「pattern of」を含む例文一覧(49955)
＜前へ 1 2 .... 32 33 34 35 36 37 38 39 40 .... 999 1000 次へ＞- LIQUID DISCHARGING DEVICE, PATTERN FOR CORRECTION, METHOD OF FORMING PATTERN FOR CORRECTION, AND LIQUID DISCHARGING SYSTEM
液体吐出装置、補正用パターン、補正用パターン形成方法、及び、液体吐出システム - 特許庁 - To provide a pattern forming material capable of forming a pattern free of disconnection and twist without producing reticulations in a photosensitive layer, and to provide a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.
感光層にレチキュレーションを発生させることなく、断線やヨレのないパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - The prescribed reproduction signal, a first pattern corresponding to the signal wavelength pattern of the reproduction signal, and an arbitrary pattern (a second or third pattern) corresponding to the signal wavelength pattern of the reproduction signal which is other than the first pattern are used.
所定の再生信号、この再生信号の信号波形パターンに対応した第１のパターン、およびこの第１のパターン以外であって再生信号の信号波形パターンに対応した任意のパターン（第２または第３のパターン）が用いられる。 - 特許庁 - The pattern inspection device 1 is equipped with an ideal pattern generation part 30 which automatically generates an ideal pattern PR and a comparison decision part 50 which decides a defect of an inspected pattern by using the result of a comparison between the ideal pattern PR and inspected pattern PS.
パターン検査装置１は、理想パターンＰＲを自動生成する理想パターン生成部３０と、理想パターンＰＲおよび被検査パターンＰＳとの比較結果を用いて被検査パターンの欠陥を判定する比較判定部５０とを備えている。 - 特許庁 - In respective production methods, the mat varnish is applied synchronously with the pattern from above it with the glass varnish applied on the whole surface, the form plate for applying the mat varnish and one of the formes of the pattern are the form plate of the same pattern, and the printing pattern is a grain pattern and applied on the conduit part of the pattern.
さらに全面にグロスニスが施された上から絵柄と同調してマットニスを施す、マットニスを施すための版と絵柄の印刷版の一つが同じ絵柄の版である、印刷絵柄が木目柄でマットニスが絵柄の導管部分の上に施されている、それぞれの製造方法。 - 特許庁 - The mask pattern includes a pattern group having a main pattern 303 that is a light-shielding region in an isolated line form, an assist pattern 301 composed of a plurality of minute phase shifters disposed on one side of the main pattern 303, and an opening region 302 disposed on the other side of the main pattern 301.
マスクパターンは、孤立線状の遮光領域であるメインパターン３０３と、メインパターン３０３の一側方に配置された複数の微小位相シフターから構成されるアシストパターン３０１と、メインパターン３０１の他側方に配置された開口領域３０２とを有するパターン群を含む。 - 特許庁 - To provide a wiring pattern in which, both a first combined pattern 5a group and a second combined pattern 5b group whose wiring pitch is different from that of the first combined pattern 5a group are formed with a wiring pitch of the minimum working dimension and a forming area of a combined pattern 15 group which combines two of the pattern groups is the smallest.
第1結合パターン5a群と、この第１結合パターン5aに対して配線ピッチの異なる第2結合パターン5b群とがともに、最小加工寸法の配線ピッチで形成でき、この2つのパターン群を接続する結合パターン15群の形成面積を最小とする配線パターンを提供する。 - 特許庁 - The game machine with an LED unit 29 capable of emitting light in a plurality of colors stores a plurality of light emitting pattern data having the first pattern in which a lighting pattern and an emission color pattern of the LED unit 29 are defined and the second pattern different in emission color from the first pattern.
複数色を発光可能なＬＥＤユニット２９を備えた遊技機において、ＬＥＤユニット２９の点灯パターンと発光色パターンとが定義付けられた第１パターン、及び、１パターンと発光色が異なる第２パターンを有する発光パターンデータを複数記憶する。 - 特許庁 - In a pattern correction method of an embodiment, the distribution of pattern coverage on a design layout in the periphery of a position, where an on-substrate pattern becomes an error pattern when the on-substrate pattern corresponding to the design layout of a circuit pattern is formed on a substrate, is calculated.
実施形態のパターン修正方法では、回路パターンの設計レイアウトに対応する基板上パターンを基板上に形成した場合に前記基板上パターンがエラーパターンとなる位置の周辺における前記設計レイアウト上でのパターン被覆率の分布を算出する。 - 特許庁 - To provide a pachinko machine capable of reporting the level of the possibility of development to a winning of a preceding pattern variable display pattern at the time of the following pattern variable display in pattern variable display over two times.
先後２回に亙る図柄変動表示において、先の図柄変動表示パターンの、当たりヘと発展する可能性の高低を、後の図柄変動表示の際に報知することができるパチンコ機を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of verifying a pattern, a method of forming the pattern, a method of manufacturing a semiconductor device, and a program such that the size of the pattern is efficiently measured to improve size guarantee precision of the pattern.
パターンの寸法を効率的に測定でき、パターンの寸法保証精度を向上させることが可能なパターンの検証方法、パターンの形成方法、半導体装置の製造方法及びプログラムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern, the method capable of responding to formation of various types of resist patterns and allowing formation of a resist pattern excellent in depth of focus, a pattern profile, resolution, CDU (critical dimension uniformity) and resistance to pattern collapse.
種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、ＣＤＵ及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁 - Accordingly, because the pattern 113 of the conversation and the pattern 123 of the conversation can be displayed in large sizes, visual recognizability of the pattern 113 of the conversation and the pattern 123 of the conversation is enhanced.
このため、会話の絵柄１１３および会話の絵柄１２３のそれぞれも大きなサイズで表示することができるので、会話の絵柄１１３および会話の絵柄１２３のそれぞれの視覚的な認識性が高まる。 - 特許庁 - The dimensional variation of the mask pattern by a bias amount of the mask pattern and the dimensional variation of the resist pattern are calculated on a computer by an expansion processing of the pattern or an optical intensity simulation so that the generation of the MEF is confirmed.
マスクパターンのバイアス量によるマスクパターンの寸法変動およびレジストパターンの寸法変動をパターンの拡大処理、或いは光強度シミュレーションにより計算機上で算出しＭＥＦの発生を確認する。 - 特許庁 - Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.
遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁 - To provide a method for forming a color pattern by which formability of a corner of a color pattern is improved, limitation of pattern formation for forming a pattern with a preferable corner shape is improved, and a finer pattern can be formed.
着色パターンの角（コーナー）の形成性が向上し、角（コーナー）の形状が良好なパターンを形成できるパターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となる着色パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - One embodiment of the invention includes receiving a first layout pattern containing a new layout of an integrated circuit pattern, a pattern matcher 110 processes the layout pattern and designates certain patterns of the integrated circuit pattern that meet design waiver information.
集積回路パターンの新規のレイアウトを含む最初のレイアウトパターンを受け取り、パターン適合手段110は、レイアウトパターンを処理し、そして、デザイン適用除外情報に適合する集積回路パターンの特定のパターンを指定する。 - 特許庁 - As a temporary determination pattern of a left pattern, a middle pattern and a right pattern, a special pattern K1 showing a character expressing a tadpole is displayed, and each special pattern K1 changes into a special pattern K2 showing a character expressing the tadpole having two legs.
左図柄、中図柄および右図柄の仮の確定図柄として、オタマジャクシを表現したキャラクタを示す特別図柄Ｋ１が表示され、各特別図柄Ｋ１は、２本の足の生えたオタマジャクシを表現したキャラクタを示す特別図柄Ｋ２に変化する。 - 特許庁 - The development-loading evaluation pattern includes a plurality of dummy pattern parts B, C having pattern density corresponding to an electron beam exposure amount, and size measurement pattern parts A, A' provided in the vicinity of the dummy pattern parts.
電子線露光量に対応したパターン密度を有する複数個のダミーパターン部Ｂ、Ｃと、ダミーパターン部に近接して設けられた寸法測定パターン部Ａ、Ａ´と、を備えたことを特徴とする現像ローディング評価パターン。 - 特許庁 - In a Pachinko game machine 10, a ball entering variation means 156 holds a first variation pattern table and a second variation pattern table as variation pattern tables referred to for selection of a variation pattern of a normal figure pattern.
ぱちんこ遊技機１０において、入球変動手段１５６は、普通図柄の変動パターンを選択するために参照される変動パターンテーブルとして、第１変動パターンテーブルと第２変動パターンテーブルを保持する。 - 特許庁 - The local density ratio of the pressurized pattern part and the non-pressurized pattern part (pressurized pattern part/non-pressurized pattern) is 3/2 or more while the local density of the pressurized pattern part should be 0.05 g/cm^3 or more, preferably 0.07 g/cm^3 or more.
加圧パターン部と非加圧パターン部の局部密度比（加圧パターン部／非加圧部）は３／２以上で、かつ、加圧パターン部の局部密度は０．０５ｇ／ｃｍ^3以上、好ましくは０．０７ｇ／ｃｍ^3以上である。 - 特許庁 - A sub-pattern 303 and a sub-pattern 306 are replaced with a rectangular sub-pattern 310 inside an external-shape rectangle 401 including outermost portions of the sub-pattern 303 and sub-pattern 306 as portions of its outer periphery.
サブパターン３０３およびサブパターン３０６は、サブパターン３０３およびサブパターン３０６の最外部をその外周の一部とする外形矩形４０１の内側にある矩形状のサブパターン３１０に置き換えられる。 - 特許庁 - To provide a composition for forming a porous pattern, capable of forming the porous pattern with a controlled structure by easy processes and, moreover, capable of forming the pattern only in a desired area, to provide the porous pattern, and to provide a method for forming the porous pattern.
構造の制御された多孔質パターンを容易なプロセスで、しかも、所望の場所のみに形成することができる多孔質パターン形成用組成物、多孔質パターンおよびその形成方法を提供する。 - 特許庁 - Then, when the numeral pattern ZS of the center column is temporarily stopped, a ready- to-win background pattern ZR corresponding to the temporarily stopped pattern ZS is displayed and the ready-to-win background pattern ZR is varied simultaneously with the numeral pattern ZS of the center column.
そして、中列の数字図柄ＺＳの一時停止時に一時停止図柄ＺＳに対応するリーチ背景図柄ＺＲが表示され、リーチ背景図柄ＺＲが中列の数字図柄ＺＳと同時に変動する。 - 特許庁 - A circuit pattern 15 having the structure, wherein a dammy pattern, the deformed pattern of a conductive line and the magnified pattern of the conductive line are formed individually or in assembled form, is provided on a circuit pattern 16 which is wider than 60 μm.
６０μｍより広い回路パターン１６の場所に、ダミーパターン、導電ラインの変形パターン、導電ラインの拡大パターンを単独あるいは組み合わせた構造とした６０μｍより狭い回路パターン１５を設ける。 - 特許庁 - A pattern matching part 35 generates pattern matching results of first example sentences including an expression represented by the first pattern and pattern matching results of second example sentences including the expression represented by the second pattern.
パターンマッチ部３５は、第１のパターンによって表される表現を含む第１の例文のパターンマッチ結果および第２のパターンによって表される表現を含む第２の例文のパターンマッチ結果を作成する。 - 特許庁 - One or both of a main picture pattern 13 and a subordinate picture pattern 14 are moved, the relative positions of the main picture pattern 13 and the subordinate picture pattern 14 are changed and display deciding success/failure again is performed during picture pattern variation.
主図柄１３と副図柄１４との双方又は一方が動いて主図柄１３と副図柄１４との相対位置が変化し、図柄変動中に当り外れが再抽選されたような表示を行う。 - 特許庁 - EVALUATION AND METHOD FOR ACTION PATTERN IDENTIFICATION OF MOVING IMAGE
動画像の行動パターン識別の評価と方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING APPARATUS, HEAD UNIT AND METHOD OF ADJUSTING HEAD
パターン形成装置、ヘッドユニット、ヘッドの調整方法 - 特許庁 - LIQUID DROPLET DISCHARGING DEVICE AND METHOD OF FORMING DOT PATTERN
液滴吐出装置及びドットパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING COATED ARTICLE
模様形成装置および塗装品の製造方法 - 特許庁 - FORMATION OF RETICLE PATTERN AND APPARATUS FOR FORMING THE SAME
レチクルパタ—ンの作成方法及びその作成装置 - 特許庁 - PROJECTOR, AND TEST PATTERN FOR CONTROLLING ATTITUDE OF PROJECTOR
プロジェクタ、及び、プロジェクタの姿勢制御用テストパターン - 特許庁 - METHOD OF FORMING BONDING PATTERN AND EQUIPMENT THEREFOR
接合パターン形成方法およびそのための装置 - 特許庁 - OFFSET PRINTING METHOD OF PATTERN THROUGH WETTING MEDIUM
湿し媒体を介するパターンのオフセット印刷方法 - 特許庁 - PATTERN EVALUATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE
パターンを評価する方法及びデバイス製造方法 - 特許庁 - An ideal swing speed pattern of the turret 38 is found.
タレット38の理想的なスイング速度パターンを求める。 - 特許庁 - RESIN, RESIST COMPOSITION, AND MANUFACTURING METHOD OF RESIST PATTERN
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE
パターンの形成方法および装置の製造方法 - 特許庁 - To improve reliability in detection of a synchronization pattern.
同期パターン検出の信頼性を向上させる。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND FORMING METHOD OF CIRCUIT PATTERN
感光性組成物及び回路パタ—ン形成方法 - 特許庁 - MEASURING METHOD OF FINE PATTERN LINE WIDTH AND ITS SYSTEM
微細パターン線幅測定方法およびそのシステム - 特許庁 - DRIVING DEVICE FOR PATTERN DISPLAY ROTATING DRUM OF GAME MACHINE
遊技機の図柄表示回転ドラムの駆動装置 - 特許庁 - PATTERN TRANSFERRING METHOD IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
半導体デバイス製造におけるパターン転写方法 - 特許庁 - GENERATION OF PATTERN MATRIX USED IN HALF-TONE PROCESSING
ハーフトーン処理で利用されるパターンマトリクスの生成 - 特許庁 - The image pattern of the remaining half is printed here.
ここで残り半分の画像パターンが印刷される。 - 特許庁 - A pattern on the mask MA, however, is out of focus.
しかし、マスクＭＡ上のパターンは焦点がずれる。 - 特許庁 - To enhance amusement of a pattern exchange puzzle.
図柄入替えパズルの興趣を高めることである。 - 特許庁 - DRAWING METHOD OF CONDUCTIVE WIRE PATTERN BY LASER SCANNING
レーザ走査による導電線パターンの描画方法 - 特許庁 - METHOD FOR MEASURING CONVERGENCE THROUGH USE OF MIXED COLOR PATTERN
混色パターンを使用したコンバージェンス測定方法 - 特許庁
- 特許庁
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