「pattern electrode」を含む例文一覧(3276)

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  • Input terminals of the liquid crystal display device and the electrostatic protection circuit pattern are arranged, so as to face an electrode exposure part of a copper foil wiring pattern formed in an FPC.
    FPCに形成した銅箔配線パターンの電極露出部に対向するように、液晶表示装置の入力端子、及び静電保護回路パターンを配置する。 - 特許庁
  • The electric discharge suppressing pattern 37 covers the insulation substrate 29 not to expose the insulation substrate 29 in the region between the electrode pattern 30 for the terminal and the insulation film layer 36.
    放電抑制パターン37は、端子用電極パターン30と絶縁被膜層36との間の領域において絶縁基板29を露出しないように覆っている。 - 特許庁
  • To provide a wiring substrate which has the high reliability of stick strength of an electrode pad and wiring pattern even if a gap in a wiring pattern becomes narrow, and to provide its manufacturing method.
    配線パターンが狭ギャップになっても電極パッド及び配線パターンの貼り付け強度の信頼性の高い配線基板及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁
  • In the transparent electrode pattern part, a plurality of pores are formed apart from one another randomly, and in the transparent insulation pattern part, a plurality of islands are formed apart from one another randomly.
    透明電極パターン部には、複数の孔部が離間してランダムに形成され、透明絶縁パターン部には、複数の島部が離間してランダムに形成されている。 - 特許庁
  • When a finger of an operator approaches the detecting electrode 2, the backlight 6 is first switched on at a first pattern and the light transmission pattern 3a looms up on a surface 1a of a design plate 1.
    検知電極2に操作者の指が近づくと、まずバックライト6が第1のパターンで点灯され、意匠板1の表面1aに光透過パターン3aを浮かび上がる。 - 特許庁
  • A plastic sheet metal 10 in which a first partition 50 having an array pattern and a second partition 20 having the common electrode pattern are formed is folded in two.
    アレイパターンを有する第1区画50とコモン電極パターンを有する第2区画20とを形成したプラスチック薄板10を2つ折りすることによって形成する。 - 特許庁
  • The electrode 13 and a center section of the wiring pattern 15 are connected through through-holes 191, 192 to a connection pattern 17 formed on the rear-face side of the ceramic substrate 11, respectively.
    電極13と配線パターン15の中央部分とはセラミック基板11の裏面側に形成された接続パターン17とをスルーホール191,192を介して接続する。 - 特許庁
  • The electrode 12 and a center section of the wiring pattern 14 are connected through through-holes 181, 182 to a connection pattern 16 formed on a rear-face side of the ceramic substrate 11, respectively.
    電極12と配線パターン14の中央部分とはセラミック基板11の裏面側に形成された接続パターン16とをスルーホール181,182を介して接続する。 - 特許庁
  • Ends of the N-type pattern 3 and the P-type pattern 4 are joined to each other on the surface of the substrate 10, and a protrusion 5 serving as a discharge electrode is formed at the joined section.
    基板10の表面上にてN型パターン3とP型パターン4の端部同士を接合させ、この接合部分に、放電電極となる突出部5を形成する。 - 特許庁
  • Consequently, a difference in thickness between the end part of the silver paste pattern in the width direction and around the center of the silver paste pattern becomes small, and the shrinkage stress of the bus bar electrode is greatly reduced.
    これにより、銀ペーストパターンの幅方向の端部と中央付近とで厚みの差が小さくなって、バスバー電極の収縮応力が大幅に低減される。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a plasma display capable of simultaneously baking an electrode pattern, a dielectric paste coating film, and a partition pattern, without defects of breaking of wire, crack or the like.
    断線や亀裂などの欠陥なく、電極パターン、誘電体ペースト塗布膜、隔壁パターンを同時焼成することができるプラズマディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To stably manufacture a semiconductor device by measuring the size of a gate electrode on the activation region of a circuit pattern or a QC pattern, with high accuracy in a size inspection stage.
    寸法検査工程において、回路パターンまたはQCパターンの活性化領域上のゲート電極寸法を高精度に計測し、半導体装置を安定して製造する。 - 特許庁
  • Furthermore, by baking the resist pattern, gas is discharged from the resist pattern and an electrode material is formed on the substrate at a temperature lower than the baking temperature.
    さらに、このレジストパターンをベーキングすることによってレジストパターンからガスを放出させておき、このベーキング温度よりも低い温度で基板上に電極材料を成膜する。 - 特許庁
  • The pattern exposure plane of the electrode pad PAD is configured, while having a rugged form by being reflected with a rugged pattern 101 formed on a layer insulating film 10 of the lower layer.
    電極パッドPADのパターン露出面が、下層の層間絶縁膜10に形成された凹凸パターン101を反映して凹凸形状を有して構成されている。 - 特許庁
  • Next, a resonator including a lower electrode layer 104, an upper electrode layer 106 facing the lower electrode layer 104, and a piezoelectric thin film 105 positioned between the lower electrode layer 104 and the upper electrode layer 106 is formed to be laid above an island portion surrounded with the cavity pattern layer 102 and the portion of the cavity pattern layer 102 surrounding the island portion.
    つぎに、前記空洞雛型層102で囲まれた島部分の上と前記島部分を囲む空洞雛型層102の部分の上とに横たわるように、下部電極層104と、下部電極層104に対向する上部電極層106と、下部電極層104と上部電極層106との間に位置する圧電体薄膜105とを含んだ共振器を形成する。 - 特許庁
  • On a substrate, solution containing fine particles is ejected with a growth action force of film boiling bubbles produced instantaneously to form a rectangular pattern or to form an electrode pattern by combining the rectangular patterns such that the corner part of the pattern is covered with a dot pattern.
    基板上において、瞬時に発生させた膜沸騰気泡の成長作用力で微粒子含有溶液を噴射させて、矩形パターンもしくは矩形パターンの組み合わせにより構成される電極パターンのコーナー部をドットパターンにより被覆するように打ち込む。 - 特許庁
  • The light emitting element 13 has a mounting surface including a first electrode 13np electrically connected to the first pattern 12-1 and a second electrode 13pp electrically connected to a second pattern 12-2.
    発光素子13は、第1のパターン12−1に電気的に接続された第1の電極13npと、第2のパターン12−2に電気的に接続された第2の電極13ppとが形成された実装面Mを有している。 - 特許庁
  • The layout of a P-type electrode and an N-type electrode and the shape of a light emitting surface are newly designed, by which the problem of a center recess in the far field beam pattern of a gallium nitride light emitting diode can be solved.
    本発明は、P型電極とN型電極の配置方式及び発光面の形状を新たに設計することにより、窒化ガリウム系発光ダイオードの遠場光束図案(farfield beam pattern)の中央凹みの問題を改善する。 - 特許庁
  • The one main electrode of the semiconductor chip 20 is connected and fixed to the first wiring pattern by a conductive material 18, and the other main electrode of the semiconductor chip 20 is connected and fixed to the second wiring pattern by the conductive material 18.
    半導体チップの一方の主電極と第1配線パターンを、導電性の材料18で接続固定し、半導体チップ20の他方の主電極と第2配線パターンを、導電性の材料18で接続固定する。 - 特許庁
  • The organic EL layer 20 and the second electrode pattern 22, and the separator 18, are separated by the protective layer 24 by arranging the protective layer 24 between the organic EL layer 20 and the second electrode pattern 22, and the separator 18.
    有機EL層20及び第2電極パターン22と分離体18との間に保護層24が配置されることにより、有機EL層20及び第2電極パターン22と分離体18とが保護層24によって隔離されている。 - 特許庁
  • The respective conductive particles 4b between a counter electrode pattern E0 and the diaphragm 1 are brought into contact with the counter electrode pattern E0 and diaphragm 1, and an interval between the underside surface of the piezoelectric ceramic substrate and the diaphragm 1 is determined.
    対向電極パターンE0とダイアフラム1との間に位置する導電性粒子4bのそれぞれを対向電極パターンE0及びダイアフラム1と接触させて圧電セラミックス基板の裏面とダイアフラム1との間隔寸法を定める。 - 特許庁
  • Accordingly, the capping layer of capping the second metal pattern and the common electrode are formed by using the first transparent conductive layer, so that a short between the second metal pattern and the common electrode adjacent to each other may be prevented.
    これによって、第2金属パターンをキャッピングするキャッピング層と共通電極を第1透明導電層で形成することにより、互いに隣接した第2金属パターンと共通電極間のショート不良を防止することができる。 - 特許庁
  • In the method of manufacturing the spherical surface acoustic wave element, positive resist is exposed such that the cord electrode pattern is an unexposed portion, and then exposed such that an area including the cord electrode pattern is an unexposed portion.
    本発明の球状弾性表面波素子の製造方法は、ポジ型レジストに対し、すだれ状電極パターンを非露光部とする露光を行った後、すだれ状電極パターンを包括する領域を非露光部とする露光を行う。 - 特許庁
  • In a ceramic chip carrier 1 mounting a semiconductor light receiving element 4, a gap 5 is made between the p electrode pattern 2 and the n electrode pattern 3 of the semiconductor light receiving element 4 in order to reduce the parasitic capacitance.
    半導体受光素子4が搭載されたセラミックチップキャリア1において、半導体受光素子4のp極の電極パターン2とn極の電極パターン3との間に寄生容量の低減を目的とした間隙5を形成する。 - 特許庁
  • The insulating plate 63 is provided with a ridge part 71 projecting from an electrode pattern 68 and the ridge part 71 abuts on the surface of the workpiece in forming the groove and secures the fine clearance for electrolyte between the electrode pattern 68 and the workpiece.
    絶縁プレート63は電極パターン68より突出する畝部71を有し、畝部71は溝形成時に被加工物の表面に当接して電極パターン68と被加工物との間に電解液用の微少間隙を確保する。 - 特許庁
  • The first dielectric film 13 is stacked in the lower electrode 12 and is constituted of a ferroelectric pattern having a processing edge face 13a which practically coincides with a processing edge face 12a of a conductor pattern constituting the lower electrode 12.
    第1の誘電膜13は、下部電極12に積層され、下部電極12を構成する導電体パターンの加工端面12aと実質的に一致する加工端面13aを有する強誘電体パターンにより構成される。 - 特許庁
  • An antistatic mold 11 having a low conductivity is stuck to the outer peripheral part of the sealant 2 so as to traverse a wiring pattern connecting a first electrode 6a and a terminal 7a and a wiring pattern connecting a second electrode 6b and a terminal 7b.
    第1電極6aと端子7aをつなぐ配線のパターン及び第2電極6bと端子7bをつなぐ配線パターンを横切るように、シール材2の外周部分に弱導電性の帯電防止モールド11を付着させる。 - 特許庁
  • To provide a ceramic package type optical module in which an FG electrode pattern and an SG electrode pattern provided on a multi-layer ceramic substrate configuring side walls of the ceramic package module, are electrically and effectively isolated each other and which can be made small-sized.
    セラミックパッケージの側壁を構成する多層セラミック基板に設けられたFG電極パターンとSG電極パターンとが電気的に効果的に絶縁された、小型化が可能なセラミックパッケージ型の光モジュールを提供する。 - 特許庁
  • The secondary laminate 4a is preliminarily cut parallel at two or more parts so that the end part of the first internal electrode pattern 12a and the end part of the second internal electrode pattern 13a may be exposed in a matrix form and the preliminary cut laminate is obtained.
    第1内部電極パターン12aの端部及び第2内部電極パターン13aの端部が行列状に露出するように、二次積層体4aを複数箇所で平行に予備切断し、予備切断積層体を得る。 - 特許庁
  • A phase shift mask in which a phase of a transmitted light through one electrode pattern is inverted to a phase of a transmitted light through the other electrode pattern is used as a reticle for forming the reproducing track width of the magnetic head of the magnetic disk device to form ≤0.25μm track width.
    磁気ディスク装置の磁気ヘッドの再生トラック幅を形成するためのレチクルに、一方の電極パターンの透過光の位相が他方の透過光の位相と反転する位相シフトマスクを用い、0.25μm以下のトラック幅を形成する。 - 特許庁
  • The first external electrode 41 is connected electrically with the pattern of the coil-conductor 33 through via-hole conductors 17-20, and the second external electrode 42 is connected electrically with the pattern of the coil-conductor 40 through via-hole conductors 28-32.
    第1外部電極41はビアホール導体17〜20を介してコイル導体パターン33が電気的に接続され、第2外部電極42はビアホール導体28〜32を介してコイル導体パターン40が電気的に接続されている。 - 特許庁
  • A photo mask is formed where a diffraction grating pattern or an auxiliary pattern is arranged having a light intensity reduction function comprising a translucent film, or a complicated gate electrode is formed by applying a reticle to a photolithographic process for forming a gate electrode.
    回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して複雑なゲート電極を形成する。 - 特許庁
  • The dielectric antenna part 1 has an electrode pattern 11 formed on a dielectric 10 and the electrode pattern 11 is connected to the feed point of the plane antenna part 21 to feed the plane antenna 21 through the dielectric antenna part 1.
    誘電体アンテナ部1は、誘電体10上に電極パターン11が形成され、この電極パターン11が平板アンテナ部21の給電点に接続され、誘電体アンテナ部1を介して平板アンテナ部21へ給電が行われる。 - 特許庁
  • The wiring circuit board has an emitter pattern connected to the emitter of the power semiconductor element and a gate pattern connected to the gate of the power semiconductor element, the gate pattern having an induction causing pattern extending in parallel to a direction where the current of the main electrode terminal flows while not shielded by the emitter pattern.
    そして、該配線回路基板は、パワー半導体素子のエミッタに接続されるエミッタパターンと、パワー半導体素子のゲートに接続されるゲートパターンとを備え、該ゲートパターンは、該エミッタパターンによりシールドされず該主電極端子の電流の流れる方向と平行方向に伸びる誘導発生用パターンとを有する。 - 特許庁
  • In the case of forming a lower electrode of a wire or a non-linear element by a tantalum pattern 13x containing nitrogen, a nitrogen-contained resist pattern 60 having an inverted pattern of the tantalum pattern is formed on a substrate 20x in a resist pattern formation process, and then a tantalum film 13 is formed on the substrate 20x in a film formation process.
    配線や非線形素子の下電極を窒素含有のタンタルパターン13xにより形成するにあたって、レジストパターン形成工程において、タンタルパターンの反転パターンを有する窒素含有のレジストパターン60を基板20x上に形成した後、成膜工程において、基板20x上にタンタル膜13を成膜する。 - 特許庁
  • This semiconductor capacitance element has a structure, where an upper electrode 104 is formed on a lower electrode 102 at the center thereof where is not overlapped on the peripheral portion of the lower electrode 102 and that a residue pattern 105 consisting of the upper electrode forming film is provided separated from the upper electrode 104 on the peripheral portion of the lower electrode 102, overlapping with the peripheral portion of the lower electrode 102.
    下部電極102上で、かつ下部電極102の周辺部とオーバーラップしない下部電極102の中央部上に上部電極104を有し、また、下部電極102の周辺部とオーバーラップする下部電極102の周辺部上に、上部電極104とは分離して、上部電極形成膜からなる残さ防止パターン105を有した構造とする。 - 特許庁
  • A coating head 5 having a plurality of nozzle holes 11 for discharging a coating solution, or a material to form an electrode, is used to draw an electrode pattern under a liquid sending pump pressure.
    電極材料となる塗布溶液を吐出する複数のノズル孔11を備えた塗布ヘッド5を用い、送液用ポンプ圧で電極パターンの描画を行うものである。 - 特許庁
  • The electrode 43 is disposed so as to face a pressure chamber 10 and a trimmed pattern 43a is formed on the electrode 43 at a portion facing a roughly central portion of the pressure chamber 10.
    電極43は圧力室10と対向するように配置されており、圧力室10の略中央部と対向する部分に抜きパターン43aが形成されている。 - 特許庁
  • To provide a solar cell module for improving a power collection efficiency of a collection electrode by simplifying a pattern of the collection electrode and a wiring material.
    収集電極及び配線材のパターンを簡易にしながら、収集電極の集電効率を向上することを可能とする太陽電池モジュールを提供する。 - 特許庁
  • The side face electrode 6 is formed by forming a thin metallic film 32 having an electrode pattern of a predetermined pitch, and thereafter depositing a plating layer on the surface of the thin metallic film 32.
    側面電極6は、所定ピッチの電極パターンを有する金属薄膜32を形成し、その後、金属薄膜32の表面にメッキ層を堆積して形成される。 - 特許庁
  • After covering a metallic electrode material, a lift-off using a contact pattern formed on an intermediate insulation film 22p and a first resist 20p is used to process a metallic electrode.
    金属電極材料を成膜した後、中間絶縁膜22p及び第1レジスト20pに形成されたコンタクトパターンを用いたリフトオフにより金属電極を加工する。 - 特許庁
  • Front and back side walls of a package body 20 are provided with electrode pads 4a and 4b, and each of the electrode pads 4a and 4b and a wiring pattern of the substrate 10 are joined by soldering.
    パッケージ本体20の前後の側壁には、電極パッド4a、4bが設けられ、各電極パッド4a、4bと基板10の配線パターンはハンダにより接合される。 - 特許庁
  • A wiring pattern 5 which is connected to the first electrode 2 and the second electrode 4 is formed on the first substrate 1, and a circular polarizing plate 8 is installed on the other face side.
    第1基板1には、さらに第1電極2および第2電極4と接続される配線パターン5が形成され、他面側に円偏光板8が設けられている。 - 特許庁
  • Also, when forming the discharge electrode 1 by a conductive material, an insulating film is provided on the surface of the discharge electrode 1, and the circuit pattern 3 is formed on the insulating film.
    また、放電電極1を導電性材料で形成する場合には、該放電電極1の表面に絶縁膜を設け、該絶縁膜上に回路パターン3を形成する。 - 特許庁
  • The positive and negative electrode terminals of the electrode pattern 12 are connected to a joint box 17 through lead wires 15 and 16 and connected to an indoor wiring through the joint box 17.
    電極パターン12の正負電極端子をリード線15,16を介してジョイントボックス17に接続し,このジョイントボックス17を介して屋内配線に接続される。 - 特許庁
  • A negative-electrode active material layer having an uneven pattern is formed on a surface of a copper foil as a negative-electrode current collector by applying application liquid by a nozzle-scan coating method (a step S102).
    負極集電体たる銅箔表面に対し、ノズルスキャン法により塗布液を塗布して凹凸パターンを有する負極活物質層を形成する(ステップS102)。 - 特許庁
  • To prevent damage to an oxide film for an storage electrode and a bridge phenomenon between contacts by using a hard mask layer pattern and increasing the surface area of a storage electrode region.
    ハードマスク層パターンを利用して格納電極領域の表面積を増加させ、格納電極用の酸化膜の損傷、及びコンタクト間のブリッジ現象を防止する。 - 特許庁
  • Then, an upper part surface of the flattening ferroelectric film for fully filling the space between the electrode patterns is substantially aligned with the upper part surface of the electrode pattern.
    このとき、下部電極パターンの間の空間を満たす平坦化用強誘電膜の上部表面は下部電極パターンの上部表面と実質的に整列される。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a semiconductor device having a fine gate electrode, while suppressing the difference in dimensions and difference in shapes, regardless of the density of an electrode pattern.
    電極パターンの疎密の程度に関わらず、寸法差や形状差を抑制して微細なゲート電極を備えた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • This is carried in a thermostatic oven, and the mixing paste is hardened, and each electrode of the semiconductor light emitting element is electrically connected through wire bonding to the electrode pattern.
    これを恒温槽に搬入し混入ペーストを硬化させ、半導体発光素子の各電極と電極パターンとの間をワイヤボンディングにより電気的に接続する。 - 特許庁
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