「pattern composition」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 28 29 30 31 32 33 34 35 36 .... 97 98 次へ＞- To provide a resist composition suitable for use in fine pattern formation with an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.
電子線、極紫外線による微細パターン形成に好適なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - COATING COMPOSITION FOR PROTECTIVE LAYER OF PHOTORESIST FILM FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a vinyl chloride resin composition having a grain pattern and a woody touch.
木目模様および木材と同様な触感を有する塩化ビニル系樹脂組成物を得ること。 - 特許庁 - FLUORINE-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
含フッ素高分子化合物、液浸露光用ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING METAL PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY SUBSTRATE USING SAME
フォトレジスト組成物、これを用いた金属パターンの形成方法、及び表示基板の製造方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CIRCUIT FORMING SUBSTRATE, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、回路形成用基板、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法 - 特許庁 - NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV OR X-RAY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
電子線、ＥＵＶ又はＸ線用ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MAKING CURED RELIEF PATTERN USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE
感光性樹脂組成物、それを用いた硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE SILICONE RESIN COMPOSITION, ITS HARDENED PRODUCT AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE-TYPE FINE PATTERN
感光性シリコーン樹脂組成物及びその硬化物並びにネガ型微細パターンの形成方法 - 特許庁 - (METH)ACRYLATE DERIVATIVE HAVING LACTONE STRUCTURE, POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND FORMATION OF PATTERN
ラクトン構造を有する（メタ）アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ION IMPLANTATION AND PATTERN FORMING METHOD FOR ION IMPLANTATION
イオンインプランテーション用感放射線性樹脂組成物、及びイオンインプランテーション用パターン形成方法 - 特許庁 - (METH)ACRYLIC ACID ESTER, POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING FORMED PATTERN
（メタ）アクリル酸エステル、重合体、レジスト組成物、およびパターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN, PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME
感光性樹脂、それを含むフォトレジスト組成物及びそれを用いたフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYIMIDE PRECURSOR, PRODUCTION OF POLYIMIDE, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PART
ポリイミド前駆体、ポリイミドの製造法、感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity and excellent in pattern profile after being subjected to heat treatment.
高感度で、熱処理後のパターン形状に優れる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - RESIN, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN
樹脂およびその製造方法、それを用いたポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND ACID GENERATOR COMPRISING THE SAME
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに化合物及びそれからなる酸発生剤 - 特許庁 - The pattern-forming material has a layer of the composition on a substrate.
支持体上に、前記組成物からなる層を設けたことを特徴とするパターン形成材料。 - 特許庁 - NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT
ネガ型レジスト組成物、当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、及び電子部品 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING POLYMER FOR RESIST, POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN
レジスト用重合体の製造方法、レジスト用重合体、レジスト組成物、およびパターン製造方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COATING MATERIAL COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD
ポジ型感光性塗料組成物、ポジ型感光性樹脂の製造方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF PHOTOSESITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN, AND PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND PRODUCTION METHOD OF THICK-FILM RESIST PATTERN
厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁 - ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a resin composition for producing a transparent molded product imparted with interference pattern.
干渉模様が付与された透明な成形品の製造が可能な樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - ACTINIC-RAY OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME
感活性光線または感放射線樹脂組成物および該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a colored photosensitive resin composition from which a pattern having high resolution can be obtained.
解像性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition excellent in pattern uniformity and heat resistance after a hard baking step.
ハードベーク工程後のパターン均一性及び耐熱性に優れたフォトレジスト組成物を提供。 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、高分子化合物及びその製造方法 - 特許庁 - RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM USING IT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD
樹脂組成物、これを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, PRODUCTION OF RESIST PATTERN AND PRODUCTION OF PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - To provide a resist composition that can manufacture a resist pattern of excellent CD uniformity.
優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a composition useful in treating hair growth disorders, such as female pattern alopecia.
女性型脱毛症等の毛髪成長障害の治療のために有用な組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a resist composition which sufficiently satisfies a focus margin(DOF) in producing a resist pattern.
レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）を十分に満足するレジスト組成物の提供。 - 特許庁 - ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING INTERMEDIATE LAYER CONTAINING SILYLPHENYLENE POLYMER AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
シリルフェニレン系ポリマー含有中間層形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS USING THE SAME
感光性重合体組成物、並びにレリーフパターンの製造法及びそれを用いた電子部品 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE
感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法および半導体デバイス - 特許庁 - To provide a colored photosensitive resin composition capable of obtaining a pattern having excellent resolution.
解像性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINT CIRCUIT BOARD
樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁 - COLORING CURABLE COMPOSITION, COLORED PATTERN, COLOR FILTER AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
着色硬化性組成物、着色パターン、カラーフィルタ、その製造方法、及び液晶表示素子 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING CATHODE RAY TUBE
感光性組成物、それを用いたパターン形成方法及び陰極線管の製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PERMANENT PATTERN FORMATION METHOD AND PRINTED SUBSTRATE
感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁 - ULTRAVIOLET-CURABLE RESIN COMPOSITION, ULTRAVIOLET- CURABLE SHEET, AND FORMATION OF PATTERN BY USING SAID SHEET
紫外線硬化性樹脂組成物、紫外線硬化性シート及び該シートを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOSITION OF IRREGULAR REFLECTION PREVENTING FILM, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
乱反射防止膜組成物、これを利用したフォトレジストパターンの形成方法及び半導体素子 - 特許庁
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