「pattern area」を含む例文一覧(3575)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 71 72 次へ＞- In a losing, a losing pattern is displayed in a special pattern display area 9A, and established patterns in which left, right and center patterns do not match are displayed in a decorative pattern display area 9B.
はずれ時には、特別図柄表示エリア９Ａにはずれ図柄が表示され、飾り図柄表示エリア９Ｂには左右中図柄が一致していない確定図柄が表示される。 - 特許庁 - In the pattern formation area 3 of the photomask 1, a plurality of patterns 5B for the measurement of the pattern arrangement in the pattern formation area 3 are disposed dispersed.
フォトマスク１のパターン形成領域３内に、そのパターン形成領域３内のパターンの配置位置を測定するための位置測定用パターン５Ｂを複数分散させて配置した。 - 特許庁 - When the game ball passes the starting area 27, a first to third display patterns 41 to 43 in the pattern display area of the pattern display device 30 are varied to start the display pattern variation cycle.
遊技球が始動領域27を通過すると、図柄表示装置30の図柄表示領域の第１ないし第３表示図柄41〜43が変動して表示図柄変動サイクルが開始する。 - 特許庁 - In the pattern forming method to form a superfine pattern and a large area pattern on a process film on a substrate 11, an electron beam resist pattern film for forming a superfine pattern from the process film is formed by electron beam lithography, and a photoresist pattern film to form a large area pattern from the process film is formed through photolithography.
基板１１上の加工膜に、超微細パターンと大面積パターンを形成するパターン形成方法において、加工膜を超微細パターンに形成するための電子線レジストパターン膜を電子線描画により形成し、加工膜を大面積パターンに形成するためのフォトレジストパターン膜をフォトリソグラフィにより形成した。 - 特許庁 - A fingertip position area recognizing part 101 recognizes a pattern of the area to which the acquired fingertip coordinate belongs as an area pattern when the image is divided into radial areas based on the center.
指先位置エリア認識部１０１は、画像を中心を基準とした放射状のエリアに区分するとき、取得された指先座標が属するエリアのパターンをエリアパターンとして認識する。 - 特許庁 - Electric connection is kept with a jumper cable 25 concerning the wiring pattern of the separable area 20a and the wiring pattern of a remaining area 20b, even after the separable area 20a is separated.
分離可能領域２０ａの配線パターンと残余領域２０ｂの配線パターンとは、分離可能領域２０ａの分離が実行された後もジャンパ線２５で電気的接続を維持する。 - 特許庁 - The display part displays the pattern on the display area in the cleaning mode for cleaning the input area, and the control part enhances the transparency of the pattern on the partial area, based on the signal of specifying the partial area.
入力領域の清掃を行うための清掃モード時において、表示部は、パターンを表示領域に表示し、制御部は、部分領域を特定する信号に基づいて、部分領域上のパターンの透明度を上げる。 - 特許庁 - The input device has a base material, an electrode pattern formed on a surface of the base material, and a wiring pattern electrically connected to the electrode pattern, and the wiring pattern is arranged within an edge portion area (non-input area) positioned outside an input area.
基材と、前記基材の表面に形成された電極パターンと、前記電極パターンに電気的に接続された配線パターンとを有し、前記配線パターンは、入力領域の外側に位置する縁部領域（非入力領域）内に配置されている。 - 特許庁 - In the process, an area of a drawing pattern before division is obtained in a first area calculation circuit 30, the total of an area of each output pattern after division is obtained in a second area calculation circuit 34 and the obtained two kinds of area are compared.
その際、第１の面積計算回路３０において分割前の描画パターンの面積を求め、第２の面積計算回路３４において分割後の各出力図形の面積の累計を求め、求められた２種の面積を比較する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming substrate which has a uniform continuous pattern form over a larger area compared with a pattern pitch.
パタンピッチに比べ大きな面積にわたり、均一で連続したパタン形状を有するパタン形成基板を提供することを目的の一とする。 - 特許庁 - A pattern matching part 7 detects the recognition area of input image data by pattern-matching the input image data and a specified image pattern.
パターンマッチング部７は入力画像データと特定画像パターンをパターンマッチングすることにより入力画像データの認識領域を検出する。 - 特許庁 - An active layer 3 covers at least whole sidewalls of the first pattern and the second pattern, and a predetermined area of the second pattern.
活性層３が、第１のパターンおよび第２のパターンの側壁の少なくとも全体と第２のパターンのその所定の領域とを被覆する。 - 特許庁 - A pattern storage apparatus 5 houses a coating pattern having a dimension larger than an area where the construction board is coated.
パターン記憶装置５は建築板に塗装する領域よりも大きい寸法の塗装パターンを格納している。 - 特許庁 - Furthermore, the picture pattern area ratio of each ink of the picture pattern region is a chart changed by 15-50%.
さらに、前記絵柄領域の各インキ色の絵柄面積率は、１５〜５０％で変化させたチャートを提供する。 - 特許庁 - AUTOMATIC GUIDED VEHICLE, AUTOMATIC GUIDED VEHICLE OPERATION SYSTEM, ITS CONTROL METHOD, RECORDING MEDIUM, SOFTWARE, BLOCK PATTERN, AND WIDE-AREA PATTERN
無人搬送車、無人搬送車運転システム、その制御方法、記録媒体、ソフトウェア、ブロックパターン及び広域パターン - 特許庁 - The photosensitive film pattern is formed using a mask having a slit pattern in a area corresponding to the second portion.
この感光膜パターンは、第２部分に対応する領域にスリットパターンを有するマスクを用いて形成する。 - 特許庁 - To improve reproducibility of an edge pattern even when detection precision of the edge pattern from an adjacent area is low.
隣接領域からのエッジパターンの検出精度が低い場合にもエッジパターンの再現性を向上させる。 - 特許庁 - A CPU reproduces chord pattern data by combining rhythm pattern set data specified by the data of a set specifying area.
ＣＰＵは、コードパターンデータを、そのセット指定エリアのデータが指定するリズムパターンセットデータと組み合わせて再生する。 - 特許庁 - In the Pachinko game machine, the display area of a decorative pattern of the pattern display device 26 is halved .
本発明のパチンコ遊技機は、図柄表示装置２６の装飾図柄の表示領域を２つに分割する。 - 特許庁 - A corner determination part 136 uses a pattern to detect a change area corner.
コーナ判定部１３６は、パターンを用いて変更領域コーナを検出する。 - 特許庁 - Correction object patterns are stored in a correction object pattern storage area 17.
補正対象パターン記憶領域１７に、補正対象パターンが記憶される。 - 特許庁 - A detection part detects a moving pattern of an input position to the character area.
検出部は、文字領域への入力位置の移動パターンを検出する。 - 特許庁 - To accomplish automatic layout of an area pad and a wiring pattern around the same.
エリアパッドやその周辺の配線パターンを自動でレイアウトすることができる。 - 特許庁 - An image pattern deformation means 140 deforms the image of the correction area.
画像パターン変形手段１４０は、補正領域の画像を変形させる。 - 特許庁 - PATTERN AREA SPECIFYING METHOD, DOT IMAGE GENERATION CIRCUIT AND ITS CONSTITUTION CIRCUIT
パターン領域特定方法、網点画像生成回路及びその構成回路 - 特許庁 - To provide a graft pattern forming method for forming a pattern in which a boundary between a graft polymer production area and a graft polymer nonproduction area is clear.
グラフトポリマー生成領域と非生成領域との境界が鮮明なパターンを形成することのできるグラフトパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for measuring an area ratio of a printing plate pattern, by which the area ratio of the printing plate pattern drawn by a laser can be measured with high accuracy.
レーザで描画した刷版パターンの面積率を高精度に測定する刷版パターンの面積率の測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The predetermined pattern is a pattern not causing a space in the water repellent area 11 extending in the diaper longitudinal direction and piercing the water repellent area 11.
該所定のパターンは、撥水性領域１１内に、おむつ長手方向へ延び且つ該撥水性領域１１を貫ぬく間隙が生じないようなパターンとする。 - 特許庁 - The planar shape and the sectional area of the metallic pattern 2b for soldering are substantially identical with the planar shape and the sectional area of the metallic pattern 1b, respectively.
半田接合用金属パターン２ｂの平面形状およびその面積は、金属パターン１ｂの平面形状および面積と、実質的に同一にされている。 - 特許庁 - The planar shape and the planar area of a second active dummy pattern 11b is larger than the planar shape and the planar area of a first active dummy pattern 11a.
第２アクティブダミーパターン１１ｂの平面形状および平面積は、第１アクティブダミーパターン１１ａの平面形状および平面積よりも大きい。 - 特許庁 - In addition, a pattern with the second block phases is left in the second area except the overlapping area, and the processed film is etched using the remaining pattern as a mask.
また、重なり領域を除く第２の領域に第２のブロック相のパターンを残存させ、残存したパターンをマスクとして被加工膜をエッチングする。 - 特許庁 - The predetermined area in the pattern layout of the original product displayed on the monitor and the predetermined area of the pattern layout of the new product are alternately and visually observed to be confirmed.
モニタに表示されている元製品のパターンレイアウト中の所定領域と新製品のパターンレイアウトの所定領域とを交互に目視して確認する。 - 特許庁 - This exposure device is provided with the blind device 10 regulating the illuminating area of a mask R having a pattern, and a pattern image transmitted through the illuminating area is exposed on a base plate P.
パターンを有したマスクＲの照明領域を規定するブラインド装置１０を備え、照明領域を透過したパターン像を基板Ｐに露光する。 - 特許庁 - Next, the area density of a design pattern in each divided area DA is computed every divided area DA and display patterns(D1 to D5) each of which has an area corresponding to the area density of the design pattern in each divided area DA are generated in respective divided areas DA.
次に、各分割領域ＤＡ毎に、各分割領域ＤＡ内の設計パターンの面積密度を算出し、各分割領域ＤＡ内の設計パターンの面積密度に応じた面積を有する表示パターン（Ｄ１〜Ｄ５）を各分割領域ＤＡ内に生成する。 - 特許庁 - This aligning method of semiconductor integrated circuit includes a step by which aligning pattern data per a specified unit area is extracted from aligning pattern data inputted in an aligning device, and the aligning pattern data extracted and a dummy pattern data for every specified unit area are merged and the aligning processing of the aligning pattern data and the dummy pattern data merged is executed for every area.
露光装置に入力した露光パターンデータから所定の単位領域毎の露光パターンデータを抽出し、抽出した露光パターンデータと、所定の単位領域毎のダミーパターンデータとをマージし、マージした露光パターンデータとダミーパターンデータとを単位領域毎に露光処理するステップとを有することを特徴とする半導体集積回路の露光方法。 - 特許庁 - To provide a method for separating a pattern image area and a character / line drawing area of a dotted image with high accuracy.
網点化画像の絵柄画像領域と文字・線画領域とを高精度に分離する方法を提供する。 - 特許庁 - The pattern surface has the setting area of the button battery, and a protruding element 17 is provided in the setting area.
パターン面はボタン電池のセット領域を有し、そのセット領域には突起要素１７が設けられている。 - 特許庁 - The pattern image area and the character / line drawing area can be subjected to separate processing with high accuracy by using the separation mask.
該分離マスクを用いることで、絵柄画像領域と文字・線画領域との高精度の分離処理が行える。 - 特許庁 - In the SAD (selected-area diffraction) mode, the specimen area that contributes to the diffraction pattern is defined by a selector aperture.
SAD(制限視野回折)モードでは、回折図形に寄与する試料領域はセレクター絞りによって限定される。 - 科学技術論文動詞集 - An area of a determination pattern is divided into two or more areas using the area division central point under the same conditions as the step of selecting the representative point of the standard pattern, and a determination pattern pixel position at the maximum distance from the area division central point is selected as a representative point of the determination pattern for each divided area.
被判定パターンの領域を、標準パターン代表点選定ステップと同じ条件で領域分割中心点を用いて２つ以上の領域に分割し、分割領域ごとに領域分割中心点から最大距離にある被判定パターン画素位置を被判定パターン代表点として選定する。 - 特許庁 - Each function value is set every area section (an acceleration area Z_1, a generally constant velocity area Z_2, a deceleration area Z_3, a positioning adjusting area Z_4) corresponding to a specified carrying pattern scheduled in advance.
各関数値は予定されている所定の運搬形態に応じた各領域区分（加速領域Ｚ_1 ，略等速領域Ｚ_2 ，減速領域Ｚ_3 ，位置付け調整領域Ｚ_4 ）毎に設定されている。 - 特許庁 - A matching area setting means sets a residual area deleted with the recognition finish area from the matching area, as a new matching area, and repeats recognition processing for the indicating body by the shape pattern-matching.
マッチング領域設定手段は、マッチング領域から認識済領域を削除した残余領域を新たなマッチング領域に設定し、形状パターンマッチングによる標示体の認識処理を繰り返し行う。 - 特許庁 - Design pattern density for a correction object area on the mask is computed and correction data for the mask pattern density corresponding to the design pattern density are selected to correct design pattern data of the correction object area according to the data.
一方、マスク上の補正対象領域に対する設計パターン密度を算出し、この設計パターン密度に対応するマスクパターン密度の補正データを選択し、これに基づいて、補正対象領域の設計パターンデータに補正を行う。 - 特許庁 - The sub-deflection area 203 is divided into a first sub-deflection area 201 and a second sub-deflection area 202 arranged in the checkered pattern.
副偏向領域２０３を市松模様状に配置された第１の副偏向領域２０１と第２の副偏向領域２０２とに分ける。 - 特許庁 - The rear surface has a first area near to the light incident surface, a second area touching the counter surface and a third area connecting the first area to the second area, and a light diffusion pattern is formed in the third area at density higher than that of the first area and the second area.
裏面は、入光面付近の第１領域、対向面に接する第２領域、及び第１領域と第２領域を接続する第３領域を有し、第３領域には第１領域及び第２領域より高い密度で光拡散パターンが形成される。 - 特許庁 - A design pattern 6 is encircled by a ground tint pattern group 5 formed like a background, and the gradation of the ground tint pattern is increased and the half-tone dot size is formed larger and the area ratio of the ground tint pattern group is controlled to be low.
模様パターンを背景色の如く配した地紋パターン群で囲み、該地紋パターンの階調を高くして網点サイズを大とし、かつ該地紋パターン群の面積率を低くする。 - 特許庁 - To provide a pattern simulating method reducing the errors caused by the pattern size differences in the multiple exposure area when comparing the substrate pattern with an expected pattern.
基板パターンを予想した予想パターンとの比較の際の多重露光領域でのパターンの大きさの相違に起因するエラーの発生を抑制したパターンシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁 - When checking the drawing by comparing the substrate pattern with the expected pattern, a simulation pattern can be formed with reduced errors caused by the pattern size differences in the multiple exposure area.
基板パターンを予想した予想パターンと比較して検図する際に、多重露光領域でのパターンの大きさの相違に起因するエラーの発生を防止したシミュレーションパターンを形成できる。 - 特許庁 - A difference graphic pattern 3 is obtained from correction mask pattern data 2 and original mask pattern data 1, and computer micrographics-macrographics 4 and area comparison 5 are performed.
補正マスクパターンデータ２と原マスクパターンデータ１から差分図形パターン３を求め、縮小−拡大図形演算処理４と面積比較処理５を行う。 - 特許庁 - When the pachinko balls win prizes at gates 20 and 21 for normal pattern variation provided for the game area 2, a normal pattern of a normal pattern display part 4b1 varies.
遊技領域２に設けられた普通図柄変動用ゲート２０、２１にパチンコ球が入賞すると、普通図柄表示部４ｂ１の普通図柄が変動する。 - 特許庁
- Copyright(C)1996-2026 JEOL Ltd., All Rights Reserved.
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
