and established patterns for which left, right and center patterns do not match are displayed in decorative pattern display areas 9B.
はずれ時には、特別図柄表示エリア９Ａにはずれ図柄が表示され、飾り図柄表示エリア９Ｂには左右中図柄が一致していない確定図柄が表示される。 - 特許庁 - Since the pattern is made to disappear once from the display area and then the projecting pattern is stopped and displayed, poor appearance of the pattern and unusual variation display control are reduced during variation display.
しかも、一旦表示エリアから図柄を消滅させて、その後、出目図柄を停止表示させるので、変動表示中の図柄の見苦しさや変動表示制御の不自然さが低減される。 - 特許庁 - The packet comparing part 136 compares the received packet with a pattern showing each pattern information stored in a pattern file storage area 134c to thereby detect the known attack packets.
パケット比較部１３６は、受信パケットをパターンファイル格納領域１３４ｃに格納されている各パターン情報の示すパターンと比較することで既知の攻撃パケットを検出する。 - 特許庁 - To provide a pattern defect detector and a pattern defect detecting method capable of detecting a pattern defect without generating detection missing, and allowing the detection without lowering a detection speed, and without separating a defective area.
パターンの欠陥を漏れなく検出し、検出速度を低下させず、欠陥領域を分離させずに検出可能なパターン欠陥検出装置及びその方法を提供する。 - 特許庁 - A losing pattern is displayed in a special pattern display area 9A in losing, and established patterns wherein left, right and center patterns do not match are displayed in decorative pattern display areas 9B.
はずれ時には、特別図柄表示エリア９Ａにはずれ図柄が表示され、飾り図柄表示エリア９Ｂには左右中図柄が一致していない確定図柄が表示される。 - 特許庁 - To provide a multi-gradation photomask which has a resist pattern having a desired remaining film value of thickness in a translucent area without reference to a pattern shape and a method of manufacturing the same, and a pattern transfer method.
半透光領域においてパターン形状によらず、所望の厚さの残膜値のレジストパターンを得ることができる多階調フォトマスク及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - In a pattern (A) of a region 1-2, an area 1 is a high-density area where ultrasonic beams are scanned at high density, an area 2 is a low-density area where ultrasonic beams are scanned at low density, and an area 3 is a blank area where no ultrasonic beams are scanned.
領域１−２のパターン（Ａ）において、領域１は超音波ビームが高密度に走査される高密度領域であり、領域２は超音波ビームが低密度に走査される低密度領域であり、領域３は超音波ビームが走査されないブランク領域である。 - 特許庁 - The display area of a special picture pattern display device 310 is divided into a first area 311 and a second area 312 and, in a process for displaying a prescribed display result ('777', for example), on the second area 312, identification information displayed on the first area 311 is moved to the second area 312 and displayed.
特別図柄表示装置３１０の表示領域を第１領域３１１と第２領域３１２に分け、第２領域３１２に所定の表示結果（例えば「７７７」）を導出表示する過程で、第１領域３１１に表示した識別情報を第２領域３１２に移動表示する。 - 特許庁 - The photo mask device 20 has a pattern formation mask 21 with a translucent pattern formation area where translucent patterns 26 are placed in grids, and a lighting area partitioning mask 22 with a lighting area 27 formed at the center and a light shielding part 28 surrounding the lighting area 27.
フォトマスク装置２０は、マトリックス状に透光パターン２６が配置された透光パターン形成領域を有するパターン形成用マスク２１と、中央に形成された採光領域２７と採光領域２７を囲む光遮断部２８とを有する採光領域区画用マスク２２とを備える。 - 特許庁 - An image process condition of the printing area is corrected from a test pattern detection result of the out-of-printing area on the basis of the information of a difference between an image state obtained from the test pattern detection result of the out-of-printing area and an image state of the printing area obtained by scanning a test chart 1,150.
印刷外領域のテストパターン検知結果から得た画像状態と、テストチャート１１５０を走査して得た印刷領域の画像状態の差の情報を元に、前記印刷外領域の前記テストパターン検知結果から、前記印刷領域の画像プロセス条件を補正するようにした。 - 特許庁 - In turn, the correction of proximity effect is performed every area DA in response to the area density of the design pattern in each area DA by processing graphically the area of display patterns (D1 to D5) each of which is generated in each area DA.
次に、各分割領域ＤＡ内に生成された表示パターン（Ｄ１〜Ｄ５）の面積を図形的に処理して、各分割領域ＤＡ内の設計パターンの面積密度に応じて、各分割領域ＤＡ毎に近接効果の補正を行う。 - 特許庁 - An embedding means 102 embeds the figure pattern 113 in the detected figure pattern area to generate data 114 embedded with a watermark.
埋め込み手段１０２は、検出された図形パターン領域に図形パターン１１３を埋め込んで、透かし入り画像データ１１４を生成する。 - 特許庁
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