「pattern processing」を含む例文一覧(4002)
＜前へ 1 2 .... 51 52 53 54 55 56 57 58 59 .... 80 81 次へ＞- If an RGB ratio calculated by a control unit 11 using R, G and B values of pixels of the test pattern in the captured image is not within a predetermined target range, the image processing unit 15 continuously adjusts the R, G and B values of the pixels of the test pattern until said ratio becomes a ratio within the predetermined target range.
撮像画像中のテストパターンの各画素のＲ値、Ｇ値及びＢ値を用いて制御部１１が算出したＲＧＢ比率が所定の目標範囲内の比率でない場合、この比率となるまで、画像処理部１５はテストパターンの各画素のＲ値、Ｇ値及びＢ値を調整する。 - 特許庁 - In a step 417, an optimum dosage for exposure for a measurement pattern for optical characteristic measurement of the projection optical system is temporarily determined on the basis of the detection result of a formation state of an image of the measurement pattern formed in a plurality of regions on a wafer through exposure processing in a step 406.
ステップ４１７において、ステップ４０６の露光処理によってウエハ上の複数の領域に形成された計測用パターンの像の形成状態の検出結果に基づいて、投影光学系の光学特性計測のための前記パターンの露光の最適ドーズ量が仮に決定される。 - 特許庁 - An image processing and control part 600 extracts a variable density pattern, which indicates the shape of the object to be measured from the first light reception signal by the interference light pencil and forms an object signal, which indicates changes in the shape and location of the object to be measured from the movement of the variable density pattern.
画像処理及び制御部６００は、干渉光束による第１受光信号から測定対象物形状を示す濃淡パターンを抽出し、その濃淡パターンの移動から測定対象物の形状及び位置変化を示す対象物信号を形成する。 - 特許庁 - In a laser processing process, the electrode pattern formation programming area of a dielectric block 1 is irradiated with a laser beam to remove prescribed thickness from the electrode pattern formation programming area, and in a succeeding surface correction process, a dielectric part deteriorated by laser beam irradiation is removed or repaired.
レーザ加工工程で誘電体ブロック１の電極パターン形成予定領域にレーザビームを照射して電極パターン形成予定領域を所定厚み分除去し、続く表面修正工程で、レーザビームの照射によって変質した誘電体部分の除去または修復を行う。 - 特許庁 - When instructed by the address monitoring part 51b to check data, a data determination part 51c, with a data pattern stored therein beforehand that may be transferred at the time of interrupt processing, compares the data received from the channel adapters 40-1 to 40-N with the data pattern, and determines whether there is an error occurrence.
データ判定部５１ｃは、割り込み処理時に転送され得るデータのデータパターンをあらかじめ記憶しており、アドレス監視部５１ｂからデータチェックを指示されると、チャネルアダプタ４０−１〜Ｎから受信されたデータとデータパターンとを比較して、エラー発生の有無を判定する。 - 特許庁 - When the game ball wins a prize in a special pattern start electric role object (S101: YES), and also when the value of a number for holding actions which is stored in a special pattern action holding number storage area is already four (S102: YES), a processing is returned to S101 since the action holding number becomes an upper limit.
特別図柄始動電動役物に遊技球の入賞があった場合に（Ｓ１０１：ＹＥＳ）、既に、特別図柄作動保留数記憶エリアに記憶している作動保留数の値が４となっている場合には（Ｓ１０２：ＹＥＳ）、作動保留数が満杯となっているので、Ｓ１０１に戻る。 - 特許庁 - In the game machine, on the basis of the detection of an entry to a start port in a first start port sensor 780, a second start port sensor 782 and a third start port sensor 784, first special pattern drawing means 900 and second special pattern drawing means 910 perform drawing processing.
始動口への入賞が第１始動口センサ７８０、第２始動口センサ７８２及び第３始動口センサ７８４にて検出されることに基づき、第１特別図柄抽選手段９００及び第２特別図柄抽選手段９１０が抽選処理を行う。 - 特許庁 - To provide a method and a device for dry processing a fine structure capable of uniformly drying the fine structure in a short period of time by preventing the drying during a conveyance and further preventing a falling down of a pattern for a substrate having a large diameter on which surface a fine pattern is formed.
本発明の目的は、搬送中の乾燥を防止し、更に、表面に微細なパターンを形成した大口径基板に対してパターン倒れがなく、短時間で均一に乾燥させることができる微細構造乾燥処理方法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁 - A converting means 15 applies an inputted sentence to processing, that replaces a part corresponding to the original language pattern of the dictionary 14 with a conversion code, until the part corresponds to the original language pattern in the last state and converts the part into the combination of the original language patterns of the nesting structure up to the last state.
変換手段１５は、入力文に対して、パターン辞書１４の原言語パターンに該当する部分を変換記号に置き換える処理を最終状態の原言語パターンに該当するまで行い、最終状態までの入れ子構造の原言語パターンの組み合わせに変換する。 - 特許庁 - A specification setting part 15a sets specifications about layout of layout pattern to be arranged in each layer of the semiconductor integrated circuit, on the basis of a three-dimensional structure of the layer, and a verification processing part 15b verifies whether the layout pattern of each layer of the semiconductor integrated circuit meets specifications or not.
スペック設定部１５ａは、半導体集積回路の各レイヤの３次元構造に基づいて、各レイヤに配置されるレイアウトパターンのレイアウトに関するスペックを設定し、検証処理部１５ｂは、半導体集積回路の各レイヤのレイアウトパターンがスペックを満たしているかどうかを検証する。 - 特許庁 - To provide a method and device for converting pattern data never causing the unexpected increase in data capacity even in the conversion of CAD data for a drawing machine to pattern data for a defect inspecting machine or the reduction in processing speed of the defect inspecting machine by an unnecessary region division.
描画機用のＣＡＤデータを欠陥検査機用の図形データに変換してもデータ容量が不用意に増大したり不要な領域分割によって欠陥検査機の処理速度が低下したりすることのない図形データ変換方法およびデータ変換装置を提供すること。 - 特許庁 - This pattern input system 1 for an apparel CAD is provided with a transparent sheet 11 where a lattice is plotted on a surface, an image pickup device 12 for picking up a pattern on which the transparent sheet 11 is placed, and an image processor 13 for processing an image picked up by the image pickup device 12.
アパレルＣＡＤ用パターン入力システム１は、表面に格子が描画された透明シート１１と、透明シート１１を載置した状態のパターンを撮像する撮像装置１２と、撮像装置１２で撮像した画像を処理する画像処理装置１３とを備える。 - 特許庁 - To provide a dry etching method processing an etching object layer into a shape of a desired rugged pattern with a high precision, a magnetic recording medium manufacturing method utilizing the same, and a magnetic recording medium which has a recording layer formed into a rugged pattern and allows good magnetic characteristics to be surely obtained.
被エッチング層を所望の凹凸パターンの形状に高精度で加工できるドライエッチング方法、これを利用した磁気記録媒体の製造方法及び記録層が凹凸パターンで形成され、良好な磁気特性が確実に得られる磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a lightweight, easily executed plastic block having a tilelike irregular pattern which is useful for effective used of industrial wastes and provided good appearance faithfully showing the pattern, such as a grain or brick texture, having the tilelike clear and deep unevenness without the post-processing.
産業廃棄物の有効利用を図ると共に後加工不要でタイル様の深い凹凸の石目調やれんが調模様を忠実に表現した高外観性を有し軽量にして施工が容易なタイル様凹凸模様を有するプラスチックブロックの製造方法を提供することである。 - 特許庁 - For input image data, an edge attribute judgment part judges edge attributes (thickening pattern and thinning pattern for instance) and a gradation value to be supplied to the small area corresponding to the edge attributes is decided by taking the degradation values of the peripheral small areas into consideration in an edge smoothing processing part 406.
入力画像データについて、エッジ属性判定部４０６４はエッジ属性（たとえば太らせパターンと細らせパターン）を判定し、エッジスムージング処理部４０６において、エッジ属性に応じて小領域に与える階調値を、周辺小領域の階調値を考慮して決定する。 - 特許庁 - (a) For each of two or more manufacturing facilities which treat a processing objective substrate, a regional pattern, to which the manufacturing facility produce mechanical or electrical effect, out of the rear face of the process objective substrate is previously prepared as a rear-face affection pattern in correlation with the manufacturing facility.
（ａ）処理対象基板を処理する複数の製造設備の各々について、該製造設備が処理対象基板の裏面のうち機械的作用または電気的作用を及ぼす領域のパターンを、該製造設備と対応付けて、予め裏面作用パターンとして準備しておく。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a lightweight, easily executed plastic block having a tilelike irregular pattern which is useful for effective use of industrial wastes and provides good appearance faithfully showing the pattern, such as a grain or brick texture, having the tilelike clear and deep unevenness without the post-processing.
産業廃棄物の有効利用を図ると共に後加工不要でタイル様の深い凹凸の石目調やれんが調模様を忠実に表現した高外観性を有し軽量にして施工が容易なタイル様凹凸模様を有するプラスチックブロックの製造方法を提供することである。 - 特許庁 - A pattern comparison processing part 108 compares in pattern the specific object on a screen included as an image in video data S6 decoded by a decoding part 103 with image data of a comparison source included in the other data S4 to generate position information of the specific object on the screen.
パターン比較処理部１０８は、デコード部１０３でデコードされたビデオデータＳ6に画像として含まれる画面上の特定のオブジェクトを、その他のデータＳ4に含まれる比較元の画像データとパターン比較し、画面上における特定のオブジェクトの位置情報を生成する。 - 特許庁 - To improve the throughput of monochromatic printing of an image forming apparatus having a correction information generating means of forming a specified print pattern on a toner image transfer medium, retrieving a formation result of the print pattern, and correcting printing conditions of following print processing based upon a retrieval result.
トナー画像転送媒体に所定の印刷パターンを形成し、該印刷パターンの形成結果を検索し、該検索の結果に基づいて後に続く印刷処理における印刷条件を補正する補正情報生成手段を有する画像形成装置においてモノクロ印刷時のスループットを向上させる。 - 特許庁 - When the depth information of the pixel in the main video data is generated, a 3D processing module performs selection as to which of a first pattern where the graphic data is inserted to the main video data or a second pattern where the graphic data is not inserted to the main video data is used.
３Ｄ処理モジュールは、前記メインビデオデータの画素の深さ情報を生成する場合に、前記メインビデオデータに前記グラフィックスデータを挿入した第１のパターンと前記メインビデオデータに前記グラフィックスデータを挿入しない第２のパターンを用いるかを選択可能としている。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for accurately measuring the trial of the cuff of a fine pattern, and also to provide a semiconductor device manufacturing control system for deciding the processing accuracy on the basis of shape information, such as the height of pattern, tapering angle, amount of trail, and roughness.
微細パターンのボトム部の裾引き形状を正確に計測する方法および計測装置を提供するとともに、パターン高さ、テーパー角、裾引き量およびラフネス等の形状情報に基づいて加工精度を判定する半導体デバイスの製造管理システムを提供する。 - 特許庁 - When it is determined that the pattern dimension is improper, a display device 37 issues warning so that it is possible to determine whether or not the development processing has been properly carried out without moving the substrate to a measuring device in order to measure the pattern dimension, and that it is possible to reduce costs by not using any SEM.
パターン寸法が不適である場合にはディスプレイ装置３７が警報を発するので、パターン寸法測定のために基板を測定装置に移動させることなく現像処理が適切に行われたかを判断することができ、しかもＳＥＭを用いないのでコストを抑制できる。 - 特許庁 - To provide a pattern detecting device and a pattern detecting method for suitably detecting an object to be recognized by suppressing the increase of processing costs, even when the size of an object to be recognized in image is different, depending on the image, and when the object to be recognized exists, while tilting.
画像中の認識対象の大きさが画像によって異なっており、また当該認識対象が傾いて存在している場合であっても、処理コストを増加を抑えて、当該認識対象を好適に検出することができるパターン検出装置及びパターン検出方法を提供する。 - 特許庁 - When it is determined that one's own vehicle is within a predetermined distance Bm before the branch point to be guided during guiding the travel route by route guide processing, the branch pattern diagram of the objective branch point is extracted from the branch pattern diagram stored in the storage medium, and is displayed on a display device 20.
そして、経路案内処理による走行経路の案内中に、自車両が案内対象分岐点の手前の所定距離Ｂｍ以内にあると判断すると、記憶媒体に記憶された分岐模式図から案内対象分岐点の分岐模式図を抽出し、表示装置２０に表示する。 - 特許庁 - A character background image generation section 45 replaces a pixel having 100% concentration of a pseudo half tone pattern b2 outputted from a pseudo half tone pattern memory 44 with the color of color data b1 outputted from a color pallet 43 for outputting to a synthesis processing section 47 as a background image b5.
キャラクタ背景画像生成部４５は、疑似ハーフトーンパターンメモリ４４から出力される疑似ハーフトーンパターンｂ２の１００％濃度の画素を、カラーパレット４３から出力される色データｂ１の色に置き換えて、背景画像ｂ５として合成処理部４７に出力する。 - 特許庁 - After a metallic layer 8a, which constitutes a part of a foundation metal BLM for a CCB bump, is processed by using a resist pattern 13 as a mask, a hydrophobic fluoride layer 12 is formed by plasma processing using fluorine gas in a surface of a PIQ film 9b while leaving the resist pattern 13.
ＣＣＢバンプ用の下地金属ＢＬＭの一部を構成する金属層８ａをレジストパターン１３をマスクとして加工した後、レジストパターン１３を残したままＰＩＱ膜９ｂの表面にフッ素系ガスを用いたプラズマ処理によって、疎水性のフッ化物層１２を形成する。 - 特許庁 - In the starting method for brushless DC motors adopted by the controller for brushless DC motors, the following processing is carried out: the pattern changing timing time C since startup is measured; and when the pattern changing timing time C is equal to or smaller than a threshold value Cs in forced commutation, delay angle control is carried out to cause a motor to transition to sensorless driving.
ブラシレスＤＣモータの制御装置が採用しているブラシレスＤＣモータの起動方法では、起動時からのパターン切換タイミング時間Ｃを計時し、強制転流時にパターン切換タイミング時間Ｃが閾値Ｃｓ以下のときは、遅れ角制御を行ってセンサレス駆動に移行する。 - 特許庁 - A correction similar to the correction of irradiated region with respect to the pattern matching processing from the usual secondary ion image or secondary electron image of the ion beam defect correcting device is performed and a defect region 3b which is extracted by the AFM and is subjected to fine adjustment by the conformation of the pattern for alignment is corrected by ion beams 8.
イオンビーム欠陥修正装置の通常の二次イオン像もしくは二次電子像からのパターンマッチング加工に対する照射領域の補正と同様な補正を行い、AFMで抽出し、位置合わせ用のパターンの合わせ込みで微調整された欠陥領域3bをイオンビーム8で修正する。 - 特許庁 - A sliced sheetlike resin foam is bonded on a base material 1 as a marble grain pattern layer 2 which expresses a marble grain pattern by the slice processing surface of the sheetlike resin foam and a resin sheet or a resin coating film is formed on the surface thereof as a protective layer 3.
スライス加工されたシート状の樹脂発泡体が、そのスライス加工表面が石目模様を表現する石目模様層２として基材１上に貼着され、さらにその表面に樹脂製シートまたは樹脂塗膜が保護層３として形成されていることとする。 - 特許庁 - The image processor includes a pattern recognition means for specifying an image of the subject included in the image on the basis of the features of the subject and an image processing means for outputting an image including the image of the subject when the image of the subject is specified by the pattern recognition means.
画像に含まれる被写体の像をその被写体の特徴に基づいて特定するパターン認識手段と、前記パターン認識手段によって前記被写体の像が特定されたときに、その被写体の像を含む画像を出力する画像処理手段とを備えて構成される。 - 特許庁 - The thermal printer converts monochromatic data of one bit per one dot received from a host computer into 8-bit data through bit rate conversion processing, develops a dot pattern on a memory, and compares a 9-dot matrix pattern including 8 dots surrounding each dot of outline with a plurality of reference dot patterns.
サーマルプリンタは、ホストコンピュータから受信した1ドットあたり1ビットの白黒データをビットレート変換処理により8ビットデータに変換するとともにメモリ上にドットパターンを展開し、アウトラインの各ドットを中心としてその周囲8ドットを含む9ドットマトリックスパターンを複数の参照ドットパターンと比較する。 - 特許庁 - A recognition dictionary managing part 16 executes editing processing on a recognition dictionary 15 for deleting a pattern distant from a recognition boundary, and a recognition processing part 14 executes character recognition using a recognition function based on density estimation by a Gaussian kernel with a variable bandwidth.
認識辞書管理部１６は、識別境界から離れたパターンを削除する認識辞書１５のエディティング処理をおこなうとともに、バンド幅を可変にしたガウスカーネルによる密度推定に基づく識別関数を用いて認識処理部１４が文字認識をおこなう。 - 特許庁 - Then, discrete Fourier transformation is performed to the calculated adjacent angle distribution (a step S5), and processing to remove unnecessary data from data after the discrete Fourier transformation, that is, filter processing is operated (a step S6), and the pattern matching of the data after the Fourier transformation is executed (a step S7).
次に、計算された接角分布に対して離散フーリエ変換を行い（ステップＳ５）、この離散フーリエ変換後のデータの内、必要でないものを除く処理、すなわちフィルタ処理を施し（ステップＳ６）、フーリエ変換後のデータのパターンマッチを行う（ステップＳ７）。 - 特許庁 - According to plural feature data obtained from image data by the specific areas that the image processing units 22 take in, the data transfer units 21 and 20 in the higher layer specify reference data representing features of the pattern of the top surface of the object 30 of image processing.
上記画像処理ユニット２２が取り込んだ所定領域毎の画像データから得られた複数の特徴データに基づいて、上位層のデータ転送ユニット２１,２０により画像処理対象物３０表面のパターンの特徴を表す基準データを特定する。 - 特許庁 - In the case of processing a single channel audio signal (10) to obtain a plurality of audio channel signals, this audio signal processing system separates the single channel audio signal into a 1st separation signal (18) and a 2nd separation signal (14) that are roughly characterized in a sound spectral pattern.
単一チャネル・オーディオ信号（１０）を処理することによって、複数のオーディオ・チャネル信号を得る際、単一チャネル・オーディオ信号を、概して音声スペクトルパターンで特徴付けられる第１の分離信号（１８）、および第２分離信号（１４）に分離する。 - 特許庁 - To provide an image processor and an image processing program, preventing the delay of dot output as the whole image, preventing the generation of a special pattern and a pseudo outline, and having excellent density reproducibility, by adjusting image processing characteristics.
画像処理特性を調整することによって、画像全体としては、ドット出力の遅れを防止するとともに、特殊な紋様及び疑似輪郭の発生を防止し、さらに濃度再現性の良好な画像処理装置及び画像処理プログラムを提供する。 - 特許庁 - The data input sheet processor 30 performs recognition processing of the received dot pattern, acquires the identification information according with the position of the check column marked by the digital pen 20 based on the correspondence information, associates the identification information to input data performed with identification processing, and holds it.
データ入力シート処理装置３０は，受信したドットパターンを認識処理し，対応情報をもとに，デジタルペン２０でマークされたチェック欄の位置に一致する識別情報を取得して，識別処理した入力データに識別情報を対応付けて保持する。 - 特許庁 - In addition to a data flow diaphragm and a record specification definition prepared by a system design supporting tool, the processing pattern of information expressing the processing summary of each of processes contained in this data flow diaphragm and the number of records of data storage to be handled by the relevant process are inputted.
システム設計支援ツールで作成するデータフローダイヤグラム及びレコード仕様定義に加えて、該データフローダイアグラムに含まれる各プロセスの処理概要を表す情報である処理パターンと、当該プロセスが扱うデータ蓄積のレコード件数とを入力する。 - 特許庁 - To perform calibration without lowering the performance in a printing system in which image processing can be performed with a plurality of dither patterns, to math the result and the dither pattern used at image processing using the result, and to provide the print result of high quality.
複数のディザパターンにより画像処理が可能な印刷システムにおいてそのパーフォーマンス低下を招くことなくキャリブレーションを行ない、その結果とその結果を用いた画像処理の際のディザパターンとが適合し、高品位の印刷結果を得ることを可能とする。 - 特許庁 - To provide a reduced pressure drying device, which performs drying processing on a coating film formed on a substrate to be processed, reduces within-wafer nonuniformity of the coating film after the drying processing, and improves uniformity of the remaining film thickness and line width of the coating film in a wiring pattern forming process.
被処理基板に形成された塗布膜に乾燥処理を施す減圧乾燥装置において、乾燥処理後の塗布膜の面内均一性を向上し、配線パターン形成過程における前記塗布膜の残膜厚及び線幅の均一性を向上する。 - 特許庁 - To provide a mask pattern forming method and a semiconductor device manufacturing method, which are capable of making a semiconductor device undergo the desired processing by thickening the thin part of a mask film that is used for processing such as etching of the semiconductor device.
エッチング等の半導体装置に対する処理時に使用するマスク膜における薄膜部の厚みを増大することにより、半導体装置に所望の処理を施すことが可能なマスクパターン形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - In a controller 2, if the image of two-dimensional codes is inputted with a camera 3, processing which detects the finder pattern on the inputted image and processing which decodes detected two-dimensional codes are performed repeatedly while selecting the model in turn until reading is done successfully.
コントローラ２では、カメラ３から２次元コードの画像を入力すると、入力画像上のファインダパターンを検出する処理と、検出された２次元コードを復号する処理とを、読取に成功するまでモデルを順に選択しながら繰り返し実行する。 - 特許庁 - To provide an optical semiconductor module and a manufacturing method therefor, capable of processing a large quantity in batch, permitting to simplify component members without impairment of the performance and reliability levels, eliminating the need for processing an electrode pattern to an optical connector for holding optical fibers or the like, and reducing the manufacturing costs.
大量の一括加工を可能にすると共に、性能及び信頼性レベルを損なうことなく構成部材を簡素化でき、且つ光ファイバ等を保持するための光コネクタにパターン電極を加工する必要がなく、製造コストの低減をはかる。 - 特許庁 - To provide an apparatus for processing an image which can correct a defect accurately by interpolating process reflecting them even if a complicated boundary or a pattern exists in the defective part and which can accelerate a processing speed by suppressing an amount of calculations.
欠陥部内に複雑な境界や模様が存在する場合であってもそれらを反映した補間処理によって正確に欠陥を修正することが可能であるとともに、演算量を抑えて処理速度を高めることが可能な画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - In such a manner, since a commanding pattern is changed corresponding to whether or not the device on the side to be set is provided with the function for performing the processing, the processing is not stopped in the state that a command from a PC 30 is sent and left.
このように、設定される側のデバイスが処理を行うための機能を有しているかどうかに応じて指令のパターンを変更することができるため、ＰＣ３０からの指令が送られたままの状態で処理が止まらないようにすることができる。 - 特許庁 - To increase a viewing and listening opportunity of a broadcast program in an information processing apparatus and an information processing method which select a specific type broadcast program and recommends the selected broadcast program to a user by more surely selecting the broadcast program of a specific broadcast pattern.
特定種類の放送番組を選定してユーザにお勧めする情報処理装置及び情報処理方法において、特定の放送パターンの放送番組をより確実に選定できるようにし、当該放送番組のユーザによる視聴機会を増やす。 - 特許庁 - An unoccupied area capable of arranging the first test pad in a test pad arranging layer immediately the an upper side of the selected processing pattern is searched out of the processing patterns by an unoccupied area searching means 12 based on wiring rule information 31 and target layer information 34.
そして、配線ルール情報３１とターゲット層情報３４に基づいて、空き領域探索手段１２により、選択された処理パターンの直上のテストパッド配線層に第１テストパッドを配置できる空き領域が処理パターン中から探索される。 - 特許庁 - Then, when the value of the cumulative preservation counter Cp exceeds 100 ('YES' in S74), a game stopping processing, the processing of displaying abnormal contents at a pattern display device and stopping the functions of a pachinko ball payout device and a pachinko ball hitting device to put it concretely, is performed (S80).
そして、累積保存カウンタＣｐの値が１００を上回る（Ｓ７４において「ＹＥＳ」）と、遊技停止処理、具体的には、図柄表示装置に異常内容を表示させ、パチンコ球払出装置やパチンコ球発射装置の機能を停止させる処理が行われる（Ｓ８０）。 - 特許庁 - To provide an image data processing apparatus and method which can carry out a drawing process for a strip-shaped pattern extending continuously in the vertical scanning direction and having an uneven length at a high speed, and to provide a storage medium with its data processing program stored.
副走査方向に連続して伸び均一の長さでない短冊形のパターンの描画処理を高速に行うことができる画像データ処理装置及び方法及び当該データ処理プログラムを格納した記憶媒体を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The apparatus has: a color signal appearance frequency counter 34 to calculate an appearance frequency of each color signal in an image signal; a screen parameter selector 35 to select the screen pattern to apply a screen processing to each color signal based on the appearance frequency; and a screen processor 37 to apply the screen processing to each color signal mentioned above in the screen pattern selected by color signal.
画像信号中の各色信号の出現頻度を算出する色信号出現頻度カウント部３４と、出現頻度に基づいて各色信号にスクリーン処理を施すスクリーンパターンを選択するスクリーンパラメータ選択部３５と、色信号ごとに選択されたスクリーンパターンで、該当する色信号にスクリーン処理を施すスクリーン処理部３７とを有する構成としている。 - 特許庁
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