「pattern area」を含む例文一覧(3575)

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  • A pattern area is extracted as a minimum area enclosed by a right pattern area slope, a left pattern area slope and a pattern area base.
    パタンエリアは、右パタンエリアスロープ、左パタンエリアスロープ、および、パタンエリアベースによって囲まれた最小の領域として抽出される。 - 特許庁
  • AREA PARTITION PATTERN DECISION METHOD
    領域分割パターン決定方法 - 特許庁
  • An address difference between a first special pattern change timer area and a second special pattern change timer area, an address difference between a first special pattern display pattern data area and a second special pattern display pattern data area and an address difference between a first special pattern stop pattern area and a second special pattern stop pattern area are set to the same address difference.
    第１特別図柄変更タイマエリアと第２特別図柄変更タイマエリアとのアドレス差、第１の特別図柄表示図柄データエリアと第２の特別図柄表示図柄データエリアとのアドレス差、第１特別図柄停止図柄エリアと第２特別図柄停止図柄エリアとのアドレス差を同一のアドレス差に設定する。 - 特許庁
  • is supplied with preg , a pointer to a pattern buffer storage area; regex ,
    はパターンを記憶するバッファへのポインタpreg 、 - JM
  • To widen the effective area of an antenna pattern.
    アンテナパターンの実効面積を広くすること。 - 特許庁
  • An image area discrimination circuit 120 separates a black character edge area, a color character edge area, and a pattern area.
    像域判定回路１２０によって黒文字エッジ領域、色文字エッジ領域、絵柄領域を分離する。 - 特許庁
  • PATTERN CLASSIFICATION DEVICE, IMAGE AREA DIVIDING DEVICE, METHOD OF CLASSIFYING PATTERN, AND METHOD OF DIVIDING IMAGE AREA
    パターン分類装置、画像領域分割装置、パターン分類方式及び画像領域分割方式 - 特許庁
  • This test pattern is composed of a test pattern area 10 with the following constitution, and a separation area 20.
    テストパターンを、以下の構成を有するテストパターン領域１０と、区切り領域２０で構成する。 - 特許庁
  • This test pattern is composed of a test pattern area 10 with the following constitution, and a solid area 20.
    テストパターンを、以下の構成を有するテストパターン領域１０と、ベタ塗り領域２０で構成する。 - 特許庁
  • A processing area setting method in pattern matching sets a processing condition on the basis of the degree of overlapping between a pattern area and a mask area when the pattern area overlaps on a target area and the mask area in the process of moving the pattern area.
    パターンマッチングにおける処理領域設定方法は、パターン領域を移動させる段階でパターン領域が前記対象領域とマスク領域にまたがるとき、パターン領域とマスク領域との重なりの程度に基づいて処理条件を設定する。 - 特許庁
  • The resin pattern 10 may have a high density area of high pattern density and a low density area of low pattern density, and it may have a wide area of wide pattern width and a narrow area of narrow pattern width.
    樹脂パターン１０は、パターン密度が高い高密度領域と、パターン密度が低い低密度領域とを有するものであってもよく、パターン幅の広い広幅領域とパターン幅の狭い細幅領域とを有するものであってもよい。 - 特許庁
  • The functional liquid is located on the pattern forming area to form a film pattern.
    パターン形成領域に前記機能液を配置し、膜パターンを形成する。 - 特許庁
  • PATTERN FORMATION DEFECTIVE AREA CALCULATING METHOD AND PATTERN LAYOUT EVALUATING METHOD
    パターン形成不良領域算出方法およびパターンレイアウト評価方法 - 特許庁
  • A short circuit critical area is estimated from the equipotential pattern.
    等電位パターンから短絡クリティカルエリアを求める。 - 特許庁
  • An area pattern storage part 102 stores the area pattern of the fingertip coordinate position corresponding to a shape of the hand.
    エリアパターン記憶部１０２は、手形状に対応付けて指先座標位置のエリアパターンを記憶する。 - 特許庁
  • The first light-transluent area B has a pattern of a wide area, and the second light-transluent area C has a pattern including a narrow width.
    第１半透光領域Ｂは広い領域のパターンであり、第２半透光領域Ｃは狭い幅を含むパターンである。 - 特許庁
  • The warning lamp 5 has a narrow area light emitting source 51 forming a narrow area light distribution pattern, and a wide area light emitting source 52 forming a wide area light distribution pattern.
    また、警告灯５が狭域配光パターンを形成する狭域発光源５１と広域配光パターンを形成する広域発光源５２とを有する。 - 特許庁
  • The phase of the servo area pattern of recording area of the front surface side of the substrate, and the phase of the servo area pattern of the recording area of the back surface side of the substrate are shifted with each other.
    基板表面側の記録領域のサーボ領域パターンと基板裏面側の記録領域のサーボ領域パターンとは、互いに位相がずれている。 - 特許庁
  • If the converted touch pattern is identical to the registered pattern, the touch pattern is converted into different touch pattern by modifying the touch pattern input area (S15).
    変換されたタッチパターンが登録済みのタッチパターンと同じ場合、タッチパターンの入力エリアを変更して異なるタッチパターンへ変換する（Ｓ１５）。 - 特許庁
  • A sample pattern and its correction pattern are stored in a sample storage area 15.
    雛形記憶領域１５に、雛形パターン及びその補正パターンが記憶さる。 - 特許庁
  • To accurately form a pattern even in an area being out of periodicity of a pattern.
    パターンの周期性から外れる部分においても、正確にパターンを形成する。 - 特許庁
  • To reduce a circuit pattern area, and to increase dimensional accuracy of a hole pattern.
    回路パターン面積を縮小するとともに、ホールパターンの寸法精度を高める。 - 特許庁
  • This linear pattern layout method designs the linear pattern of each pattern area edge such that it is arranged, with a second space, parallel to the linear pattern of an adjacent pattern area edge, and that the linear pattern of each pattern area edge has an expanded overhang at its edge part.
    このライン型パターンのレイアウト方法は各パターン領域エッジのラインパターンは隣り合うパターン領域エッジのラインパターンと第２間隔を置いて平行に配置し、各パターン領域エッジのラインパターンはその端部に拡張されたオーバーハングを有するようにデザインする。 - 特許庁
  • The reference pattern image includes an upper limit pattern image 50 having a different upper limit brightness in each gray area in the pattern and a lower limit pattern image 51 having a different lower limit brightness in each gray area in the pattern.
    基準パターン画像は、パターンの濃淡域毎に上限の輝度が異なる上限パターン画像５０と濃淡域毎に下限の輝度が異なる下限パターン画像５１とを含む。 - 特許庁
  • Otherwise, how much the pattern area is protruded from the target area is represented with coordinates, and the pattern area up to a prescribed value is decided to be an object to be processed.
    あるいはパターン領域が対象領域からいくらはみ出たかを座標で表し、所定の値までを処理対象とする。 - 特許庁
  • METHOD FOR PRINTING LARGE AREA PATTERN BY OFFSET PRINTING PROCESS
    オフセット印刷法による大面積パターンの印刷方法 - 特許庁
  • AREA DIVISION METHOD FOR SPECTRUM WAVEFORM PATTERN, AND PROGRAM
    スペクトル波形パターンの領域分割方法およびプログラム - 特許庁
  • In the printable pattern list display area 102, a printable pattern including the pattern structure of an input print pattern is enumerated as a print pattern candidate.
    印刷可能パターンリスト表示領域１０２には、入力印刷パターンのパターン構成を含む印刷可能パターンが印刷パターン候補として列挙されている。 - 特許庁
  • The area density of a design pattern in the density calculation area is calculated (an area density calculating part 46).
    密度計算領域における設計パターンの面積密度を計算する（面積密度計算部４６）。 - 特許庁
  • A mask 14 has a pattern area 10 in which a transfer pattern is formed.
    マスク１４は、転写パターンの形成されているパターン領域１０を有している。 - 特許庁
  • When one image includes a pattern area 120, a graph area 110 and a sentence area 102 ((A)), the copy check pattern is superposed to the graph area 110 or the sentence area 102 ((B)) without superposing the copy check pattern on the pattern area 120.
    １枚の画像に、図形の領域１２０、グラフの領域１１０及び文章の領域１０２を有する場合（（Ａ））、図形の領域１２０内には複製牽制模様を重畳せず、グラフの領域１１０や文章の領域１０２に複製牽制模様を重畳させる（（Ｂ））。 - 特許庁
  • Next, a 2nd pattern part area formed in the pattern area is positioned with respect to the optical system 16 and its pattern is exposed to a 2nd unit exposure area adjacent to the 1st unit exposure area.
    次いで、パターン領域に形成された第２パターン部分領域を投影光学系に対して位置決めし、そのパターンを第１単位露光領域と隣り合う第２単位露光領域に露光する。 - 特許庁
  • On the other hand, in a pattern (B) of a region 1-3, an area 1 is a high-density area, an area 2 is a blank area and an area 3 is a low-density area.
    一方、領域１−３のパターン（Ｂ）において、領域１は高密度領域であり、領域２はブランク領域であり、領域３は低密度領域である。 - 特許庁
  • To increase the mounting area of the pattern of a printed board and the mounting area of an electronic component.
    プリント基板のパターンの実装面積や電子部品の実装面積を増やす。 - 特許庁
  • The area of each heat dissipation pattern is larger than the area of the corresponding semiconductor element.
    各放熱パターンの面積は対応する半導体素子の面積以上である。 - 特許庁
  • The size or position of a pattern image display area is changed to be displayed, or the pattern image display area is erased from an image display area.
    図柄画像表示領域の大きさや位置を変更して表示したり、画像表示領域から図柄画像表示領域を消滅させる。 - 特許庁
  • Simultaneously with the start of shake variation in a left pattern display area, a pattern one after a stop pattern is displayed in a right pattern display area at the timing of right pattern replacement.
    左図柄表示エリアにおいて揺れ変動が開始されると同時に、右図柄表示エリアにおいて、右図柄差替のタイミングで、右図柄表示エリアにおいて停止図柄の１図柄後の図柄が表示される。 - 特許庁
  • The pattern of the transparent electrode is formed on the whole area of the pattern of the lower electrode.
    また、下電極のパターンのすべての領域上に透明電極のパターンを形成する。 - 特許庁
  • The pattern of the transparent electrode is formed on the whole area of the pattern of the light emitting layer.
    発光層のパターンのすべての領域上に透明電極のパターンを形成する。 - 特許庁
  • AREA RATIO/OCCUPANCY RATIO VERIFICATION METHOD AND PATTERN PRODUCTION METHOD
    面積率／占有率検証方法及びパターン生成方法 - 特許庁
  • The handwriting pattern gesture designates an area on a display surface.
    手書き図形ジェスチャは、表示面上の領域を指定する。 - 特許庁
  • METHOD FOR PATTERN PRINTING BY DIVIDED PRINTING AREA AND COLOR FILTER
    分割画線部によるパターン印刷方法及びカラーフィルタ - 特許庁
  • To increase the area of the circuit pattern of a semiconductor device, etc.
    半導体素子等の回路パターンの大面積化を図る。 - 特許庁
  • If a code type is the same, the pattern of the area β becomes the same.
    コードタイプが同じなら、領域（ロ）のパターンは同じになる。 - 特許庁
  • To provide a technology making the area to be obtained of an actual pattern close to the area of a design pattern in an ink jet process.
    インクジェットプロセスにおいて、得られる実パターンの面積を設計パターンの面積に近づける技術を提供すること。 - 特許庁
  • To reduce degradation of a picture by surely discriminating a pattern area reproduced by fine parallel line patterns as a pattern area.
    万線パターンによって再生された絵柄領域を確実に絵柄領域と判定し、画像劣化を減少させること。 - 特許庁
  • Major surface of a substrate W is separated into a pattern area PA for forming a pattern, and an edge area EA not subjected to pattern formation.
    基板Ｗの主面は、パターン形成が行われるパターン領域ＰＡとパターン形成の対象外である端縁部領域ＥＡとに分離されている。 - 特許庁
  • Then, a 1st pattern part area formed in the pattern area is positioned with respect to the optical system 16 and its pattern is exposed to a 1st unit exposure area on a photosensitive base plate 17.
    そして、パターン領域に形成された第１パターン部分領域を投影光学系に対して位置決めし、そのパターンを感光性基板（１７）上の第１単位露光領域に露光する。 - 特許庁
  • A plurality of pattern images having different area ratio are formed by a pattern signal generating apparatus 41 (pattern image forming means) in an area of low area ratio including an image reproduction start point setting value.
    パターン信号発生装置４１（パターン画像生成手段）により画像再現開始点設定値を含む面積率が低い領域で、異なる面積率の複数のパターン画像を形成する。 - 特許庁
  • A test pattern area where a test pattern is formed is set on an intermediate transfer belt 4, and a reference area is set in an area where a test pattern is not formed.
    中間転写ベルト４上に、試験パターンが形成される試験パターン領域が設定されるとともに、試験パターンが形成されない領域において、基準領域が設定される。 - 特許庁
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