「pattern method」を含む例文一覧(23002)

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  • METHOD AND DEVICE FOR DETECTING DEFECT OF MICRO PATTERN
    微細パタ−ンの欠陥検出方法及び装置 - 特許庁
  • PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN
    感光性ペースト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
  • PATTERN DRAWING METHOD AND LASER DIRECT DRAWING DEVICE
    パターン描画方法及びレーザ直接描画装置 - 特許庁
  • STEP POSITION CORRECTING METHOD OF PATTERN VARIABLE DISPLAY DEVICE
    図柄可変表示装置のステップ位置補正方法 - 特許庁
  • METHOD FOR FORMING PATTERN IN MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
    半導体装置製造におけるパターン形成方法 - 特許庁
  • CHEMICAL AMPLIFYING RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD
    化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
  • PATTERN FORMING APPARATUS, HEAD UNIT AND HEAD POSITIONING METHOD
    パターン形成装置、ヘッドユニット、ヘッドの位置決め方法 - 特許庁
  • PATTERN FORMING METHOD OF BLACK MATRIX AND ALIGNER THEREFOR
    ブラックマトリクスのパターン形成方法及び露光装置 - 特許庁
  • POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
    重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁
  • To provide a pattern transfer method, a pattern transfer device and a method for manufacturing an electronic device, which have high throughput.
    スループットが高いパターン転写方法、パターン転写装置及び電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE, RESIST PATTERN FORMATION METHOD AND CONDUCTOR PATTERN MANUFACTURING METHOD
    感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、レジストパターン形成方法及び導体パターン製造方法 - 特許庁
  • PATTERN FORMING DEVICE, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT DISPLAY
    パターン形成装置、パターン形成方法、有機電界発光素子ディスプレイの製造装置及び製造方法 - 特許庁
  • To provide a method for fabricating a pattern, more particularly, a method for fabricating a pattern using laser.
    本発明は、パターンの製造方法に関し、特に、レーザーを用いてパターンを製造する方法に関する。 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM
    パターン位相差フィルムの作製方法、パターン位相差フィルム作製用の金型及びその作製方法 - 特許庁
  • PATTERN FORMING APPARATUS, PATTERN FORMING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER AND ORGANIC FUNCTIONAL ELEMENT
    パターン形成装置及びパターン形成方法、並びにカラーフィルタ及び有機機能性素子の製造方法 - 特許庁
  • METHOD OF FORMING PATTERN, PATTERN FORMING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE, ELECTROOPTIC DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS
    パターンの形成方法及びパターン形成装置、デバイスの製造方法、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING UNEVEN SUBSTRATE AND MOLD USED FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE
    パターン基板の製造方法、凹凸基板の製造方法、及びパターン基板の製造に用いられる型 - 特許庁
  • PATTERN FORMING LAMINATED FILM, METHOD FOR PRODUCING SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
    パターン形成用積層被膜、その積層被膜の製造方法及びその被膜を使用したパターン形成方法 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a resist pattern for obtaining a favorable pattern by the double patterning method.
    ダブルパターニング法により良好なパターンを得ることができるレジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • LIGHT-SENSITIVE TRANSFER SHEET, LIGHT-SENSITIVE LAMINATE, IMAGE PATTERN FORMING METHOD, AND WIRING PATTERN FORMING METHOD
    感光性転写シート、感光性積層体、画像パターンを形成する方法、配線パターンを形成する方法 - 特許庁
  • INSULATION PATTERN, FORMATION METHOD FOR THE INSULATION PATTERN, LIGHT-EMITTING DEVICE, MANUFACTURING METHOD FOR THE LIGHT-EMITTING DEVICE, AND ILLUMINATION DEVICE
    絶縁パターン及びその形成方法、発光装置及びその作製方法、並びに照明装置 - 特許庁
  • APPLICATOR AND DEVELOPER, RESIST PATTERN FORMATION APPARATUS, APPLICATION AND DEVELOPMENT METHOD, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND STORAGE MEDIUM
    塗布、現像装置、レジストパターン形成装置、塗布、現像方法、レジストパターンの形成方法及び記憶媒体。 - 特許庁
  • GENERATION METHOD FOR DOT PATTERN, PRINTING METHOD, PRINTING CONTROLLER, PRINTER, PROGRAM AND DATA STRUCTURE OF DOT PATTERN
    ドットパターンの生成方法、印刷方法、印刷制御装置、印刷装置、プログラム及びドットパターンのデータ構造 - 特許庁
  • PATTERN CORRECTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING MASK, AND RECORDING MEDIUM RECORDED WITH THE PATTERN CORRECTION METHOD
    半導体製造用マスクのパターン補正方法およびそのパターン補正方法を記録した記録媒体 - 特許庁
  • MOBILE TERMINAL WITH ACCELERATION SENSOR, METHOD FOR REGISTERING PATTERN OF ACCELERATION, AND METHOD AND PROGRAM FOR COMPARING PATTERN OF ACCELERATION
    加速度センサを備えた携帯端末、加速度パターン登録方法、加速度パターン比較方法及びプログラム - 特許庁
  • METHOD OF FORMING WIRING PATTERN, METHOD OF FORMING FILM PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTROOPTIC DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT
    配線パターン形成方法、膜パターン形成方法、半導体装置、電気光学装置、及び電子機器 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method and an original plate control method capable of favorably forming a pattern.
    良好にパターンを形成することが可能なパターン形成方法及び原板管理方法を提供する。 - 特許庁
  • METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN, METHOD FOR SETTING PARAMETER, DESIGN PATTERN CORRECTING APPARATUS, PARAMETER SETTING APPARATUS, AND PROGRAM
    設計パターン補正方法、パラメータ設定方法、設計パターン補正装置、パラメータ設定装置、及びプログラム - 特許庁
  • PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PERMANENT PATTERN FORMING APPARATUS AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD
    感光性フィルム及びその製造方法、並びに永久パターン形成装置及び永久パターン形成方法 - 特許庁
  • ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, FINE PATTERN DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING PROTRUDING AND RECESSING PATTERN SUPPORT, AND MAGNETIC DISK MEDIUM
    電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁
  • CHARACTERISTIC PATTERN EXTRACTION DEVICE, CHARACTERISTIC PATTERN EXTRACTION METHOD, CLASSIFICATION SUPPORT DEVICE, AND CLASSIFICATION SUPPORT METHOD
    特徴パターン抽出装置、特徴パターン抽出方法、分類支援装置および分類支援方法 - 特許庁
  • PATTERN ANALYSIS METHOD, PATTERN ANALYSIS APPARATUS, YIELD CALCULATION METHOD AND YIELD CALCULATION APPARATUS
    パターン解析方法及びパターン解析装置並びに歩留まり算出方法及び歩留まり算出装置 - 特許庁
  • The method also comprises a step of then removing the second photoresist pattern and the second metal layer on the pattern by a lifting-off method.
    次に、リフトオフ法により第2のフォトレジストパターン及びその上の第2の金属層を除去する。 - 特許庁
  • RESIST PATTERN FORMING METHOD AND SOLAR CELL MANUFACTURING METHOD USING THE SAME, AND RESIST PATTERN FORMING APPARATUS
    レジストパターンの形成方法とそれを用いた太陽電池の製造方法、ならびに、レジストパターン形成装置 - 特許庁
  • PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FORMATION DEVICE, PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE
    パターン形成方法、パターン形成装置、光電変換デバイスの製造方法および光電変換デバイス - 特許庁
  • PRINTING METHOD, METHOD FOR READING DENSITY OF PRINTING PATTERN, PRINTER, AND APPARATUS FOR READING DENSITY OF PRINTING PATTERN
    印刷方法、印刷パターンの濃度読み取り方法、印刷装置、及び、印刷パターンの濃度読み取り装置 - 特許庁
  • FORMATION METHOD FOR HARD MASK PATTERN OF FINE PITCH, AND FORMATION METHOD FOR FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING IT
    微細ピッチのハードマスクパターンの形成方法及びそれを用いた半導体素子の微細パターン形成方法 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM
    パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用の金型及びその作成方法 - 特許庁
  • METHOD FOR FORMING MULTILAYER RESIST PATTERN AND ETCHING METHOD USING MULTILAYER RESIST PATTERN FORMED BY THE SAME
    多層レジスト・パターンの形成方法及び該方法で形成した多層レジスト・パターンを用いるエッチング方法 - 特許庁
  • RESIST PATTERN IMPROVING MATERIAL, FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
    レジストパターン改善化材料、レジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法、及び半導体装置 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK OBTAINED BY THE SAME AND METHOD FOR IMPROVING DIFFERENCE OF MASK PATTERN DIMENSION ON PATTERN ROUGHNESS/FINESS
    フォトマスクの製造方法、それによって得られたフォトマスクおよびマスクパターン寸法の疎密差改善方法 - 特許庁
  • RESIST PATTERN SWELLING MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, SEMICONDUCTOR APPARATUS AND ITS MANUFACTURING METHOD
    レジストパターン厚肉化材料、レジストパターンの形成方法、並びに、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁
  • LIQUID CRYSTAL PHOTOMASK, PATTERN EXPOSURE METHOD USING SAME, PATTERN EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DNA CHIP
    液晶式フォトマスク、それを用いたパターン露光方法、パターン露光装置及びDNAチップの製造方法 - 特許庁
  • PHOTOSENSITIVE TRANSFER SHEET, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, IMAGE PATTERN FORMING METHOD AND WIRING PATTERN FORMING METHOD
    感光性転写シート、感光性積層体、画像パターンを形成する方法、配線パターンを形成する方法 - 特許庁
  • LIGHT-SENSITIVE TRANSFER SHEET, LIGHT-SENSITIVE LAMINATE, IMAGE PATTERN FORMING METHOD AND WIRING PATTERN FORMING METHOD
    感光性転写シート、感光性積層体、画像パターンを形成する方法、配線パターンを形成する方法 - 特許庁
  • MULTI-LAYER BODY, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE HAVING PATTERN BY FINE PROCESSING, AND ELECTRONIC DEVICE
    多層体、レジストパターン形成方法、微細加工パターンを有する装置の製造方法および電子装置 - 特許庁
  • PATTERN FORMING DEVICE, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTRIC FIELD LIGHT EMITTING ELEMENT DISPLAY
    パターン形成装置、パターン形成方法、有機電界発光素子ディスプレイの製造装置及び製造方法 - 特許庁
  • REFERENCE DATA GENERATION METHOD, PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE, PATTERN DEFECT INSPECTION METHOD, AND REFERENCE DATA GENERATION PROGRAM
    参照データ生成方法、パターン欠陥検査装置、パターン欠陥検査方法、及び参照データ生成プログラム - 特許庁
  • METHOD OF PATTERN TRANSCRIPTION, METHOD OF PATTERNING ON FABRIC, AND SHEET FOR PATTERN TRANSCRIPTION TO BE USED THEREFOR
    パターンの写し取り方法、布地へのパターン付け方法、およびそれに用いられるパターン写し取り用シート - 特許庁
  • To provide a film pattern forming method capable of applying functional liquid as droplets and forming a finer film pattern, and to provide a film pattern forming apparatus using the film pattern forming method.
    機能液を液滴として塗布し、より精細な膜パターンを形成することができる膜パターン形成方法と、これを用いた膜パターン形成装置を提供すること。 - 特許庁
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