「pattern of」を含む例文一覧(49955)
＜前へ 1 2 .... 30 31 32 33 34 35 36 37 38 .... 999 1000 次へ＞- A ground tint pattern latent image background density determining section 200d determines the density of a latent image part and the density of a background part of the ground tint pattern image based on the ground tint pattern image informationr, respectively.
地紋潜像背景濃度決定部２００ｄは、地紋画像情報に基づく地紋画像の潜像部と背景部の濃度をそれぞれ決定する。 - 特許庁 - Next, the sequence length of this sequence pattern candidate is extended to determine a plurality of new sequence pattern candidates, thereby creating a set of sequence pattern candidates.
次に、この系列パターン候補の系列長を延長して複数の新たな系列パターン候補をもとめることにより、系列パターン候補の集合を生成する。 - 特許庁 - A display pattern of '50' and a display pattern of '70' are switched and displayed in blue color, and the background of the display pattern under display is displayed in white color.
「５０」の表示パターンと「７０」の表示パターンを切り替えて青色で表示し、表示されている表示パターンの背景を白色で表示する。 - 特許庁 - To improve close contact strength between a conductor pattern and a substrate thereof without increase of a resistance value of the conductor pattern in manufacturing process of a conductor pattern holding substrate.
導電パターン保持基板の作成において、導電パターンの抵抗値を高めること無く、導電パターンとその基板の密着強度を向上させる。 - 特許庁 - When the magnification of the tested optical system is β, the pattern period of the first diffraction grating pattern is equal to 3β times that of the second diffraction grating pattern.
被検光学系の倍率をβとするとき、第１回折格子パターンのパターン周期が第２回折格子パターンのパターン周期の３β倍である。 - 特許庁 - To provide a composition for microfabrication of a resist pattern which is used for miniaturizing the line width of a resist pattern in a step of forming a resist pattern in a semiconductor process.
半導体プロセスにおけるレジストパターンの形成段階でレジストパターンの線幅微細化に使用されるレジストパターン微細化組成物を提供すること。 - 特許庁 - As a result, it is possible to set a background pattern optimum for each kind of paper on which the printing of the background pattern is to be carried out, thereby improving the representing accuracy of the background pattern.
よって、地紋印刷を実施する紙種に最適な地紋パターンを設定することが可能となり、地紋の再現精度を向上することができる。 - 特許庁 - To improve dimensional stability of a picture pattern by forming an uneven pattern on the surface of a transparent substrate sheet and the picture pattern of the underside with good registration accuracy.
透明基材シートの表面の凹凸模様と裏面の絵柄模様とを、見当精度良く形成し、絵柄模様の寸法安定性を良くする。 - 特許庁 - At the time of performing complementary division on a device pattern, the total extensions of the X- and Y-direction pattern edges of the whole pattern are calculated first.
デバイスパターンのコンプリメンタリー分割を行う際には、まず全てのパターンについてＸ方向とＹ方向のパターンエッジの総延長を算出する。 - 特許庁 - A memory 12 stores a vibration pattern of a vibration unit 10, a light-emitting pattern of a light emitting part 7, and a pronunciation pattern of an electronic sound, corresponding to the distance difference.
メモリ１２には、この距離の差に応じた、バイブレーションユニット１０の振動パターン、発光部７の発光パターン、及び電子音の発音パターンが記憶されている。 - 特許庁 - An alignment device uses a pattern formed prior to a preceding a step of aligning the pattern of a current step in the exposure step of the pattern.
位置合わせ装置は、パターンの露光工程における現行工程のパターンの位置合わせを直前工程よりも前に形成されたパターンを用いて行う。 - 特許庁 - The halftone pattern 3c is a phase regulating pattern which inverts the phase of exposure light.
ハーフトーンパターン３ｃは、露光光の位相を反転させる位相調整用のパターンである。 - 特許庁 - The pattern of the groove areas 11A, 11B are collectively formed by transfer that uses a pattern.
溝領域１１Ａ，１１Ｂのパターンは、型を用いた転写により一括形成される。 - 特許庁 - The transparent resin 2 is depressed with a pattern 5a, which is the same as the pattern of the cutting sheet 3.
透明樹脂２にはカッテイングシート３のパターン５と同一のパターン５ａが凹設される。 - 特許庁 - To measure resistance of a pattern sidewall and a current flowing through the pattern sidewall on an In-situ basis.
In-situでパターン側壁の抵抗及びそのパターン側壁に流れる電流を測定する。 - 特許庁 - A pattern recognition means recognizes a specific pattern (e.g. a face of a person) inside image data.
パターン認識手段は、画像データ中の特定のパターン（例えば、人物の顔）を認識する。 - 特許庁 - The inductor pattern 20 and capacitor pattern 21 extend to the same side of the sheet 15.
インダクタパターン２０とコンデンサパターン２１は、シート１５の同一辺に向かって延在している。 - 特許庁 - The capacitor pattern 22 and inductor pattern 23 extend toward the same side of the sheet 14.
コンデンサパターン２２とインダクタパターン２３は、シート１４の同一辺に向かって延在している。 - 特許庁 - (Step S3) The density of the dummy pattern and the design pattern is calculated for every division region.
ダミーパターンと設計パターンとの密度を分割領域毎に算出する（ステップＳ３）。 - 特許庁 - A smoothing processing circuit 1003 outputs a replacement pattern in response to the pattern of the received image.
スムージング処理回路1003は、入力画像のパターンに応じた置き換えパターンを出力する。 - 特許庁 - A VFO pattern continuous detection counting part 14 counts the continuation of the VFO pattern.
ＶＦＯパターン連続検出数計数部１４は、ＶＦＯパターンの連続数をカウントする。 - 特許庁 - To decrease a film thinning of an upper layer resist pattern, when transferring the pattern to a lower layer resist film.
下層レジスト膜へのパターン転写時に、上層レジストパターンの膜減りを低減する。 - 特許庁 - A servo pattern group having the best transfer quality of a servo pattern is selected as SPopt.
サーボパターンの転写品質が最も良いサーボパターン群をＳＰｏｐｔとして選択する。 - 特許庁 - PATTERN INSPECTION DEVICE, PATTERN INSPECTION METHOD, EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE
パターン検査装置、パターン検査方法および露光装置ならびに電子装置の製造方法 - 特許庁 - To provide a resist pattern forming method, in which the overlaying accuracy of pattern is improved.
パターンの重ね合わせ精度を向上させたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Using a wiring pattern for measuring dimension, an electric resistance of the wiring pattern is measured.
寸法測定用配線パターンを用い、その配線パターンの電気抵抗値を測定する。 - 特許庁 - Subsequently, another pattern is selected from the control panel, and seams of the another pattern are formed.
次に、操作パネルにより他の模様を別途選択し、他の模様の縫目を形成する。 - 特許庁 - A pattern formation part 13 excludes noise components and leads an attenuation pattern of the fluorescence.
パターン形成部１３は、ノイズ成分を排除して、蛍光の減衰パターンを導き出す。 - 特許庁 - The pattern of the audio data input is analyzed (S12) and is converted to a touch pattern (S13).
次に、入力された音声のリズムを解析し（Ｓ１２）、タッチパターンへ変換する（Ｓ１３）。 - 特許庁 - In the pattern formation process, a support part 2 is pattern-formed on the principal plane of a support substrate 3.
パターン形成工程は、支持基板３の主面に支持部２をパターン形成する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method excellent in both of pattern shapes and roughness characteristics.
パターン形状とラフネス特性との双方に優れたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FORMING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY COMPONENT
パターンの形成方法、パターンの形成装置およびプラズマディスプレイ用部材の製造方法 - 特許庁 - The pattern forming apparatus 10 forms the uneven pattern on the surface of the substrate (FB).
パターン形成装置（１０）は、基板（ＦＢ）の表面に凹凸状のパターンを形成する。 - 特許庁 - DEVICE FOR PREPARING CIRCUIT, DEVICE FOR PREPARING TEST PATTERN, DEVICE FOR SUPPORTING DESIGN, AND METHOD OF PREPARING TEST PATTERN
回路作成装置、テストパターン作成装置、設計支援装置、及びテストパターン作成方法 - 特許庁 - To enhance the detection precision of a predetermined pattern while suppressing a processing amount required for detecting the pattern.
所定のパターンを検出するための処理量を抑えつつ、検出精度を高める。 - 特許庁 - A smoothing processing circuit 1003 outputs the replacement pattern corresponding to the pattern of the input image.
スムージング処理回路1003は、入力画像のパターンに応じた置き換えパターンを出力する。 - 特許庁 - Then, fluorine-based liquid is supplied to the surface of the resist pattern, and an underground film is etched, using the resist pattern as a mask.
そして，その後当該レジストパターンをマスクとした下地膜のエッチング処理を行う。 - 特許庁 - To provide a method of forming a pattern which can form a fine and high-density pattern with a high precision.
微細な高密度パターンを高精度に形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist pattern forming method capable of forming a stable resist pattern.
安定したレジストパターンの形成を行うことが出来るレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming a resist pattern, which can obtain a desired resist pattern profile.
所望のレジストパターンプロファイルを得ることができるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - An arrangement pattern of the articles 11 is recognized using photographed images by arrangement pattern means.
整列パターン認識手段により、撮影画像から物品11の整列パターンを認識する。 - 特許庁 - The game machine is provided with a pattern display means 115 where a plurality of pattern columns are variably displayed.
複数の図柄列が変動表示される図柄表示手段１１５を備える。 - 特許庁 - That is, the pattern layer X1 is conducted with the pattern layer Z2 at the place of the solder 11.
すなわち，パターン層Ｘ１とパターン層Ｚ２とは，半田１１の場所で導通している。 - 特許庁 - To provide a method of forming pattern, a semiconductor device and a metal conductive pattern.
パターンを形成する方法、半導体装置および金属導電パターンを提供する。 - 特許庁 - LAYOUT PATTERN GENERATING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PROGRAM, AND LAYOUT PATTERN GENERATING DEVICE
レイアウトパターン生成方法、半導体装置の製造方法、プログラム、レイアウトパターン生成装置 - 特許庁 - To increase the success rate of pattern recognition when recognizing a prescribed pattern from an image.
画像から所定のパターンを認識する際、そのパターン認識の成功率を高める。 - 特許庁 - The precursor pattern has a light transmittance distribution corresponding to a thickness distribution of the inspection target pattern 2.
原版パターンは、被検査パターン２の厚み分布に応じた光透過率分布を有する。 - 特許庁 - To provide a mesa pattern shape of a mesa section, which does not deviate from a mask pattern shape greatly.
マスクパターン形状から大きく乖離しないメサ部のメサパターン形状を得ること。 - 特許庁 - Thereafter, the pattern formation method includes a step S70 of forming a bus wiring pattern 71 with the second nozzle 57.
その後、第２ノズル５７によってバス配線パターン７１を形成する（ステップＳ７０）。 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING APPARATUS OF ELECTROLYTE FILM FOR PATTERN FORMATION USED IN THE METHOD
パターン形成方法及びそれに用いるパターン形成用電解質膜の製造装置 - 特許庁
- 特許庁
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