「pattern method」を含む例文一覧(23002)
＜前へ 1 2 .... 69 70 71 72 73 74 75 76 77 .... 460 461 次へ＞- PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION FOR INSULATING PATTERN FORMATION AND INSULATING PATTERN FORMING METHOD
絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物及び絶縁パターンの形成方法 - 特許庁 - CONDUCTIVE PATTERN FORMING METHOD, CONDUCTIVE PATTERN FORMING APPARATUS, AND SUBSTRATE FOR SOLAR BATTERY
導電パターン形成方法、導電パターン形成装置及び太陽電池用基板 - 特許庁 - FORMING METHOD OF MICRO LINE PATTERN, AND PHOTOGRAVURE PRINTING MACHINE FOR FORMING MICRO LINE PATTERN
微細線パターンの形成方法および微細線パターン形成用のグラビア印刷機 - 特許庁 - SUPPORTING BODY FOR FORMING PATTERN, PASTE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME
パターン形成用支持体、ペースト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - FIXED PATTERN NOISE REMOVAL CIRCUIT, FIXED PATTERN NOISE REMOVAL METHOD, PROGRAM, AND IMAGING DEVICE
固定パターンノイズ除去回路、固定パターンノイズ除去方法、プログラムおよび撮像装置 - 特許庁 - RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIN PATTERN FORMING METHOD, RESIN PATTERN AND ITS UTILIZATION
感放射線性樹脂組成物、樹脂パターン形成方法、樹脂パターン及びその利用 - 特許庁 - DRAWING PATTERN MULTIPLEXING APPARATUS, AND DRAWING PATTERN MULTIPLEXING METHOD, PROGRAM AND ANISOTROPIC REFLECTING MEDIUM
図柄多重化装置、図柄多重化方法、プログラムおよび異方性反射媒体 - 特許庁 - METHOD FOR CREATING PATTERN DATA OF PHOTOMASK, DEVICE FOR CREATING PATTERN DATA OF PHOTOMASK, AND PROGRAM
フォトマスクのパターンデータ生成方法、フォトマスクのパターンデータ生成装置、およびプログラム - 特許庁 - PATTERN INSERTION CIRCUIT FOR OOR TESTING AND PATTERN INSERTION METHOD FOR OOR TESTING
ＯＯＲ試験用パターン挿入回路及びＯＯＲ試験用パターン挿入方法 - 特許庁 - WIRING PATTERN, PATTERN FOR TESTING SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
配線パターン、半導体装置のテスト用パターンおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁 - SUBSTRATE FOR PATTERN FORMATION AND METHOD FOR FORMING PATTERN OF NANOCRYSTAL USING THE SAME
パターン形成用基板およびこれを用いたナノ結晶パターンを形成する方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING LIGHT SHIELDING PATTERN ON LENS SHEET AND LENS SHEET HAVING LIGHT SHIELDING PATTERN
レンズシートへの遮光パターンの形成方法および遮光パターンを有するレンズシート - 特許庁 - To provide a pattern forming method for forming the fine pattern of a high aspect ratio.
高いアスペクト比の微細パターンを形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - STAMPER FOR FORMING UNEVEN PATTERN, METHOD FOR FORMING UNEVEN PATTERN, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM
凹凸パターン形成用スタンパー、凹凸パターン形成方法および磁気記録媒体 - 特許庁 - To provide an inspection method effective for a fine pattern or a complicated pattern.
微細なパターンや複雑なパターンに対して有効な検査方法を提供すること。 - 特許庁 - The method estimates a pattern of change of a patient, specifically a change in the respiration pattern.
方法が患者の変化パターン、特に呼吸パターンにおける変化を推定する。 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR EVALUATING SIGNAL PATTERN, AND SIGNAL PATTERN EVALUATION PROGRAM
信号パターン評価装置、信号パターン評価方法及び信号パターン評価プログラム - 特許庁 - PATTERN INSPECTING METHOD AND APPARATUS, AND RECORDING MEDIUM FOR RECORDING THEREIN PATTERN INSPECTING PROGRAM
パターン検査方法及び装置並びにパターン検査プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁 - TEST PATTERN GENERATION DEVICE, CONTROL METHOD OF TEST PATTERN GENERATION DEVICE, AND FAILURE DETECTION DEVICE
テストパターン生成器、テストパターン生成器の制御方法、および、故障検出装置 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN, AND PERMANENT PATTERN
感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及び永久パターン - 特許庁 - METHOD FOR REDUCING DIMENSION, APPARATUS FOR GENERATING DICTIONARY FOR PATTERN RECOGNITION, AND APPARATUS FOR RECOGNIZING PATTERN
次元削減方法、パターン認識用辞書生成装置、及びパターン認識装置 - 特許庁 - BEHAVIORAL PATTERN MEASURING DEVICE, BEHAVIORAL PATTERN MEASURING METHOD, AND HEALTH STATE SUPPOSING DEVICE
行動パターン測定装置、行動パターン測定方法及び健康状態推測装置 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern, by which a resist pattern with high resolution can be formed.
高解像性のレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - FINE SHAPE FORMING METHOD, RESIST PATTERN SHAPE DESIGNING METHOD AND DEVICE, PROGRAM FOR DESIGNING RESIST PATTERN SHAPE, STORAGE MEDIUM FOR DESIGNING RESIST PATTERN SHAPE, RESIST PATTERN, AND FINE SHAPE PATTERN
微細形状作成方法、レジストパターン形状設計方法、レジストパターン形状設計装置、レジストパターン形状設計用プログラム、レジストパターン形状設計用記憶媒体、レジストパターン及び微細形状パターン - 特許庁 - To provide a circuit pattern transferring device which doesn't require any mask pattern and can faithfully transfer a pattern corresponding to a mass production, and to provide a circuit pattern transferring method.
マスクパターンを不要とし、大量生産に対応してパターンを忠実に転写できる回路パターン転写装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - The method for forming a resist pattern includes steps of forming a resist pattern and then applying the above thickening material for a resist pattern to cover the surface of the resist pattern.
レジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布するレジストパターンの製造方法。 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD BY DROPLET DISCHARGE METHOD, AND FORMING METHOD FOR MULTILEVEL INTERCONNECTION STRUCTURE
液滴吐出法によるパターン形成方法、多層配線構造の形成方法 - 特許庁 - MASK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
マスク、マスクの製造方法、パターンの形成方法、及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
マスクパターンの補正方法、マスク、露光方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - ESTIMATING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD OF HEATING APPARATUS, AND CONTROL METHOD OF HEATING APPARATUS
加熱装置の評価方法とパターン形成方法及び加熱装置の制御方法 - 特許庁 - PRINTING METHOD, FORMING METHOD OF ELECTRODE PATTERN AND FORMING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR
印刷方法、電極パターンの形成方法及び薄膜トランジスタの形成方法 - 特許庁 - LAYOUT DATA VERIFICATION METHOD, MASK PATTERN VERIFICATION METHOD AND CIRCUIT OPERATION VERIFICATION METHOD
レイアウトデータ検証方法、マスクパターン検証方法および回路動作検証方法 - 特許庁 - MASKING METHOD, METHOD FOR FORMING PATTERN ON THIN FILM, AND METHOD OF RUNNING MASKING PROCESS
マスキング方法、薄膜にパターン形成する方法及びマスキングプロセスの実行方法 - 特許庁 - ETCHING METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR, AND ETCHING SOLUTION
エッチング方法、パターン形成方法、薄膜トランジスタの製造方法及びエッチング液 - 特許庁 - RESIST PATTERN FORMING METHOD, FRAME PLATING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN-FILM MAGNETIC HEAD
レジストパターン形成方法、フレームめっき方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁 - LITHOGRAPHY SIMULATION METHOD, MASK PATTERN CORRECTING METHOD, AND TREATMENT SUBSTRATE CORRECTING METHOD
リソグラフィシミュレーション方法、マスクパターン補正方法及び処理基板形状補正方法 - 特許庁 - MASK PATTERN CORRECTING METHOD, MASK MANUFACTURING METHOD, MASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
マスクパターン補正方法、マスク製造方法、マスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING MASK PATTERN, METHOD FOR PATTERNING THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING MICRO DEVICE
マスクパターンの作製方法、薄膜のパターニング方法、及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁 - EXPOSURE CONDITION SETTING METHOD, PATTERN DESIGNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
露光条件設定方法、パターン設計方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - LASER EXPOSURE METHOD, PHOTORESIST LAYER WORKING METHOD, AND PATTERN MOLDING MANUFACTURING METHOD
レーザ露光方法、フォトレジスト層の加工方法およびパターン成形品の製造方法 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE METHOD, PATTERN CORRECTING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
半導体装置の製造方法、露光方法、パターン補正方法および半導体装置 - 特許庁 - MASK PATTERN CORRECTION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
マスクパターン修正方法、フォトマスク製造方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, MANUFACTURING METHOD OF TRENCH CAPACITOR, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC ELEMENT
パターン形成方法、トレンチ型コンデンサの製造方法及び電子素子の製造方法 - 特許庁 - COMPOSITION FOR RESIST BASE LAYER AND METHOD FOR FORMATION OF PATTERN
レジスト下層用組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN MATCHING GAME MACHINE AND GAME SUSPENSION CONTROL METHOD
図柄合わせ遊技機及び遊技中止制御方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MULTIPLE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPER FOR NEGATIVE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING INORGANIC MATERIAL PATTERN BY USING AEROSOL
エアロゾルを用いた無機材料パターンの形成方法 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR FORMING GROOVE PATTERN TO EXTRUDED MEMBER
押出部材の溝模様形成方法および装置 - 特許庁 - INK-JET PRINTING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING MASK PATTERN
インクジェット印刷装置およびマスクパターン作成方法 - 特許庁
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