「pattern composition」を含む例文一覧(4879)
＜前へ 1 2 .... 42 43 44 45 46 47 48 49 50 .... 97 98 次へ＞- The bilayer film for pattern formation is obtained by forming a coating film comprising the radiation-sensitive resin composition on the underlayer film.
パターン形成用多層膜は、該下層膜上に該感放射線性樹脂組成物からなる被膜を形成してなる。 - 特許庁 - METHOD OF PRODUCING RESIN, RESIN USING THE SAME, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD, COMPOUND USED FOR THE SAME
樹脂の製造方法、それを用いた樹脂、ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法、それに用いられる化合物 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁 - PHOTO-POLYMERIZATION INITIATOR, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAYERED PRODUCT, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD, AND PRINTED WIRING BOARD
光重合開始剤、感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、並びにプリント配線板及びその製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION TO BE USED FOR ORGANIC SUBSTANCE LAYER HAVING SURFACE RUGGED PATTERN ON SUBSTRATE, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT
基板上に表面凹凸形状を有する有機物層に用いられる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント - 特許庁 - To provide a resist-modifying composition suitably used in a pattern forming process for enabling a double patterning process.
ダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法に好適に用いられるレジスト変性用組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition that forms a pattern having good resolution, line width roughness, and line edge roughness.
優れた解像度、ラインウィドゥスラフネス又はラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition, forming a pattern having excellent shape, focus margin (DOF) and mask error factor (MEF).
優れた形状、ＤＯＦ及びＭＥＦを有するパターンを形成するレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a colored photosensitive resin composition which can form a coating film, a pattern and a color filter with high heat resistance.
高耐熱性の塗膜、パターン及びカラーフィルタを得ることができる着色感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide an etchant composition for a copper-containing material, which can form a fine pattern without causing a defect in the shape.
形状不良なしに微細な回路パターンを形成し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition excellent in depth of field (DOF) characteristics, and also to provide a pattern forming method using the same.
焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a colored photosensitive resin composition capable of forming a coating film, a pattern and a color filter with excellent heat resistance.
耐熱性に優れた塗膜、パターン及びカラーフィルタを形成し得る着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法およびプリント配線板の製造法 - 特許庁 - To provide a negative type resist composition having high sensitivity, excellent also in resolution and capable of forming a fine pattern.
高感度で解像性にも優れた微細パターンを形成することができるネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, THICK-FILM PHOTORESIST LAYERED BODY, METHOD FOR MANUFACTURING THICK-FILM RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING TERMINAL
ポジ型ホトレジスト組成物、厚膜ホトレジスト積層体、厚膜レジストパターンの製造方法および接続端子の製造方法 - 特許庁 - PEELING LIQUID FOR REMOVING THICK-FILM PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION LAYER, METHOD FOR REMOVING RESIST PATTERN AND PRODUCTION OF PLASMA DISPLAY PANEL
厚膜感光性樹脂組成物層除去用剥離液、レジストパターンの除去方法及びプラズマディスプレイパネルの製造法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION, THICK FILM PHOTORESIST LAMINATED BODY, METHOD FOR MANUFACTURING THICK FILM RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING TERMINAL
ポジ型ホトレジスト組成物、厚膜ホトレジスト積層体、厚膜レジストパターンの製造方法および接続端子の製造方法 - 特許庁 - COATING LIQUID COMPOSITION FOR FORMATION OF ANTIREFLECTION FILM, PHOTORESIST LAMINATE BY USING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
反射防止膜形成用塗布液組成物およびこれを用いたホトレジスト積層体、並びにホトレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM FOR PERMANENT RESIST, RESIST PATTERN FORMING METHOD, PRINTED WIRING BOARD AND SEMICONDUCTOR PACKAGE
感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及び半導体パッケージ - 特許庁 - To provide a curable resin composition from which a coating film or a pattern with high transmittance can be formed by a printing method.
印刷法によって、高い透過率の塗膜またはパターンを形成し得る硬化性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a chemical amplification type positive photoresist composition which attains improved shortening of the edge part (longitudinal direction) of a line pattern.
ラインパターン端部（長手方向）のショートニングが改善された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To obtain a positive photoresist composition which ensures improved balance between the dense and coarse patterns of a resist pattern and improved line edge roughness.
レジストパターンの密パターンと粗パターンのバランスが改良され、ラインエッジラフネスを改良されたポジ型フォトレジスト組成物を得る。 - 特許庁 - SILICA-BASED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING SILICA-BASED INSULATING COATING FILM HAVING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT HAVING THE COATING FILM
シリカ系感光性樹脂組成物、パターンを有するシリカ系絶縁被膜の形成方法及びそれを備える電子部品 - 特許庁 - To provide a chemically amplified type photoresist composition for obtaining a pattern having an excellent shape and line edge roughness.
優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, ADHESIVE FILM OBTAINED BY USING THIS, ADHESION SHEET, ADHESIVE PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
感光性接着剤組成物、これを用いて得られる接着フィルム、接着シート、接着剤パターン、及び半導体装置 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
感光性樹脂組成物、パターン並びにその製造方法、有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置及び半導体素子 - 特許庁 - To obtain a negative-type photosensitive polyimide precursor composition giving a good pattern with an alkali developing solution.
アルカリ現像液によって良好なパターンが得られるネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a polybenzoxazole precursor composition developable with an aqueous alkali solution and having positive pattern forming ability.
アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリベンゾオキサゾール前駆体組成物を提供する。 - 特許庁 - MONOMER FOR PHOTORESIST CROSSLINKING AGENT, PHOTORESIST CROSSLINKING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトレジスト架橋剤用単量体、フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、および半導体素子 - 特許庁 - CALIXRESORCINARENE DERIVATIVE, METHOD FOR PRODUCING CALIXRESORCINARENE DERIVATIVE, NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
カリックスレゾルシンアレン誘導体、当該カリックスレゾルシンアレン誘導体の製造方法、ネガ型レジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁 - SILICON COMPOUND HAVING CYCLIC STRUCTURE CONTAINING FLUORINE AND SILICONE RESIN, RESIST COMPOSITION USING THE SAME, AND PATTERN FORMING METHOD
含フッ素環状構造を有するケイ素化合物及びシリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having a wide depth-of-focus range (DOF) and a method for formation of a resist pattern.
焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT OBTAINED BY USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR MEMS STRUCTURE COMPONENT, PATTERN MANUFACTURING METHOD, AND MEMS STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
ＭＥＭＳ構造部材用感光性樹脂組成物、パターン作製方法、並びに、ＭＥＭＳ構造体及びその作製方法 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition capable of suppressing generation of a development residue and allowing formation of a favorable pixel pattern.
現像残渣の発生を抑制するとともに、良好な画素パターンを形成可能な感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition so excellent in heat resistance that deformation of a resist pattern can be prevented in heating at high temperature.
高温加熱処理時にレジストパターン形状の変形を防止できる耐熱性に優れたホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁 - COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, FORMATION METHOD OF PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND SOLID STATE IMAGE SENSOR
着色感放射線性組成物、パターンの形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、および固体撮像素子 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition for forming a highly heat-resistant pattern of a microphase separation structure.
耐熱性が高いミクロ相分離構造のパターンを形成するための感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME
着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置 - 特許庁 - To provide a resist composition that has practical sensitivity and forms an intricate negative resist pattern with no swelling.
実用可能な感度を有していて、膨潤のない微細なネガ型レジストパターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - POLYVINYL ACETATE SAPONIFICATION PRODUCT-BASED PHOTOSENSITIVE RESIN, AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND FORMATION OF PATTERN USING THE SAME
ポリ酢酸ビニルケン化物系感光性樹脂及び感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパタ—ン形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁 - RESIST FILM, RESIST COATED MASK BLANK USING RESIST FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION
レジスト膜、該レジスト膜を用いたレジスト塗布マスクブランクス及びレジストパターン形成方法、並びに、化学増幅型レジスト組成物 - 特許庁 - To obtain a photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming a pattern having high resolution and a high aspect ratio.
高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度な感光性樹脂組成物を得ることを課題とする。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法およびプリント配線板の製造方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD
感光性樹脂組成物これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁
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