「pattern composition」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 38 39 40 41 42 43 44 45 46 .... 97 98 次へ＞- To obtain a positive type photoresist composition excellent in shelf stability and giving a resist pattern free from development defects.
保存安定性に優れ、現像欠陥のないレジストパターンを与えるポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative curable composition having excellent developability at high sensitivity and capable of forming a fine rectangular pattern.
高感度で現像性に優れ、矩形な微細パターン形成が可能なネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a colored photosensitive resin composition for forming a colored pattern and coating film which have excellent sensitivity.
感度に優れた着色パターン及び塗膜を形成することができる着色感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSETTING RESIN, PHOTOSETTING RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING MINUTE UNEVEN PATTERN, TRANSFER FOIL, OPTICAL ARTICLE AND STAMPER
光硬化性樹脂、光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING IT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, MANUFACTURE OF RESIST PATTERN AND PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition from which a pattern having high resolution and a high aspect ratio is formed and which has high sensitivity.
高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND RESIST PATTERN AND PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパタ—ンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition with which a black matrix having excellent pattern precision and hardness is obtained by using nanoimprint lithography.
ナノインプリントリソグラフィを用い、パターン精度、硬さに優れたブラックマトリックスが得られる感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, MANUFACTURE OF RESIST PATTERN AND PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - To provide a positive resist composition excellent in depth-of-focus (DOF) characteristics and a resist pattern forming method.
焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING IT, AND MANUFACTURES OF RESIST PATTERN AND PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME AND MANUFACTURE OF RESIST PATTERN AND PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパタ—ンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, PRODUCTION OF RESIST PATTERN AND PRODUCTION OF PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - A transfer pattern to be imprinted is formed by the composition of two or more apertures which penetrate the mask membrane.
マスクメンブレンを貫通する複数の開口で構成された転写すべき被転写パターンが形成されている。 - 特許庁 - ELASTOMER, PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST FILM, PERMANENT PATTERN, AND METHOD FOR FORMING THE SAME
エラストマー、感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁 - NEW COMPOUND, ACID GENERATOR, CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION, RESIST LAYER LAMINATE, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
新規な化合物、酸発生剤、化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED-WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - To provide a high-sensitive photosensitive resin composition, with which a pattern of high-resolution and high aspect ratio can be formed.
高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM, COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAY FILM TO BE USED FOR THE METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD
レジスト下層膜形成方法及びそれに用いるレジスト下層膜用組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁 - When the convex part forming composition-applied layer is irradiated with ultraviolet rays, the convex resin film (a projecting part 20) having the desired pattern can be obtained.
これに紫外線を照射すると、所望パターンの凸状の樹脂膜(凸部２０)を得ることができる。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING STEPPED PATTERN USING SAME, AND METHOD FOR PRODUCING INK-JET HEAD
感光性樹脂組成物、ならびにこれを用いた段差パターンの製造方法及びインクジェットヘッドの製造方法 - 特許庁 - CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE NEGATIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITION FOR LOW-TEMPERATURE DRY ETCHING AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME
低温ドライエッチング用化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物及びこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM USING THE SAME, RESIST COATED MASK BLANK, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a photosensitive coating material composition sensitive even to visible light and capable of forming a detailed pattern.
可視光にも感光し、細密なパターンを形成することができる感光性塗料組成物を提供すること。 - 特許庁 - FLUORINE-CONTAINING POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
含フッ素ポリマーとその製造方法、及びそれを含むレジスト保護膜組成物ならびにレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTO-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF POLYAMIC ACID DERIVATIVE, FORMATION OF POLYIMIDE FILM PATTERN AND ELECTRONIC PART
感光性樹脂組成物、ポリアミド酸誘導体の製造方法、ポリイミド膜パターン形成方法及び電子部品 - 特許庁 - NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION FOR DEVELOPMENT WITH BASIC AQUEOUS SOLUTION AND PRODUCTION OF PATTERN USING SAME
塩基性水溶液現像用ネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法 - 特許庁 - To provide a thermosetting silicon-containing film-forming composition enabling good pattern formation of a photoresist film.
フォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能である熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND DISPLAY SUBSTRATE PRODUCTION METHOD USING THE SAME
感光性樹脂組成物並びにこれを用いたフォトレジストパターンの形成方法及び表示基板の製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR SANDBLAST RESIST, SANDBLAST RESIST FILM USING THE SAME, AND SANDBLAST RESIST PATTERN FORMING METHOD
サンドブラストレジスト用感光性組成物、及びこれを用いたサンドブラストレジストフィルム、並びにサンドブラストレジストパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING POLYMER OPTICAL WAVEGUIDE, OPTICAL WAVEGUIDE, AND METHOD FOR FORMING OPTICAL WAVEGUIDE PATTERN
ポリマー光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路及び光導波路パターンの形成方法 - 特許庁 - FLUORINE-CONTAINING PHENYLMALEIMIDE DERIVATIVE, POLYMER, CHEMICAL AMPLIFYING RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING IT
フッ素含有フェニルマレイミド誘導体、重合体、化学増幅レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ENERGY LINE-SENSITIVE POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE RESIST USING THE SAME AND PICTORIAL PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感エネルギー線重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION AND ADHESIVE FILM USING IT, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
感光性接着剤組成物、及びそれを用いた接着フィルム、接着シート、接着剤パターン、並びに半導体装置 - 特許庁 - COPOLYMER FOR PHOTORESIST AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming a pattern having high resolution and a high aspect ratio.
高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度である感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, THIN-FILM PATTERN FORMING METHOD USING SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC EQUIPMENT, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
感光性樹脂組成物、これを用いた薄膜パターン形成方法、電子機器用保護膜及び液晶表示素子 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法 - 特許庁 - RADIATION CURABLE RESIN COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING FINE STRUCTURE USING THE SAME
微細パターン形成用放射線硬化性樹脂組成物、及び該組成物を用いた微細構造体の製造方法 - 特許庁 - To provide a developing solution composition which can form a satisfactory thick-film resist pattern and has less in foaming.
良好な厚膜レジストパターンを形成できるとともに、泡立ちが少ない現像液組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative type radiation-curable composition which has good sensitivity and excellent development performance and with which rectangular fine pattern formation can be performed.
高感度で現像性に優れ、矩形な微細パターン形成が可能なネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, METHOD FOR MAKING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive positive composition having a resolution capable of microfabricating a subquarter micron pattern and high sensitivity.
サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁 - To provide a resist pattern forming method by which, even when patterning with a second resist composition is performed without using a freezing material in the formation of a resist pattern by double patterning, a fine resist pattern can be formed while retaining the good shape of a first resist pattern.
ダブルパターニングによるレジストパターンの形成において、フリージング材を用いることなく第二のレジスト組成物によりパターニングした場合でも、第一のレジストパターンの形状を良好に保持したまま微細なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which forms a resist pattern with small LWR (line width roughness) and an excellent pattern shape.
ＬＷＲ（Ｌｉｎｅ Ｗｉｄｔｈ Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）が小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a resist treatment method that, in a multi-patterning method, can very finely and highly accurately form a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation.
マルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for nanoimprint and a pattern formation method using it, excellent in mold packing property, in pattern formation by a nanoimprint method.
ナノインプリント法によるパターン形成において、モールド充填性に優れるナノインプリント用感放射線性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
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