「pattern processing」を含む例文一覧(4002)
＜前へ 1 2 .... 47 48 49 50 51 52 53 54 55 .... 80 81 次へ＞- The checking device 1 comprises an infrared ray video camera 11 for performing the image pickup of the infrared ray emission 3 at the checking point, and an image processing unit including a control unit 14 which performs the image processing of the picked-up image to determine the identity of the checking bit pattern.
確認装置１は、前記視認地点で赤外線発光３を撮影する赤外線ビデオカメラ１１と、撮影画像を画像処理し前記確認用ビットパターンの同一性を判定する制御部１４を含む画像処理部とで構成されている。 - 特許庁 - The circuit pattern inspection device independently has a detection signal processing circuit for forming a large current high-speed image for detecting the presence of the defect, and a detection signal processing circuit for forming an image in a specific narrow part detected by this defect detecting inspection.
欠陥の存在を検出する為の大電流高速画像形成用の検出信号処理回路と、この欠陥検出検査により検出された特定の狭い部位の画像形成用の検出信号処理回路とを独立に設ける。 - 特許庁 - The filtering processing is executed, and the image obtained by executing the plurality of processings according to the processing procedure is processed to remove the noise components having features quite different from the sample pattern out of the components included in the image.
このフィルター処理を実行して、処理手順に従って複数の処理を実行して得られる画像を処理すると、この画像に含まれる成分のうちサンプル図形とは全く異なる特徴を有するノイズ成分を取り除くことができる。 - 特許庁 - An image processing means 121 changes a method of processing an image (such as changing the mask pattern used in the edge emphasizing process as the image processing) for a read image obtained by a microfilm scanner 110 based on the information on the optical system (such as about the type or the zoom magnification of a projection lens, etc.), of the microfilm scanner 110.
画像処理手段１２１は、マイクロフィルムスキャナ１１０が有する光学系に関する情報（投影レンズのタイプ又はズーム倍率等）に基づいて、マイクロフィルムスキャナ１１０で得られた読取画像に対する画像処理方法を変更（画像処理としてのエッジ強調処理で使用するマスクパターンの変更等）する。 - 特許庁 - Regarding a fault caused by a plurality of processings executed in a certain order, discrimination information allocated to each processing, the order in which each processing is executed, and restoration information showing the cause of a fault and restoration procedure from the fault, are stored in a processing pattern table 122.
また、処理パターンテーブル１２２には、複数の処理が或る順序で実行されたことを原因として発生する障害について、各処理に割り当てられた識別情報と各処理が実行される順序と、障害の原因及び障害からの復旧の手順を表す復旧情報とが記憶されている。 - 特許庁 - To provide an image processing method wherein the total consumption of consumption articles is reduced, while the character quantity of a font part of a printer is maintained by making periodic unevenness, caused by dot thinning processing using a conventional pattern, is less likely to appear, when image density or the consumption of consumption articles is reduced by the dot thinning processing.
ドットの間引き処理により画像濃度あるいは消耗品使用量を低減する場合、従来のパターンを用いたドットの間引き処理により生じる周期ムラを発生しにくくし、プリンタのフォント部の文字品位を保ったまま、全体の消耗品使用量を低減する画像処理方法を提供する。 - 特許庁 - In the substrate processing apparatus, a photo-catalytic layer 16, which is transparent for ultra-violet and catalyzes photo-degradation of the carbon-based material produced from a resist pattern 11 due to ultra-violet processing, is formed on a surface of a quartz-glass plate 2 dividing an ultra-violet radiation lamp 5 from the processing chamber 4.
基板処理装置を構成するに際し、紫外線照射ランプ５を処理室４から区分する石英ガラス板２の表面に、紫外光照射処理に伴ってレジストパターン１１から発生した炭素系物質の光分解を触媒する紫外光透過性の光触媒層１６を形成する。 - 特許庁 - A frequency band limiting processing unit 26 applies prescribed frequency band limiting processing to the information of the phase difference obtained by the phase difference detecting unit 25, and a measurement result outputting unit 27 outputs a result of the frequency band limiting processing as a pattern depending jitter generated from a measurement object 1 with respect to the data signal Dt.
帯域制限手段２６は、位相差検出手段２５によって得られた位相差の情報に対して所定の帯域制限処理を行い、測定結果出力手段２７は、帯域制限処理の結果を、データ信号Ｄｔに対して測定対象１が発生したパターン依存性ジッタとして出力する。 - 特許庁 - To constitute a character recognizing circuit while using a contour tracing circuit for processing a plurality of read pixels and to provide a high- performance English word recognizing method utilizing this circuit by providing a method for constituting a character pattern memory capable of simultaneously reading out the plurality of pixels of processing object in the contour tracing processing of character recognition.
文字認識の輪郭追跡処理において、処理対象の複数画素を同時に読み出せるような文字パタンメモリの構成方法を提供し、読み出した複数画素を処理する輪郭追跡回路を用いて文字認識回路を構成し、またこれを利用した高性能な英単語認識方法を提供する - 特許庁 - The exposure apparatus EX executes exposure processing for projecting a pattern of a reticle onto a wafer by a projection optical system 13 by using a light supplied from a light source 1, thereby exposing the wafer, and a measurement processing for adjusting the positions of the reticle and wafer in the exposure processing, by using the light supplied from the light source 1.
露光装置ＥＸは、光源１から供給される光を使ってレチクルのパターンを投影光学系１３によってウエハに投影してウエハを露光する露光処理、および、光源１から供給される光を使って露光処理におけるレチクルとウエハとの位置合わせのための計測処理を実行する。 - 特許庁 - To provide a wet processing method and a wet processing device that simplify a configuration and reduce processing costs when the pattern of a circuit etc., is formed on the substrate of silicon etc., and prevent dirt of photoresist, a metal film, etc., peeled from the silicon substrate from re-sticking on the silicon substrate.
シリコン等の基板上に回路等のパターンを生成する場合において、構成の簡略化及び処理コストの低減化を実現し、シリコン基板から剥離したフォトレジスト及び金属膜などの汚れがシリコン基板上に再付着するのを防止し得るウエット処理方法及びウエット処理装置を提供する。 - 特許庁 - To improve quality and yield by executing high-accuracy positioning of a substrate for processing in pattern forming processing when a fixing device for placing and fixing the substrate of a plane square shape is disposed and the patterns of prescribed shapes are formed by the prescribed processing on the substrate.
本発明は平面角形状の基板を載置固定する固定装置を備え、当該基板上に所定の処理により所定形状のパターンを形成するパターン形成処理装置に関し、パターン形成処理における処理基板の高精度な位置決めを行い、品質の向上、歩留りの向上を図る。 - 特許庁 - The grounding patterns of both of the printed board 7a loaded with circuit pars of an encoder circuit part 7 and an FG processing board 12 performing frame ground(FG) processing are connected electrically mutually by a rigid jumper wire 13 and the grounding pattern of the FG processing board 12 grounded to a motor bracket using a conductive rivet 11.
エンコーダ回路部７の回路部品を搭載するプリント基板７ａとフレームグランド（ＦＧ）処理をするＦＧ処理基板１２の接地用パターン同士を剛性のジャンパー線１３で電気的に接続し、導電性ビス１１を用いてＦＧ処理基板１２の接地用パターンをモータブラケット１０に接地する。 - 特許庁 - In a cleaning processing of the semiconductor substrate formed with the fine patterns on the surface thereof, the semiconductor substrate is held with the pattern surface thereof facing down in a cleaning processing chamber, vapor is supplied into the cleaning processing chamber to cause water drops to be condensated, and foreign substances between the fine patterns are removed.
表面に微細パターンが形成された半導体基板を洗浄する処理において、洗浄処理チャンバー内で半導体基板のパターン面を下向きにして保持するとともに、洗浄処理チャンバー内に蒸気を供給して半導体基板表面で液滴を結露させて微細パターンの間の異物除去を行う。 - 特許庁 - To provide a semiconductor wafer processing method wherein the reversed warp of a semiconductor wafer can be suppressed even if thinning down the large-sized wafer by a back-grinding process, etc., with respect to the semiconductor wafer processing method for so sticking an adhesive sheet for processing the semiconductor wafer on the pattern surface of the semiconductor wafer as to process the semiconductor wafer.
半導体ウェハ加工用の粘着シートを半導体ウェハのパターン面に貼り付けて、該半導体ウェハを加工する半導体ウェハの加工方法であって、大型ウェハをバックグラインド工程等により薄型化した場合にも、半導体ウェハの逆反りを抑制可能な半導体ウェハの加工方法を提供する。 - 特許庁 - A pattern variation determining means of the Pachinko game machine 10 makes a central processing device execute an initializing process for returning a count value to a specific default value at a predetermined specific timing as an interrupt processing and also makes the central processing device execute a process for extracting a drawing value for patterns at a specific timing and at a periodic specific timing thereafter as the interrupt processing.
ぱちんこ遊技機１０において、図柄変動決定手段は、予め定める特定タイミングにてカウント値を所定の初期値に戻す初期化処理を割込処理として中央処理装置に実行させるとともに、特定タイミングおよびその後の周期的な所定タイミングにてパターン用抽選値を抽出する処理を割込処理として中央処理装置に実行させる。 - 特許庁 - The entire region of image data obtained by photographing a target electronically is stored; reference pixels are successively selected from the entire region of image data according to a prescribed pattern; the color information of the reference pixels is discriminated and prescribed statistical processing is executed; and the parameters of prescribed image processing are determined based on the result of statistical processing, thus performing image processing to the image data.
対象物を電子撮影して得られた画像データの全域を記憶し、画像データの全域から所定のパターンに従って参照画素を逐次選択し、参照画素の色情報を判別して所定の統計処理を実施し、その後、統計処理の結果に基づいて、所定の画像処理のパラメータを決定して、画像データに画像処理を施すようにした。 - 特許庁 - A tracking pattern storage means 104 storing a plurality of tracking patterns different in information quantity, a picture data analysis means 101 discriminating the similarity of inputted picture data and a specified picture, a tracking pattern selection means 103 selecting a prescribed tracking pattern from plural tracking patterns based on similarity with the specified picture and a picture processing means 102 overlapping the selected tracking pattern with the picture are installed.
情報量の異なる複数の追跡パターンを記憶する追跡パターン記憶手段１０４と、入力された画像データと特定画像との類似性を判別する画像データ解析手段１０１と、特定画像との類似性に基づき、複数の追跡パターンから所定の追跡パターンを選択する追跡パターン選択手段１０３と、選択した追跡パターンを画像に重畳する画像処理手段１０２とを備えたものである。 - 特許庁 - In this MRI apparatus, a control means for controlling a magnetic field generating means, a detecting means and a signal processing means according to a designated imaging sequence calculates which application time is shortest between inclined magnetic field application pattern using a one step method and application pattern using a two step method, selects an application pattern whose application time is shortest, and performs the imaging sequence according to the selected application pattern.
ＭＲＩ装置において、所定の撮像シーケンスに基づいて、磁場発生手段、検出手段及び信号処理手段を制御する制御手段は、設定手段で設定された撮像条件において、１ステップ法による傾斜磁場の印加パターンと２ステップ法による印加パターンのうち、いずれの印加時間が最短となるかを計算し、印加時間が最短時間となる印加パターンを選択し、その選択された印加パターンで撮像シーケンスを実行する。 - 特許庁 - By this input, an electronic controller shifts to pattern number write and read processing and makes affirmative judgment that the input number mn is the number 95 to the number 99 (S230).
この入力により、電子制御装置は、模様番号書込・読出処理に移行し、ステップ２３０の処理において入力番号ｍｎが９５番乃至９９番であると肯定判断をする。 - 特許庁 - When the group number Ngrp is obtained, the controller carries out the processing (S300) to read out the group (Ngrp) of the pattern number Npt already written in the EEPROM region assigned by the group number Ngrp.
グループ番号Ｎgrp が得られると、グループ番号Ｎgrp で指定されるＥＥＰＲＯＭ領域に既に書き込まれている模様番号Ｎptn の群（Ｎgrp ）を読み出す処理（ステップ３００）を行なう。 - 特許庁 - Before the post-processing test of a flash memory 1 is performed, data of chip codes stored in each flash memory 1, defective block information, etc. are stored in each memory 30 while using pattern data as address data.
フラッシュメモリ１の後工程試験を行う前に、各メモリ３０は、パターンデータをアドレスデータとして用いて、各フラッシュメモリ１に記憶されたチップコード、不良ブロック情報等のデータを記憶する。 - 特許庁 - Image information converted into a digital amount after preprocessing is subjected to theoretical computation, a differentiating process and a pattern recognition process by an image processing part to check whether or not a human body is present.
前処理後デジタル量に変換された画像情報は、画像処理部において理論演算、差分処理、パターン認識処理を行い人体存在／不存在の確認を行う。 - 特許庁 - To lighten the processing load of distortion correction by generating data-distortion-corrected image data in a region needing the correction but directly generating lithography data from structure data in a region not needing the correction, thereby plotting a circuit pattern on a circuit material.
事前に光学露光された回路パターンに電子描画で新規の回路パターンを重ねるとき、露光光学系のディストーションに対応したデータ補正の処理負担を軽減する。 - 特許庁 - An image processing unit 21 which provides the drawing data to the exposure part 17 changes the drawing data between the first period and the second period such that the same pattern is drawn on each substrate 11.
露光部１７に描画データを与える画像処理ユニット２１は、各基板１１に同一パターンが描画されるように、第１期間と第２期間とで描画データを変更する。 - 特許庁 - To enhance the surface strength of a decorative sheet, using no vinyl chloride resin and having an embossed pattern formed by emposs processing so that the decorative sheet is hardly damaged at the time of use as a floor material or the like.
塩化ビニル樹脂シートを使用せずエンボス加工による凹凸模様を有する化粧シートを、床材等に使用時に傷付き難い様に表面強度を向上させる。 - 特許庁 - To reduce the processing load of a play control part by controlling the display of a preliminary notice by a display control part on a special picture pattern display device composed of rotators such as reels.
リールなどの回転体によって構成される特別図柄表示装置において、予告表示の制御を表示制御部が行うことで、遊技制御部の処理負荷を低減する。 - 特許庁 - The temporary stop picture pattern of a ready-to-win variation operation is decided after the end of a big hit game, concerning the presentation contents when the result of the propriety lottery processing becomes a high probability big hit state.
当否抽選処理の結果が確変大当り状態となった場合の演出内容について、リーチ変動動作の仮停止図柄を、大当りゲーム終了後に決定する。 - 特許庁 - To provide an exposure apparatus which can transfer a pattern with a proper accuracy by suppressing environmental changes even if a liquid outflows to the outside of a substrate when exposure processing is performed using a liquid immersion method.
液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。 - 特許庁 - Thus, the image processing apparatus 2 separately encodes shape information and pattern information of an image element, thereby accomplishing high compressibility while holding edge information of an image element.
このように、画像処理装置２は、画像要素の形状情報とパターン情報とを分離して符号化することにより、画像要素のエッジ情報を保持しつつ高い圧縮率を実現できる。 - 特許庁 - An image processing method/system includes dividing a movement pattern of a moving object into N discrete position states, and for each of the N position states, determining a corresponding view projection matrix.
画像処理方法／システムでは動く物体の運動パターンがＮ個の不連続位置状態に分割され、前記Ｎ個の位置状態各々に対し対応するビュー投影行列を決定する。 - 特許庁 - A trace collection device is provided with: a trace buffer for successively storing trace data generated by performing traced processing; a first pattern table; and a memory for storing a first analysis buffer.
トレース採取装置は、被トレース処理の実行により生成されるトレースデータを順次格納するトレースバッファと、第１のパターン表と、第１の解析バッファを格納するメモリを備える。 - 特許庁 - The pattern matching processing is carried out in order from the transportation branch office code which is high in probability of matching, so the transportation branch office code can be recognized in a short time with high precision.
従って、よりマッチングする確率の高い運輸支局コードから順次パターンマッチング処理されるので、短時間で且つ高精度に運輸支局コードを認識することが可能となる。 - 特許庁 - When packets received by a data processor in a deep sleep mode correspond to a WOL pattern, a network unit executes shift processing for shifting modes of the data processor from the deep sleep mode to a normal mode.
ネットワーク部は、ディープスリープモードにおいて受信したパケットがＷＯＬパターンと一致する場合は、データ処理装置をディープスリープモードから通常モードに移行させる移行処理を実行する。 - 特許庁 - To provide a substrate processor and processing method in which an appropriate inspection can be carried out in order to suppress variation in the line width of a pattern formed in a film on a substrate.
基板上の膜に形成されたパターンの線幅の変動を抑制するために適切な検査を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a method and device for processing a substrate wherein a transfer which is an index of an evenness of film-thickness of a resist liquid and fluctuation of line thickness in circuit pattern is prevented.
レジスト液の膜厚の不均一および回路パターンの線幅の変動の指標である転写を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁 - A non-foreground region binarizing step performs binarizing processing on the non-foreground region to divide the non-foreground region into a first candidate background and a first candidate common pattern, and obtains dispersion and average values of each.
非前景領域二値化ステップは、非前景領域に二値化処理を行って、第１の候補背景と第１の候補共通パターンに分け、それぞれの分散及び平均値を取得する。 - 特許庁 - A tool contact state detecting part 320 detects to which classification the pattern of the contact state of the tool tip part and the cutting object belongs, when processing falsedly the cutting object.
工具接触状態検出部(320)は、被切削物を擬似的に加工したときの工具の先端部分と被切削物との接触状態のパターンがどの分類に属するのかを検出する。 - 特許庁 - A variable pattern according to the timing of the start win based on the button operation relative to the big win occurrence timing is selected by a special display command determination processing (S34).
又、大当たりの発生タイミングに対するボタン操作に基づく始動入賞のタイミングに応じた変動パターンが、特別表示コマンド決定処理（Ｓ３４）によって選定される。 - 特許庁 - To provide a scanning line interpolation apparatus capable of eliminating improper operations such as interpolation applied to data by bridging over a vertical line and a contour of a pattern when executing interpolation processing in an oblique direction.
斜め方向の補間処理を行う際に、垂直線や絵柄の輪郭をまたいで補間するなどの不適切動作を無くすことが可能な走査線補間装置を提供する。 - 特許庁 - A shape measuring processing part 24 extracts the image having the maximum difference of the brightness value corresponding to the high brightness part and the low brightness part of the brightness pattern from the plurality of images imaged by the CCD camera 10.
形状測定処理部２４は、ＣＣＤカメラ１０が撮像する複数の画像から、輝度パターンの高輝度部と低輝度部に対応する輝度値の差が最大の画像を抽出する。 - 特許庁 - When performing the correction of the video signal D1, correction of an input image signal Din is performed (luminance adjusting processing is performed) so that the display luminance level of a pattern for adjustment 5 can be lowered.
また、そのような映像信号Ｄ１の補正の際には、調整用パターン５の表示輝度レベルが下がるように、入力映像信号Ｄinの補正を行う（輝度調整処理を行う）。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of suppressing an occurrence of loading effect without reference to the shape of a circuit pattern formed on a wafer to improve uniformity in film thickness in a wafer surface.
ウエハに形成された回路パターンの形状によらずにローディング効果の発生を抑制でき、ウエハ面内における膜厚の均一性を向上できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a game machine capable of displaying a pattern occurring in a virtual three-dimensional space with a comparatively low processing burden and maintaining interest of a player.
仮想３次元空間内に発生する図柄の様子を比較的少ない処理負担で表示するとともに、遊技者の面白味を永続させることができる遊技機を提供する。 - 特許庁 - To provide a calibration plate that easily enhances a contrast of light and darkness of a picked-up pattern image and achieves high-accuracy calibration in positional dimension measurement in an image processing.
撮像したパターン画像の明暗のコントラストを簡易に高め、画像処理における位置寸法測定で高精度な較正を図ることを可能とするキャリブレーションプレートを提供する。 - 特許庁 - Then necessary LEDs are turned on according to a lighting pattern to illuminate the electronic component D held by a suction nozzle 5, and the component recognition camera 20 images an image to perform recognition processing.
すると、点灯パターンに従い必要なＬＥＤを点灯させ、吸着ノズル５に保持された電子部品Ｄに照射し、部品認識カメラ２０が撮像して認識処理がされる。 - 特許庁 - In this way, a peak power of the pulsed light is changed by changing the pulse duration, thereby positively changing the gray level of the marking pattern without changing the processing speed.
このように、パルス幅を変更することにより、パルス光のピークパワーが変わるため、加工速度を変更することなくマーキングパターンの濃淡レベルを積極的に変化させることが可能になる。 - 特許庁 - A recognition processing part 303 recognizes corresponding phonemes by collating the feature parameter extracted by the feature extraction part 302 with the standard pattern data and outputs a recognition result.
認識処理部３０３は、特徴抽出部３０２で抽出された特徴パラメータと標準パターンデータを照合することで、対応する音韻を認識し、認識結果を出力する。 - 特許庁 - Delay processing corresponding to each sub-array is carried out based on a delay pattern that determines a delay amount to each of a plurality of vibration elements belonging to the respective sub-arrays, for every sub-array.
そして、各サブアレイごとにそれに属する複数の振動素子の各々に対する遅延量を定めた遅延パターンに基づいて、各サブアレイに応じた遅延処理が実行される。 - 特許庁 - To provide a mask pattern forming method capable of increasing symmetry of the shape of a sidewall and improving processing accuracy when etching a target etching film, in SWP.
ＳＷＰにおいて、側壁部の形状の対称性を高め、被エッチング膜をエッチングするときの加工精度を向上させることができるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
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