「pattern method」を含む例文一覧(23002)
＜前へ 1 2 .... 68 69 70 71 72 73 74 75 76 .... 460 461 次へ＞- To provide a pattern formation method and a pattern formation system capable of manufacturing wiring or electronic circuits or the like with good efficiency and at high volume, and to provide an electronic device manufactured according to the pattern formation method and pattern formation system.
配線又は電子回路などについて、効率よく大量に製造できるパターン形成方法、パターン形成システムおよび電子機器を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist pattern forming method capable of suppressing mixing with respect to a resist pattern forming method in which a dense pattern is formed in a lower layer and a pattern is formed in an upper layer.
下層に密パターンを形成し、上層にパターンを形成するレジストパターンの形成方法において、ミキシングを抑制できるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - MASK FOR TRANSFERRING CIRCUIT PATTERN, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, PROGRAM FOR FORMING MASK PATTERN, MASK PATTERN FORMING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR DEVICE
回路パターン転写用マスク、マスクパターン作成方法、マスクパターン作成プログラム、マスクパターン作成装置、半導体装置製造方法および半導体装置製造装置 - 特許庁 - To provide a method of forming resist pattern in which mixing can be suppressed with respect to a resist pattern forming method by which a dense pattern is formed in a lower layer and a pattern is formed in an upper layer.
下層に密パターンを形成し、上層にパターンを形成するレジストパターンの形成方法において、ミキシングを抑制できるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR VERIFYING PATTERN DATA OF SEMICONDUCTOR DEVICE, PROGRAM FOR VERIFYING PATTERN DATA OF SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR CORRECTING PATTERN DATA OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM FOR CORRECTING PATTERN DATA OF SEMICONDUCTOR DEVICE
半導体装置のパターンデータ検証方法、半導体装置のパターンデータ検証プログラム、半導体装置のパターンデータ補正方法、および半導体装置のパターンデータ補正プログラム - 特許庁 - PATTERN FORMING MEMBER, MANUFACTURING METHOD OF PATTERN FORMING MEMBER, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS
パターン形成部材、パターン形成部材の製造方法、電気光学装置、電子機器 - 特許庁 - PATTERN FORMING DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY
パターン成膜装置およびパターン成膜方法、並びに、有機電界発光表示装置 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING PHOSPHOR PATTERN USING THE SAME AND PHOSPHOR PATTERN
感光性エレメント、これを用いた蛍光体パターンの製造法及び蛍光体パターン - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING FUNCTIONAL PATTERN AND FUNCTIONAL PATTERN FORMING METHOD
機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法 - 特許庁 - NAPPED FABRIC HAVING THREE-DIMENSIONAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING THREE-DIMENSIONAL PATTERN OF NAPPED FABRIC
立体模様を有する立毛布帛および立毛布帛の立体模様形成方法 - 特許庁 - PATTERN RECOGNITION METHOD AND APPARATUS, PATTERN RECOGNITION PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM THEREOF
パタン認識方法および装置ならびにパタン認識プログラムおよびその記録媒体 - 特許庁 - DEVICE FOR CORRECTING MASK PATTERN, PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK
マスクパターン補正装置、マスクパターン補正プログラムおよび露光用マスクの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING METAL FILM PATTERN, AND THIN-FILM TRANSISTOR HAVING METAL-FILM PATTERN
金属膜パターンの形成方法および金属膜パターンを備えた薄膜トランジスタパネル - 特許庁 - PATTERN SUBSTRATE, ITS MANUFACTURING METHOD, FINE MOLD AND MAGNETIC RECORDING PATTERN MEDIUM
パターン基板，パターン基板の製造方法、微細金型および磁気記録用パターン媒体 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH Cu PATTERN AND SUBSTRATE WITH Cu PATTERN OBTAINED THEREBY
Ｃｕパターン付基板の製造方法及びそれにより得られるＣｕパターン付基板 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING STRUCTURE HAVING RUGGED PATTERN AND STRUCTURE HAVING RUGGED PATTERN
凹凸パターンを有する構造体の製造方法、凹凸パターンを有する構造体 - 特許庁 - PATTERN DETECTION CIRCUIT, DATA RECEIVER, OPERATING METHOD FOR THE PATTERN DETECTION CIRCUIT AND PROGRAM
パターン検出回路、データ受信装置、パターン検出回路の動作方法及びプログラム - 特許庁 - BASIC FREQUENCY PATTERN GENERATION SYSTEM, BASIC FREQUENCY PATTERN GENERATION METHOD, AND PROGRAM
基本周波数パターン生成装置、基本周波数パターン生成方法及びプログラム - 特許庁 - COATING AGENT FOR MAKING PATTERN FINE, AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN USING THE SAME
パターン微細化用被覆形成剤およびそれを用いた微細パターンの形成方法 - 特許庁 - SURFACE-TREATING AGENT FOR PATTERN FORMATION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SURFACE-TREATING AGENT
パターン形成用表面処理剤、及び該処理剤を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - INJECTION MOLDING METHOD FOR DEVELOPING GRAIN PATTERN OR MARBLE PATTERN AND MOLDED PRODUCT
木目模様またはマーブル模様を発現する射出成形方法および成形品 - 特許庁 - SURFACE TREATING AGENT FOR PATTERN FORMATION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SURFACE-TREATING AGENT
パターン形成用表面処理剤、及び該処理剤を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTOCURABLE COMPOSITION FOR RESIN PATTERN FORMATION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
樹脂パターン形成用光硬化性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - LAMINATE PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, RIB FORMING MATERIAL AND GLASS RIB PATTERN
積層体パターン及びその製造方法、リブ形成材料並びにガラスリブパターン - 特許庁 - METHOD FOR VERIFYING RESULT OF MASK PATTERN CORRECTION, AND APPARATUS FOR VERIFYING RESULT OF MASK PATTERN CORRECTION
マスクパターン補正結果検証方法およびマスクパターン補正結果検証装置 - 特許庁 - FIXED PATTERN NOISE ELIMINATION CIRCUIT, FIXED PATTERN NOISE ELIMINATION METHOD, PROGRAM, AND IMAGING APPARATUS
固定パターンノイズ除去回路、固定パターンノイズ除去方法、プログラムおよび撮像装置 - 特許庁 - MATERIAL FOR FORMING PATTERN, AND FILM ELEMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
パターン形成用材料、これを用いたフィルム状エレメント及びパターン形成方法 - 特許庁 - FUNCTIONAL MEMBRANE PATTERN FORMATION APPARATUS, METHOD FOR FORMING FUNCTIONAL MEMBRANE PATTERN AND ELECTRONIC INSTRUMENT
機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターンの形成方法及び電子機器 - 特許庁 - COVERING FORMATION AGENT FOR PATTERN MINUTENESS, AND METHOD OF FORMING MINUTE PATTERN USING THE AGENT
パターン微細化用被覆形成剤及びそれを用いた微細パターンの形成方法 - 特許庁 - PATTERN SIMULATION METHOD, ITS PROGRAM, MEDIUM STORING PROGRAM, AND DEVICE FOR PATTERN SIMULATION
パターンシミュレーション方法、そのプログラム、そのプログラムを記憶した媒体、およびその装置 - 特許庁 - To provide a pattern dividing method, capable of forming a pattern through a high throughput/high accuracy.
高スループット・高精度でパターンが形成できるパターン分割方法を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING FUNCTIONAL PATTERN, AND FUNCTIONAL PATTERN FORMING METHOD
機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN RECOGNITION METHOD AND DEVICE, PATTERN RECOGNITION PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM THEREFOR
パタン認識方法および装置ならびにパタン認識プログラムおよびその記録媒体 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR EXTRACTING PATTERN AND RECORDING MEDIUM WITH RECORDED PATTERN EXTRACTION PROGRAM
パターン抽出方法および装置とパターン抽出プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMATION OF CONJUGATE POLYMER PATTERN AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME
コンジュゲートポリマーパターン形成用組成物およびこれを用いるパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR REPAIRING CIRCUIT PATTERN AND TRANSFER PLATE FOR THE CIRCUIT PATTERN REPAIR
回路パターンの修復方法及び装置、並びに、回路パターン修復用転写板 - 特許庁 - SUBSTRATE WHERE FUNCTIONAL LAYER PATTERN IS FORMED AND METHOD FOR FORMING FUNCTIONAL LAYER PATTERN
機能性層パターンが形成された基板及び機能性層パターンの形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
微細パターン形成用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - COMMON PATTERN DETECTING DEVICE AND PROGRAM, STORAGE MEDIUM, AND COMMON PATTERN DETECTING METHOD
共通パターン発見装置とプログラム、記憶媒体、及び共通パターン発見方法 - 特許庁 - MASK PATTERN TRANSFER METHOD, MASK PATTERN TRANSFER DEVICE, MANUFACTURE THEREOF, AND TRANSFER MASK
マスクパタ—ン転写方法、マスクパタ—ン転写装置、デバイス製造方法及び転写マスク - 特許庁 - PATTERN FORMING COMPOSITION COMPRISING METAL FINE PARTICLE DISPERSION AND PATTERN FORMING METHOD
金属微粒子分散液からなるパターン形成用組成物およびパターン形成法 - 特許庁 - To provide an imprinted pattern forming method favorably forming a pattern.
良好にパターンを形成することが可能なインプリントパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, AND PATTERN FORMING METHOD
感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、及びパターン形成方法 - 特許庁 - SURFACE TREATING AGENT FOR PATTERN FORMATION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE TREATING AGENT
パターン形成用表面処理剤、及び該処理剤を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - FINE PATTERN EVALUATING METHOD AND STORAGE MEDIUM RECORDED WITH FINE PATTERN EVALUATING PROGRAM
微細パターン評価方法及び微細パターン評価プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD AND PATTERN
感光性組成物及び感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及びパターン - 特許庁 - To provide a resist pattern with a new constitution and a method for manufacturing the resist pattern.
新規な構成のレジストパターン及びこのレジストパターンの作製方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method capable of efficiently designing a pattern.
効率的なパターン設計を行うことが可能なパターン作成方法を提供する。 - 特許庁 - PATTERN PROGRAM CREATION SUPPORT DEVICE, PATTERN PROGRAM CREATION SUPPORT METHOD AND COMPUTER PROGRAM
パターンプログラム作成支援装置、パターンプログラム作成支援方法およびコンピュータプログラム - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING STRUCTURE HAVING UNEVEN PATTERN, AND STRUCTURE HAVING UNEVEN PATTERN
凹凸パターンを有する構造体の製造方法、凹凸パターンを有する構造体 - 特許庁
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