「pattern composition」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 24 25 26 27 28 29 30 31 32 .... 97 98 次へ＞- POLYMER, ITS PRODUCTION METHOD, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FORMATION
高分子化合物及びその製造方法並びに感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - COLORED COMPOSITION, COLORED PATTERN, COLOR FILTER, COLOR DISPLAY ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER
着色組成物、着色パターン、カラーフィルタ、カラー表示素子及びカラーフィルタの製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE USING THE SAME, AND METHOD OF FORMING NEGATIVE PATTERN
感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁 - COLORANT COMPOSITION FOR CORRECTING COLOR PATTERN DEFECT AND METHOD FOR CORRECTING COLOR FILTER DEFECT
着色パターン欠陥修正用着色組成物およびカラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN FOR PRODUCTION OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY
ポジ型ホトレジスト組成物及び液晶表示素子製造用レジストパターンの形成方法 - 特許庁 - NEGATIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND POLYMER COMPOUND
ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁 - To provide a resist composition excellent in sensitivity, resolution, LER (line edge roughness), pattern features and outgas properties.
感度、解像度、ＬＥＲ、パターン形状、アウトガスに優れたレジスト組成物の提供。 - 特許庁 - IMAGE FORMING METHOD USING LIQUID COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND LIQUID APPLYING DEVICE
液体組成物を用いた画像形成方法、パターン形成方法及び液体付与装置 - 特許庁 - RESIST POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE ON WHICH RESIST PATTERN IS FORMED
レジスト用重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD, POLYMER AND COMPOUND OF THE SAME
感放射線性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁 - POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
液晶表示素子製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE BASE MATERIAL, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND POSITIVE RESIST COMPOSITION
感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法 - 特許庁 - To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern having an excellent shape.
形状に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive type photosensitive composition having high sensitivity and improved edge roughness of a pattern.
高感度で、パターンのエッジラフネスが改良されたポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING THIN FILM RESIST PATTERN FOR OBLIQUE IMPLANTATION PROCESS
ポジ型ホトレジスト組成物および傾斜インプランテーションプロセス用薄膜レジストパターンの形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME
感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁 - ONE-COMPONENT RESIST COMPOSITION FOR INK JET AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN USING IT
インクジェット用一液型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜 - 特許庁 - DEVELOPING SOLUTION FOR POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
ポジ型感光性樹脂組成物用現像液及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a lift-off positive resist composition capable of forming a fine lift-off pattern.
微細なリフトオフ用パターンを形成できるリフトオフ用ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - CHEMICAL COMPOUND FOR PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN
光酸発生剤用化合物及びそれを用いたレジスト組成物、パターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR PREPARING RESIN SOLUTION FOR PHOTORESIST, PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法、フォトレジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR SYNTHESIZING POLYNAPHTHYLENE, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC PART
ポリナフチレンの合成方法、感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION AND PRODUCTION OF PATTERN THEREWITH, AND ELECTRONIC COMPONENT
感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁 - POLYIMIDE, PRECURSOR THEREOF, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
ポリイミド及びその前駆体、感光性樹脂組成物、パターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁 - COMPOSITION OF INTERMEDIATE LAYER MATERIAL FOR MULTILAYER RESIST PROCESS AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME
多層レジストプロセス用中間層材料組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING PHOTOSENSITIVE ORGANIC ANTIREFLECTION FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感光性有機反射防止膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION, ITS PREPARATION AND SEMICONDUCTOR PATTERN FORMING METHOD UTILIZING SAME
フォトレジスト組成物、その製造方法及びそれを利用した半導体パターンの形成方法 - 特許庁 - AMIDE DERIVATIVE, POLYMER, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN
アミド誘導体、重合体、化学増幅型感光性樹脂組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING UPPER ANTIREFLECTION FILM, UPPER ANTIREFLECTION FILM AND PATTERN FORMING METHOD
上層反射防止膜形成用組成物、上層反射防止膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - MULTIOXYGEN-CONTAINING COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMATION, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
多酸素含有化合物、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁 - POLYIMIDE PRECURSOR, LIGHT SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
ポリイミド前駆体、感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び半導体装置 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIN AND POLYMERIZABLE COMPOUND, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ポジ型レジスト組成物、樹脂および重合性化合物、それを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - TOP COATING COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME
フォトレジスト用のトップコーティング組成物及びそれを利用したフォトレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, MULTILAYER RESIST MATERIAL USING THE SAME AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
ポジ型レジスト組成物、それを用いた多層レジスト材料及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE VISIBLE LIGHT SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME
ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING SAME
感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁 - To provide a resist composition having excellent sensitivity and resolution and giving a favorable pattern profile.
感度と解像性に優れ、更にはパターン形状も良好なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - CONDUCTIVE PATTERNING COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING CONDUCTIVE PATTERN FILM BY USING THE SAME
導電性パターニング組成物及びこれを用いた導電性パターン膜の製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND PROCESS FOR FORMING SAME
感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁 - PHOTOCURABLE COMPOSITION FOR PHOTO-NANOIMPRINT LITHOGRAPHY AND MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE WITH PATTERN
光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物、及びパターン付き基板の製造方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ポジ型感光性組成物、それに用いる化合物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION FOR EUV LIGHT EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
ＥＵＶ光露光用レジスト組成物並びにこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ARTICLE USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN
感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びレリーフパターンの製造方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
