「pattern of」を含む例文一覧(49955)

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  • Thereby, not only the process margin of a gate pattern and a field poly pattern is assured, but also the gate pattern or gate length and, further, the length of the field poly pattern is shortened.
    これにより、ゲートパターン及びフィールドポリパターンの工程マージンが確保できるだけではなく、ゲートパターンまたはゲート長さ、さらに、フィールドポリパターンの長さが縮められる。 - 特許庁
  • The processor calculates a color gamma correction pattern based on the color scan of the image pattern, and calculates a monochrome gamma correction pattern based on the monochrome scan of the image pattern.
    また、このプロセッサーは、イメージパターンのカラースキャンに基づきカラーγ補正パターンを算出し、イメージパターンのモノクロスキャンに基づきモノクロγ補正パターンを算出する。 - 特許庁
  • Furthermore, a multi-stage interleave pattern generator with an optional pattern length is configured by combining a plurality of multi-stage interleave pattern generators with different kind of configurations and pattern length.
    更にこの構成の種類、パターン長の異なるマルチステージ・インタリーブ・パターン生成器を複数組み合わせて、任意のパターン長のマルチステージ・インタリーブ・パターン生成器を構成する。 - 特許庁
  • When a light source M does not emit light, the pattern of the pattern region 3 is unclear.
    光源Ｍを発光させないとき絵柄領域３の絵柄は不鮮明である。 - 特許庁
  • To provide a servo pattern recording device in which recording accuracy of a servo pattern can be improved.
    サーボパターンの記録精度を向上し得るサーボパターン記録装置を提供する。 - 特許庁
  • PATTERN FORMING MEMBER, MANUFACTURING METHOD OF PATTERN FORMING MEMBER, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS
    パターン形成部材、パターン形成部材の製造方法、電気光学装置、電子機器 - 特許庁
  • ROTARY CREEL OF PARTIAL WARPING MACHINE FOR PATTERN WARP AND PARTIAL WARPING MACHINE FOR PATTERN WARP
    柄経糸用部分整経機の回転式クリールおよび柄経糸用部分整経機 - 特許庁
  • LAMINATE PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, RIB FORMING MATERIAL AND GLASS RIB PATTERN
    積層体パターン及びその製造方法、リブ形成材料並びにガラスリブパターン - 特許庁
  • METHOD AND MATERIAL FOR PATTERN FORMING AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN FORMING MATERIAL
    パターン形成方法、パターン形成材料、および、パターン形成材料の製造方法 - 特許庁
  • Data can be changed every element of the pattern by a pattern data changing device 4.
    模様データ変更装置４により、模様の要素毎にデータを変更可能とする。 - 特許庁
  • To provide a pattern dividing method, capable of forming a pattern through a high throughput/high accuracy.
    高スループット・高精度でパターンが形成できるパターン分割方法を提供する。 - 特許庁
  • METHOD OF MANUFACTURING STRUCTURE HAVING RUGGED PATTERN AND STRUCTURE HAVING RUGGED PATTERN
    凹凸パターンを有する構造体の製造方法、凹凸パターンを有する構造体 - 特許庁
  • PATTERN VERIFYING METHOD, PATTERN VERIFYING DEVICE, PROGRAM AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
    パターン検証方法、パターン検証装置、プログラム、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
  • To generate a pattern signal at high speed without utilizing a plurality of pattern generators.
    複数のパターンジェネレータを利用することなく、パターン信号を高速に生成する。 - 特許庁
  • To suppress the shape defects of a pattern that is formed with a resist pattern as a mask.
    レジストパターンをマスクにして形成されるパターンの形状不良を抑制すること。 - 特許庁
  • To apply an exterior wall while selecting a coordinating exterior wall pattern for each pattern of application.
    外壁を貼分けパターン毎にコーディネート用の外壁柄を選定して貼付ける。 - 特許庁
  • COATING AGENT FOR MAKING PATTERN FINE, AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN USING THE SAME
    パターン微細化用被覆形成剤およびそれを用いた微細パターンの形成方法 - 特許庁
  • The test pattern generation means generates the test pattern through the use of the undetected failure list.
    テストパターン生成手段は、未検出故障リストを用いてテストパターンを生成する。 - 特許庁
  • For example, the first picture pattern 34 represents a pitcher of baseball and the second picture pattern 35 represents a batter.
    例えば、第１図柄34は野球のピッチャーであり、第２図柄35はバッターである。 - 特許庁
  • MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK PATTERN CORRECTION PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
    マスクパターン補正方法、マスクパターン補正プログラムおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁
  • COVERING FORMATION AGENT FOR PATTERN MINUTENESS, AND METHOD OF FORMING MINUTE PATTERN USING THE AGENT
    パターン微細化用被覆形成剤及びそれを用いた微細パターンの形成方法 - 特許庁
  • The game machine is provided with a pattern display means 115 for variably displaying a plurality of pattern columns.
    複数の図柄列が変動表示される図柄表示手段１１５を備える。 - 特許庁
  • The start pattern of the RT game coincides with the pattern constituting the small prize D.
    ＲＴゲームの開始図柄は、小役Ｄ賞を構成する図柄と一致する。 - 特許庁
  • FORMING METHOD OF MICRO LINE PATTERN, AND PHOTOGRAVURE PRINTING MACHINE FOR FORMING MICRO LINE PATTERN
    微細線パターンの形成方法および微細線パターン形成用のグラビア印刷機 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method capable of efficiently designing a pattern.
    効率的なパターン設計を行うことが可能なパターン作成方法を提供する。 - 特許庁
  • NAPPED FABRIC HAVING THREE-DIMENSIONAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING THREE-DIMENSIONAL PATTERN OF NAPPED FABRIC
    立体模様を有する立毛布帛および立毛布帛の立体模様形成方法 - 特許庁
  • DESCRIPTION Output pieces of FILE separated by PATTERN(s) to files `xx01', `xx02', .
    pattern引き数で指定される行が入力ファイルに存在しない場合はエラーとなる。 - JM
  • To create a motion pattern of a robot corresponding to an input motion pattern.
    入力運動パターンに対応するロボットの運動パターンを生成するようにする。 - 特許庁
  • PHOTOMASK, METHOD FOR PRODUCING MASK PATTERN, AND METHOD FOR FORMING PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE
    フォトマスク、マスクパターンの生成方法、および、半導体装置のパターンの形成方法 - 特許庁
  • A frame pattern phase detection part 204 detects the position of the frame pattern from the histogram.
    フレームパタン位相検出部２０４は、ヒストグラムからフレームパタンの位置を検出する。 - 特許庁
  • SUBSTRATE FOR PATTERN FORMATION AND METHOD FOR FORMING PATTERN OF NANOCRYSTAL USING THE SAME
    パターン形成用基板およびこれを用いたナノ結晶パターンを形成する方法 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method for forming the fine pattern of a high aspect ratio.
    高いアスペクト比の微細パターンを形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • TEST PATTERN GENERATION DEVICE, CONTROL METHOD OF TEST PATTERN GENERATION DEVICE, AND FAILURE DETECTION DEVICE
    テストパターン生成器、テストパターン生成器の制御方法、および、故障検出装置 - 特許庁
  • PATTERN EVALUATION DEVICE, PATTERN EVALUATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE USING THE METHOD
    パターン評価装置、パターン評価方法及び該方法を用いたデバイス製造方法 - 特許庁
  • To match initial levels of respective transmission beam patterns with each other comprising adaptive beam pattern and a beam pattern different from the adaptive beam pattern with each other by using a data channel for transmission by an adaptive beam pattern and a pilot channel for transmission by a beam pattern different from the adaptive beam pattern.
    適応ビームパターンにより送信するデータチャネルと、該適応ビームパターンとは異なるビームパターンにより送信するパイロットチャネルとで、各々の送信ビームパターンの初期レベルを合わせることを可能とする。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming material having high sensitivity and capable of forming a high-definition pattern, a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a permanent pattern forming method using the pattern forming material.
    感度が高く、かつ高精細なパターンが形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。 - 特許庁
  • The reinforcing pattern 150 comprises element patterns consisting of a main pattern and pattern arms extending from the main pattern which couple together via their pattern arms.
    ここで、補強パターン１５０は、パターン主部とこのパターン主部から延在したパターン腕部とからなる要素パターン同士が互いに相互のパターン腕部で連結したものから構成される。 - 特許庁
  • Then, the first special pattern (first performance pattern Y1) has basically been specialized to a pattern for carrying out a pre-decision performance of the second special pattern (second performance pattern Y2).
    そして、第１特別図柄（第１演出図柄Ｙ１）に関しては、基本的には第２特別図柄（第２演出図柄Ｙ２）の先判定演出を行うための図柄に特化させている。 - 特許庁
  • To provide a Pachinko game machine capable of displaying a judgment pattern or a pattern displayed on a pattern display device with diversified pattern fluctuation and executing a clear and realistic pattern display.
    図柄表示装置に表示される判定図柄や図柄を多様化した図柄変動でもって表示し、鮮明且つ現実的な図柄表示が実施できるパチンコ遊技機を提供すること。 - 特許庁
  • The correction pattern is generated according to a calculated value of the size (a correction pattern generating part 50) and a corrected layout pattern is generated by adding the correction pattern to a design layout pattern (a graphic calculating part 52).
    その計算値に従って補正パターンを生成し（補正パターン生成部５０）、その補正パターンを設計レイアウトパターンとを加算して補正済レイアウトパターンを生成する（図形演算部５２）。 - 特許庁
  • Firstly, a first image pattern (input pattern 1) and a second image pattern (input pattern 2) are subjected to logical operation, so that a third image pattern is generated as a resulting image of the logical operation.
    まず、第１の画像パターン（入力パターン１）と第２の画像パターン（入力パターン２）とが論理演算されて、第３の画像パターンが、論理演算の結果画像として生成される。 - 特許庁
  • To make the pattern widths of an isolated process pattern and a dense process pattern, obtained by trimming a resist mask comprising the isolated resist pattern and dense resist pattern and then patterning a layer to be processed, to agree with each other.
    孤立レジストパターンと密集レジストパターンを含むレジストマスクをトリミングし、被加工層をパターニングして得られる孤立加工パターンと密集加工パターンのパターン幅を一致させる。 - 特許庁
  • In an exposure mask having a mask pattern which is to be transferred onto a substrate by a projection optical system of an exposure apparatus, the mask pattern contains a pattern group comprising a main pattern and an assist pattern.
    露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンは、メインパターンとアシストパターンとから構成されるパターン群を含む。 - 特許庁
  • In the method of forming a mask pattern for exposure, a first pattern in which a plurality of kinds of patterns are intermingled and a second pattern whose dimensions are smaller than those of the first pattern are arranged on the mask in such a manner that the first pattern is resolved and the resolution of the second pattern is suppressed.
    複数種類のパターンが混在する第１のパターンと、当該第１のパターンよりも寸法が小さい第２のパターンとを、前記第１のパターンが解像され、且つ、前記第２のパターンの解像が抑制されるようにマスク上に配置する露光用マスクパターンの形成方法。 - 特許庁
  • At the time of the start winning to the start winning port 13, drawing for deciding the number of times of the pattern variation is performed and the pattern variable display device 10 executes the pattern variation on the basis of the decided number of times of the pattern variation.
    始動入賞口１３への始動入賞時に、図柄変動回数を決定するための抽選を行い、決定された図柄変動回数に基づき図柄変動表示装置１０が図柄変動を実施する。 - 特許庁
  • The inspection of pattern is carried out materially by measuring the deviation between both data through the comparison of the profile of pattern with the design data of CAD or the like or by operating the size or the like of the circuit pattern from the profile of pattern.
    パターン検査は、具体的には、パターンの輪郭とＣＡＤ等の設計データとを比較して両者のずれを計測したり、パターン輪郭から回路パターンの寸法等を算出することにより実行される。 - 特許庁
  • The image light including a test pattern of nipping a pattern image of a striped pattern between a white pattern and a black pattern, is made incident on the lens of a test object, and a resolution numeric value is determined by detecting a luminance value of the emitting light from the lens.
    白パターンと黒パターンとの間に縞模様のパターン画像を挟み込んだテストパターンを含む画像光をテスト対象のレンズに入射し、レンズからの射出光の輝度値を検出して解像度数値の判定を行う。 - 特許庁
  • The resin pattern 10 may have a high density area of high pattern density and a low density area of low pattern density, and it may have a wide area of wide pattern width and a narrow area of narrow pattern width.
    樹脂パターン１０は、パターン密度が高い高密度領域と、パターン密度が低い低密度領域とを有するものであってもよく、パターン幅の広い広幅領域とパターン幅の狭い細幅領域とを有するものであってもよい。 - 特許庁
  • A control part 44 generates a Moire' pattern by an arithmetic operation of both a reading pattern formed when the image sensor 40 reads the test pattern and a reference pattern.
    制御部４４は、イメージセンサ４０がテストパターンを読み取って形成される読み取りパターンと、基準パターンとの演算によりモワレパターンを生成する。 - 特許庁
  • A pattern control board 24 controls the driving of a pattern variable display unit 9 based on the pattern signals input from the pattern signal output portion 38.
    図柄制御基板２４は、図柄信号出力部３８から入力された図柄信号に応じて、図柄可変表示装置９の駆動を制御する。 - 特許庁
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