「pattern area」を含む例文一覧(3575)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 71 72 次へ＞- A side part 8a of the adhesive layer facing a pattern formation area 4 is covered by an electrodeposition metal layer 9 laminated by an electroforming method at an outer periphery edge 4a of the pattern formation area.
パターン形成領域４に臨む接着剤層の側部８ａを、パターン形成領域の外周縁４ａに電鋳法により積層された電着金属層９で覆う。 - 特許庁 - To extract a specific area (pattern area) including a pattern feature part specific to an individual fingerprint from an input fingerprint image of a person or any other animals.
個々の指紋固有の紋様の特徴的部分を含む特定領域（パタンエリア）を、入力された人間または他の動物の指紋画像から抽出することを可能とする。 - 特許庁 - The collimating area part B1 is formed with a Freznel lens having an asymmetrical pattern.
コリメート領域部Ｂ１は、非対称パターンのフレネルレンズによって形成されている。 - 特許庁 - Next, a protection layer 17 for protecting the circuit pattern is provided in the area of the regulated width.
次いで、回路パターンを保護する保護層１７を、規定幅部領域に設ける。 - 特許庁 - To keep a large area of contact between a metal support substrate and a conductor pattern while keeping high a degree of freedom of design of the conductor pattern by preventing a conductor pattern formation area other than a semiconductor pattern coming into contact with the metal support substrate from being limited.
金属支持基板と接触する導体パターン以外の導体パターン形成エリアが限られてしまうことを防止して導体パターンのデザイン自由度を高い状態で維持しつつ、金属支持基板と導体パターンの密着面積を大きく保つこと。 - 特許庁 - A pixel pattern 8 is formed in the pixel substrate area on the substrate base material 1, a cutting area 11 having a specified width is provided along an end of the pixel substrate area to be cut, and a dummy pixel pattern 12 is formed on a substrate base material 1 in a cutting area facing a pixel substrate area across the cutting area 11.
基板母材１の画素基板領域に画素パターン８を形成し、画素基板領域の切断される端部に沿って所定の幅の切断領域１１を設け、切断領域１１を隔てた画素基板領域と対向する切捨て領域の基板母材１に擬似画素パターン１２を形成する。 - 特許庁 - The elastic fiber position determining section 145 detects an appearance pattern of an elastic fiber present near the high-brightness area, and specifies an area containing the high-brightness area as the blood vessel area from a detection result of the appearance pattern.
弾性線維位置判定処理部１４５は、高輝度領域の近傍に存在する弾性線維の出現パターンを検出し、出現パターンの検出結果に基づいてこの高輝度領域を含む領域を血管領域として特定する。 - 特許庁 - A pattern of gates Φ2, Φ4, and Φ6 of the first layer in the first dummy area A is equal to that in the second dummy area, and a pattern of gates Φ1, Φ3, and Φ5 of the second layer is different by the first dummy area A and the second dummy area B.
１層目ゲートΦ２、Φ４、Φ６のパターンは第１ダミー領域Ａと第２ダミー領域とで同じであり、２層目ゲートΦ１、Φ３、Φ５のパターンは第１ダミー領域Ａと第２ダミー領域Ｂとで異なる２種類のパターンである。 - 特許庁 - To provide a pattern projection aligner that can accurately prepare patterns with high throughput, even if a fine pattern, a pattern having thick line width, a pattern having painted large area, and the like are combined, and to provide a pattern preparation method.
微細なパターンと線幅の太いパターンあるいは大面積の塗りつぶしパターン等が混在している場合においても、高精度、高スループットによってパターン作製が可能なパターン露光装置及びパターン作製方法を提供する。 - 特許庁 - A form of the plurality of isolated patterns in the detecting pattern, a size of a template area for taking out a template pattern and a size of a search area are associated with one another so that a part of the detecting pattern included in the template pattern taken out of first image data becomes only a proper pattern in the search area of second image data even in any case.
第１画像データから切り出したテンプレートパターンに含まれる検出用パターンの一部が、いかなる場合も第２画像データのサーチ領域内で唯一の固有パターンとなるように、検出用パターンの中の複数の孤立パターンの形態、テンプレートパターンを切り出すテンプレート領域のサイズ、サーチ領域のサイズが関係付けられている。 - 特許庁 - Furthermore, a pattern matching result discrimination section 7 also discriminates the propriety of the matching result after a pattern matching section 6 conducts pattern matching, and the matching area extract section 3 extracts a new matching area again when the matching result is not appropriate.
また、パターンマッチング部６によるパターンマッチングが行われた後、そのマッチング結果についても、マッチング結果判定部７にてその適否を判定し、マッチング結果が適切でなければ、マッチング領域の抽出をやり直す。 - 特許庁 - To improve a player's interest in a pattern matching game by providing a first display area and a second display area to display a first pattern and a second pattern related with each other.
第１表示領域および第２表示領域を設け、互いに関連性を有する１次図柄および２次図柄を表示して、遊技者の図柄合わせ遊技への興趣を高めることができる遊技機を提供する。 - 特許庁 - A CPU of a special pattern display device stops and display a projecting pattern appearing in a display area after making a variation displayed pattern disappear once from the display area when it is stopped and displayed.
特別図柄表示装置１００のＣＰＵ１０２０は、変動表示された図柄を停止表示する際に、表示エリアから一旦図柄を消滅させてから、出目図柄を表示エリア内に出現させて停止表示させる。 - 特許庁 - The size of the correction pattern to be superposed on the side to be corrected is calculated based on the area density (a correction pattern size calculating part 48).
面積密度に基づいて、補正対象辺に重ねるべき補正パターンのサイズを計算する（補正パターンサイズ計算部４８）。 - 特許庁 - A dummy pattern 8 like a film is arranged on a non-wiring area 5b on which no wiring pattern is arranged in the base film 5.
そして、ベースフィルム５の配線パターンが配設されていない非配線エリア５ｂに１枚膜状のダミーパターン８が配設されている。 - 特許庁 - "1", "2" and "3" are displayed in a provisional stop pattern display area 404, and the varying display of each pattern is resumed.
そして、仮停止図柄表示領域４０４に「１」「２」「３」と表示されると共に、各図柄の変動表示が再開される。 - 特許庁 - At this time, the conductor patterns 21a and 21b are formed as a solid pattern having an area larger than that of the conductor pattern 21c and 21d.
このとき、導体パターン２１ａ、２１ｂは、導体パターン２１ｃ、２１ｄよりも大きな面積のベタパターンとして形成される。 - 特許庁 - "1", "2" and "3" are displayed in a provisional stop pattern display area 404 and the varying display of each pattern is resumed.
そして、仮停止図柄表示領域４０４に「１」「２」「３」と表示されると共に、各図柄の変動表示が再開される。 - 特許庁 - When the hairline pattern of one separated area is drawn, the drawn hair line pattern is transferred to an image output device 6 by the raster drawing device 5.
そして、ラスタ描画装置５は、一つの分割領域のヘアラインパターンを描画すると画像出力装置６に渡す。 - 特許庁 - In a first step, the presence, position and preferably the dimension of at least one pattern area or image pattern are detected.
第１のステップでは、少なくとも１つのパターン領域または画像パターンの存在と位置と、好ましくは寸法とを検出する。 - 特許庁 - In the outer peripheral part of an LCD 1, a conductive pattern 2 is formed in a non-wiring area where a display pattern 3 is not formed.
ＬＣＤ１の外周部で、表示パターン３が形成されていない無配線領域に、導電パターン２を形成する。 - 特許庁 - To provide a printed wiring board having a uniform height of a circuit pattern on an area required in the uniformity of the circuit pattern height.
回路パターンの高さの均一性を必要とする箇所において、回路パターンの高さが均一なプリント配線板を提供する。 - 特許庁 - Besides, the first dummy pattern D1 and the second dummy pattern D2 are connected by a terminal area 25 which penetrates an insulating layer 17.
そして、第1のダミーパターンＤ１と第２のダミーパターンＤ２とを、絶縁層１７を貫通する接続部２５により接続している。 - 特許庁 - To accurately compute a critical area without depending upon a pattern layout in a method for verifying the semiconductor pattern layout.
本発明は、半導体パターンレイアウトの検証方法において、パターンレイアウトによらず、クリティカルエリアを正確に計算できるようにする。 - 特許庁 - The electrode pattern layer 61 is provided with a projection 611, and elliptic holes 241 area bored in electrode pattern layers 24a and 24b.
電極パターン層６１に突起６１１を設けると共に、電極パターン層２４ａ、２４ｂには楕円形穴２４１を設ける。 - 特許庁 - Pattern matching is performed between a shape pattern extracted as the area SC and shape pattern data stored in the data group to retrieve a file having the shape pattern data similar to the photographed flower.
領域ＳＣとして抽出された形状パターンと、データ群に格納された形状パターンデータとの間でパターンマッチングを行ない、撮影された花に類似する形状パターンデータをもつファイルを検索する。 - 特許庁 - In the inductor, an inductor pattern is formed on a substrate, and a conductive pattern having a convex concave structure is further formed on the inductor pattern in order to increase a surface area of the inductor pattern.
本発明のインダクターは、基板上にインダクターパターンを形成し、インダクターパターンの表面積を増加させるためにインダクターのパターン上に凸凹構造を有する導電パターンをさらに形成する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method by a hybrid lithographic system so as to form a pattern, including a superfine pattern and a large area pattern requiring no accuracy, in a short time with high accuracy.
超微細なパターンと、精度の要求されない大面積パターンとを含むパターンを、高精度にかつ短時間で形成することができるハイブリッドリソグラフィ方式によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern generation circuit of a BIST(build in self test) circuit capable of generating a prescribed test pattern in a small area by reducing the number of test pattern generation circuits, and a test pattern generation method for the BIST circuit.
テストパターン発生回路の数を減じることにより、小面積で所定のテストパターンを発生することができるＢＩＳＴ回路のパターン発生回路及び発生方法を提供する。 - 特許庁 - A mobile terminal adopting it neglects an input pattern of acceleration if a pattern of acceleration similar to the pattern of acceleration stored in the automatically registered pattern storage area is provided.
本発明が適用された携帯端末は、この自動登録パターン格納領域に格納された加速度パターンと類似した加速度パターンが与えられた場合には、入力された加速度パターンを無視する。 - 特許庁 - After the displacement of the planar pattern group, a first pattern to be a special pattern in combination with a second pattern is stopped at the center (a preset position) of the displacement area 6b and then a special award is given to a player.
そして、面状図柄群の変動後に第２図柄との組み合わせで特別図柄になる第１図柄が変動領域６ｂの中央部（所定位置）に停止すると遊技者に特典を与える。 - 特許庁 - An operation pattern detecting part 33 detects an operation pattern of an operation object person on the basis of the vector area, and a determining part 34 compares and determines whether an operation pattern approximates to a reference pattern.
動作パターン検出部３３は、ベクトル領域に基づいて操作対象者の動作パターンを検出し、判定部３４は、動作パターンと基準パターンが近似するか否の比較、判定を行う。 - 特許庁 - Furthermore, an auxiliary pattern 2 formed adjacently to the plane antenna 1 is made not as a linear pattern but as a plane pattern having the same area as one antenna pattern of the plane antenna, thereby suppressing antenna impedance low.
さらに、平面アンテナ１に隣接して形成する補助パターン２を、線状ではなく、平面アンテナの１つのアンテナパターンと同じ面積を有する面パターンとして、アンテナインピーダンスを低く抑える。 - 特許庁 - The dummy pixel pattern 12 is formed in a cutting margin area where no pattern is formed originally, so a crack 7 extends while led along the cutting area 11 to cut the base material along the end of the pixel substrate area.
本来、パターンが形成されない切捨て領域に擬似画素パターン１２が形成されるため、クラック７が切断領域１１に誘導されて進行し、画素基板領域の端部に沿って切断することができる。 - 特許庁 - After an area whose width in the mask pattern is smaller than designated is extracted, the phase shifter is inserted into the extracted area and a peripheral edge part of an area whose width in the mask pattern exceeds the designated size.
続いて、マスクパターンにおける幅が所定の寸法以下である領域を抽出した後、抽出された領域、及びマスクパターンにおける幅が所定の寸法を越える領域の周縁部に位相シフターを挿入する。 - 特許庁 - Resolution of an area of an end edge at the flat surface part 3 side of the design pattern in the recession part 2 and an area of an end edge at the recession part 2 side of the design pattern in the flat surface part 3 becomes lower than that of the other area.
凹部２における意匠模様の平面部３側の端縁の領域と、平面部３における意匠模様の凹部２側の端縁の領域では、他の領域よりも解像度が低くなっている。 - 特許庁 - An inkjet unit for manufacturing a device includes an inkjet head 101 which discharges ink droplets to a pattern formation area 103 of a base 102, and a dummy area 104 in a portion other than the pattern formation area 103.
デバイスを製造するインクジェット装置は、基板１０２のパターン形成領域１０３に対して、インク滴を吐出するインクジェットヘッド１０１と、パターン形成領域１０３以外の部分にダミー領域１０４を有している。 - 特許庁 - A test pattern image composed of a plurality of pieces of test patch data different in line area ratio is formed.
ライン面積率が異なる複数のテストパッチデータよりなるテストパターン像を形成する。 - 特許庁 - To simply obtain a pattern uniformly arranging nano-particles over a large area.
ナノ粒子が一様に配列された配列パターンを広い範囲に亘って簡単に得る。 - 特許庁 - When the mask means 80 is at the mask position, a pattern light is projected onto the photographing area.
マスク手段８０がマスク位置にあるとき、撮影領域にはパターン光が投影される。 - 特許庁 - To form a flow path pattern to be changeable without reducing the cross section area of a low-profile separator.
薄型セパレータの断面積を減少させないで、流路パターンを変更可能にする。 - 特許庁 - Focusing is carried out by a focus-correcting lens which nearly corresponds to the average pattern area.
この平均的な値にほぼ対応して焦点補正レンズによる焦点合わせを行う。 - 特許庁 - To reduce the area dependence of the thickness of a real pattern obtained in an ink jet process.
インクジェットプロセスにおいて得られる実パターンの厚さの面積依存度を小さくすること。 - 特許庁 - The second pattern of the mask 31 is provided on the second area of the semiconductor region 13.
マスク３１の第２のパターンは、半導体領域１３の第２のエリア上に設けられる。 - 特許庁 - To accurately detect the dimensional deviations of a mask pattern over a large area, using a simple method.
マスクパターンの寸法のずれを、広範囲に渡り、正確に、容易な方法で検出する。 - 特許庁 - Then, by exposing to light while overlapping half the area sequentially, a circuit pattern is formed.
そして、半分のエリアを順次重ねて露光させることによって、回路パターンを形成する。 - 特許庁 - At this time, when another pattern exists in the graphic area, it is excluded.
この時、図形領域内にさらに図形が存在する場合は、その部分は除外される。 - 特許庁 - To restrain the occupation area of a power supply wiring pattern in a semiconductor integrated circuit device.
半導体集積回路装置において、電源配線パターンの占有面積を抑える。 - 特許庁 - The bristle pattern includes large tufts having a greater cross-sectional area than standard toothbrush bristle tufts.
該毛パターンは、標準の歯ブラシの毛房を超える断面積を有する、大きな房を含む。 - 特許庁 - To prevent a dead angle area and overlap with adjacency in a pattern display device for performing superimposing display.
重畳表示する図柄表示装置で死角領域や隣との重なりを防止する。 - 特許庁
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