「pattern processing」を含む例文一覧(4002)

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  • By this, such processing by software that a commutation pattern is re-created for use in the reverse rotation is dispensed with, and the drive control device of the reversely rotatable brushless motor can inexpensively be provided.
    それにより、転流パターンを逆転用に作成し直すなどのソフトウェアによる処理を行わなくても良く、逆転可能なブラシレスモータの駆動制御装置を安価に提供し得る。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device that can suppress the reduction of pattern size of a polyimide film by etching and hardly changes device characteristics through processing; and to provide its manufacturing method.
    エッチングによるポリイミド膜のパターンサイズの減少を抑止すると共に、加工によって素子特性を変化させる恐れのない半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Consequently, since interleave processing is performed according to the rearrangement pattern different between the transmission systems, it is possible to effectively disperse burst errors that simultaneously occur between the transmission systems.
    これにより、送信系統間で異なる並び替えパターンに従ったインタリーブ処理を行うから、送信系統間に同時に発生するバースト誤りを効果的に分散させることができる。 - 特許庁
  • To provide a sync detecting method and sync detection circuit for preventing the malfunction of the synchronization processing due to false sync pattern detection, etc., in the transmission of the frame synchronization modulated digital data.
    フレーム同期変調されたディジタルデータの伝送において、擬似シンクパターン検出等による同期処理の誤動作を防止するシンク検出方法及びシンク検出回路を提供する。 - 特許庁
  • To secure a high selection ratio to an insulation film used as a mask material, while controlling the generation of conical pattern defects, in performing dry etching for processing a silicon substrate.
    シリコン基板を加工するためのドライエッチングにおいて、円錐状パターン欠陥の発生を抑制しつつマスク材となる絶縁膜に対して高い選択比を確保できるようにする。 - 特許庁
  • A metal film is formed on the obtained aluminum nitride substrate whose surface is oxidized, and a part of the metal film is removed by ion milling, laser processing, or the like, and a wiring pattern is formed.
    得られた表面酸化された窒化アルミニウム基板上に金属膜を形成し、この金属膜の一部をイオンミリングやレーザー加工等により除去して配線パターンを形成する。 - 特許庁
  • When the prescribed number of tokens are not put out even if the small prize pattern wins a prize, the winning probability of replay is kept by bypassing the replay probability change processing.
    一方、小役が入賞した場合であっても所定枚数のメダルが払い出されなかった場合には、リプレイ確率変動処理をバイパスすることによりリプレイの当選確率を維持する。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive polyamic acid ester composition capable of shortening processing time in a development step in the production of a relief pattern and having high resolution and storage stability.
    レリーフパターン製造時の現像工程における処理時間を短縮可能で、かつ高い解像度と保存安定性を有する感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供すること。 - 特許庁
  • To provide an incoming tone generating device generating an incoming tone near to an instrumental sound by performing envelope processing after an effect pattern is calculated for the incoming tone data.
    着信音データに対してエフェクトパターンを算出した後にエンベロープ処理を施すようにして楽器音に近い着信音を発生させるようにした着信音発生装置を提供する。 - 特許庁
  • To easily select a threshold in the case of performing pattern recognition to input information, and to attain compatibility between the processing speed and recognizing precision.
    入力情報に対してパターン認識を行う際の閾値の選択を容易に行えるようにすると共に、その処理速度と認識精度とを両立させることができるようにする。 - 特許庁
  • An embossed resin sheet 45 is bonded to an electroforming mold 44 and boring work is applied to both of them by a laser processing machine to dispense with a reversal mold for transferring the emboss pattern.
    電鋳型４４に絞付き樹脂シート４５を貼り付け、両者に対してレーザー加工機により孔開け加工を施すことで、絞模様を転写するための反転型を不要とできる。 - 特許庁
  • On the basis of a profile of the amplitude modulated waveform signal, signal processing is automatically performed on the waveform by in-line computing information in order to extract a known pattern feature.
    信号処理は、振幅変調波形信号のプロファイルに基づいて、既知のパターン・フィーチャを抽出するために、インライン計算情報によって、この波形上で自動的に実行される。 - 特許庁
  • The processing of X-ray images and the intensifying of details in the X-ray images are preferably implemented using a pattern matching algorithm requiring preliminary knowledges about patterns of the details of interests.
    Ｘ線画像の処理及びＸ線画像における細部の強調は、関心のある細部のパターンの事前知識を必要とするパターンマッチングアルゴリズムを用いて好ましくは実施される。 - 特許庁
  • For tasks which involve pattern matching or adaptive processing, neural and associative computer systems are quickly becoming recognized as a viable alternative to conventional computing systems.
    パタンマッチングや適応型処理を含むタスクについて、ニューラルおよび連想計算機システムが、通常の計算システムに対する実現可能な代替として急速に認識されてきている。 - コンピューター用語辞典
  • This package implements a PageController design pattern, which essentially means that there is a single page processing requests and actions this page performs depend on parameters passed in GET or POST data.
    このパッケージは、PageController デザインパターンを実装したものです。 これは、リクエストの受け取りと (受け取った GET データあるいは POSTデータに依存した) アクションの実行をひとつのページで行うことを意味します。 - PEAR
  • The power of a television tuner is turned on when the time of intermittent reception arrives (S13), a channel stored in a region for storing a view pattern is tuned (S14), and synchronous processing is made (S15).
    間欠受信の時間になったならばテレビチューナの電源を入れ（Ｓ１３）、視聴パターン保存用領域に保存されているチャンネルにチューニングし（Ｓ１４）、同期処理を行う（Ｓ１５）。 - 特許庁
  • Then block run length data is corrected with drawing data corresponding to a correction amount for correcting a position shift of each block pattern, and drawing processing is executed based upon the block run length data.
    そして、各ブロックパターンの位置ズレを補正するための補正量に応じた描画データによりブロックランレングスデータを補正し、当該ブロックランレングスデータに基づき描画処理が実行される。 - 特許庁
  • When the cycle of an image pattern interferes with the number of beams in the light source in a selected image processing mode, the number of used beams for plotting one image is varied for every scanning.
    選択された画像処理モードでの画像パターンの周期が光源のビーム本数と干渉するときは、１画像の描画に使用するビーム数を１走査ごとに変更する。 - 特許庁
  • In stopping pattern setting processing, based on the state of a big win storing flag, a CPU confirms whether occurring of a big win in variation display of next time and after this is decided or not.
    停止図柄設定処理において、ＣＰＵは、大当り記憶フラグの状態にもとづいて、次回以降の可変表示にて大当りとなることが決定されているか否かを確認する。 - 特許庁
  • In this process, it is controlled to forbid the execution of the processing of determining the performance for successive advance notices during the period from the reception of a varying pattern command to the reception of the reservation memory count subtraction designation command.
    ただし、変動パターンコマンドを受信してから保留記憶数減算指定コマンドを受信するまでの期間、連続予告演出の決定処理の実行を禁止するように制御する。 - 特許庁
  • To provide a game machine capable of displaying the condition of a pattern to be generated in a virtual three-dimensional space with a relatively small processing load, and permanently continuing the interest of a player.
    仮想３次元空間内に発生する図柄の様子を比較的少ない処理負担で表示するとともに、遊技者の面白味を永続させることができる遊技機を提供する。 - 特許庁
  • To perform highly accurate processing in which punch-through of resist and striation due to resist damage are suppressed, in pattern formation by dry etching using a resist after the generation of ArF lithography as a mask.
    ＡｒＦリソグラフィー世代以降のレジストをマスクとしたドライエッチングによるパターン形成において、レジストダメージに起因するレジスト突き抜け及びストライエーションを抑制した高精度加工を行う。 - 特許庁
  • For example, a CPU 42 of the wireless interface apparatus 40 selects an SSID including a prescribed pattern at least part thereof in the case of executing searching processing under a wireless communication environment using e.g., the IEEE 802.11.
    例えば、IEEE802.11を用いた無線通信環境において、無線インタフェース装置４０のＣＰＵ４２は、探索処理の実行時、少なくとも一部分に所定のパターンを含んだSSIDを選択する。 - 特許庁
  • The recognition collation processing part 14 collates the command signal Sh and a reference pattern signal and executes control based on the command signal Sh with the control equipment 20 when being collated.
    認識照合処理部１４は、コマンド信号Ｓｈと標準パターン信号とを照合し、照合した場合にはコマンド信号Ｓｈに基づく制御を制御機器２０に実行させる。 - 特許庁
  • Also, a horizontally rotating pattern is stopped (Figure (D)), and the processing of switching the display surface facing the player from the second display surface 9b to a third display surface 9c is performed (Figure (E)).
    また、横回転図柄を停止させ（図４４（Ｄ））、遊技者に正対する表示面を第２表示面９ｂから第３表示面９ｃに切り換える処理を実行する（図４４（Ｅ））。 - 特許庁
  • To provide a filter for preventing production of contour like pattern capable of avoiding a contour like pattern from being produced when an image sampled by a certain number of bits is sampled by the number of bits more than the certain number of bits and image processing or display is applied to the sampled image.
    この発明は、あるビット数で標本化された画像を、それよりも多いビット数で標本化して画像処理または表示を行う場合において、等高線状の模様の発生を回避できる等高線状模様発生防止用フィルタを提供することを目的とする。 - 特許庁
  • When the variation pattern is prepared, processing is executed for starting the variation of respective left, middle and right special picture patterns according to the prepared variation pattern and stopping display with the designated stop picture patterns (step S310) and the display control of background and character is executed as well.
    変動パターンが作成されると、作成された変動パターンに従って左、中及び右の各特別図柄の変動を開始し指定された静止図柄で静止表示する処理（ステップＳ３１０）を実行すると共に、背景及びキャラクタの表示制御も実行される。 - 特許庁
  • To improve robustness to image input noise or deformation in pattern matching by detecting a position pointed on a pick-up image through pattern matching using only image data for one frame to thereby reduce the memory capacity and the processing time.
    １フレームの画像データのみを用いたパターン・マッチングを行なうことで、撮像画像上の指示位置の検出を可能としてメモリ容量を少量化し、及び処理時間を短縮化しつつ、パターン・マッチングにおいて、画像入力のノイズや変形に対するロバスト性を向上させる。 - 特許庁
  • A resist pattern forming method is provided which is characterized in that a resist pattern 2 formed on a substrate 1 by developing a resist composition having photosensitivity to a predetermined light source by lithography is brought into contact with a supercritical processing liquid 5' comprising a supercritical fluid 3' containing a crosslinking agent 4.
    所定の光源に感光性を有するレジスト組成物をリソグラフィー技術により現像処理をして、基板１上に形成されたレジストパターン２を、架橋剤４を含む超臨界流体３’からなる超臨界処理液５’に接触させることを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁
  • Furthermore, processing in the case of excess over an image area of a pattern matching range is prescribed, and interpolation patterns are divided into groups per attribute of the noticed pixel, and an interpolation pattern group is selected in accordance with an attribute discrimination result of the noticed pixel to adaptively change an interpolation method.
    さらに、パターン・マッチングの範囲が画像の領域を超える場合の処理を規定するとともに、注目画素の属性毎に補間パターンをグループ分けし、注目画素の属性判定結果に応じて補間パターン・グループを選択して補間方法を適応的に切り換える。 - 特許庁
  • A printing device 50 enlarges unit image data indicating unit images being the configuring elements of a background pattern developed in a dot matrix to the width direction and/or feeding direction of a receipt 61, and generates background pattern data by carrying out dot thinning-out processing.
    印刷装置５０において、ドットマトリクス状に展開された背景パターンの構成要素となる単位画像を表す単位画像データを、レシート６１の幅方向および／または送り方向に拡大すると共に、ドットの間引き処理を行うことによって背景パターンデータを生成する。 - 特許庁
  • A curtailed name forming pattern determination part 12 selects at least one of the processing parts 14, 15 and 16 on the basis of data shown concerning the word etc. to be processed in dictionary data 21 read by a dictionary data reading part 11 and a forming pattern determination rule 22.
    短縮名称生成パタン判定部１２は、辞書データ読込み部１１により読込まれた辞書データ２１にて処理対象の語句に関して示されたデータと生成パタン判定ルール２２とに基づいて上記３つの処理部１４，１５，１６のうちの少なくとも１つを選択する。 - 特許庁
  • The manufacturing method comprises a step of forming finer irregularity 16 than the irregularity of the irregularity pattern on the surface 20a of the raw film by blasting processing, and a step of forming the irregularity pattern of the raw film having a fine irregularity formed by embossing.
    製造方法は、ブラスト加工によって、前記凹凸模様の凹凸よりも微小な凹凸１６を前記原反の表面２０ａに形成する工程と、エンボス加工によって、微小な凹凸を形成された前記原反の前記表面に前記凹凸模様を形成する工程と、を備える。 - 特許庁
  • In the game machine, on the basis of the detection of an entry to a start port in a first start port sensor 780, a second start port sensor 782 and a third start port sensor 784, first special pattern drawing means 900 and a second special pattern drawing means 910 perform drawing processing.
    始動口への入賞が第１始動口センサ７８０、第２始動口センサ７８２及び第３始動口センサ７８４にて検出されることに基づき、第１特別図柄抽選手段９００及び第２特別図柄抽選手段９１０が抽選処理を行う。 - 特許庁
  • When a recognition mode is selected, the imaging image taken in an image input part 13 is transmitted to an inspected pattern registration part 15, and matching processing is performed between the reference patterns 41, 42,..., 4n taken out from a designated candidate taking-out part 17 and the imaging image transmitted from the inspected pattern registration part 15 in a comparison part 18.
    一方、認識モードが選択されると、画像入力部13に取り込まれた撮像画像は被検査パターン登録部15に送られ、比較部18にて、指定候補取出し部17から取り出された基準パターン41，42，…，4nと、被検査パターン登録部15から送られた撮像画像との間でマッチング処理が行われる。 - 特許庁
  • The probability density statistical processing part 13 calculates the estimate value of probability density to a collation pattern to become a recognition object based on plural recognition patterns in the recognition pattern holding part 12 and statistically analyzes the error between the relevant estimate value and the true value of the probability density.
    確率密度統計処理部１３は、認識パターン保持部１２における複数の認識パターンに基づいて、認識対象となる照合パターンに対する確率密度の推定値を算出し、当該推定値と確率密度の真値との誤差を統計的に解析する。 - 特許庁
  • To provide a proximity effect correction method capable of reducing processing time for correction of a proximity effect while maintaining high drawing precision of a drawing pattern in a proximity effect correction method in fine pattern drawing using an electron beam drawing device of high acceleration voltage.
    高加速電圧の電子線描画装置を用いた微細パターン描画における近接効果補正方法において、描画パターンの高い描画精度を維持しながら、近接効果補正のための処理時間を低減させることができる近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁
  • A de-spooler 506 in an internal spool processing part 501 of a printer driver 203 calculates layout pattern based on each logical page information of print data, and the layout count and output paper size in print setting information, and generates print data based on the calculated layout pattern.
    プリンタドライバ２０３の内部スプール処理部５０２内のデスプーラ５０６は、印刷データの各論理ページ情報及び印刷設定情報内のレイアウト数，出力用紙サイズに基づいて、レイアウトパターンを算出し、該算出されたレイアウトパターンに基づいて印刷データを生成する構成を特徴とする。 - 特許庁
  • A first communication device 20 starts processing to transmit a signal wave of an initial signal representing an initial signal pattern to a second communication device 30, and changes the amplitude of the signal wave of the initial signal representing the initial signal pattern with time by an emphasis strength setting circuit 209.
    第１通信装置２０は、初期信号パターンを示す初期信号の信号波を第２通信装置３０へ送信する処理を開始し、同時にエンファシス強度設定回路２０９により、初期信号パターンを示す初期信号の信号波の振幅を経時的に変化させる。 - 特許庁
  • A semiconductor wafer 102 is subjected to nitrogen plasma processing either after a step of forming a resist pattern 19 on an interlayer dielectric 18 and thereafter dry-etching the interlayer dielectric 18 or after a step of further dry-etching a stressor SiN film 17 with the resist pattern 19 removed therefrom.
    層間絶縁膜１８にレジストパターン１９を設けたうえで層間絶縁膜１８をドライエッチングする工程の後と、レジストパターン１９を除去した状態のストレッサーＳｉＮ膜１７をさらにドライエッチングする工程の後とのうちのいずれかの時点で、半導体ウェーハ１０２を窒素プラズマ処理する。 - 特許庁
  • To provide an inspection technique and module for inspecting which a measured signal is a regular signal or a irregular signal, and whether a measuring mistake exists in a signal or not, before diagnosis and processing for pattern recognition, in various diagnostic devices, pattern recognizers and the like in various fields.
    様々な分野で色々な診断装置やパターン認識装置などのために、診断やパターン認識の処理を行う前に、測定された信号が定常な信号か、非定常な信号か、また信号の測定ミスがあるか否かについての検査手法およびモジュールを提供すること。 - 特許庁
  • A block sampling section 12a of a signal processing section 12 treats plural Bayer pattern pixels as one block under the control of a system control section 13 to divide a color filter pattern in a direction horizontal to sample data fed from each pixel of the block used for display.
    信号処理部12は、システム制御部13の制御に応じてブロックサンプリング部12a でベイヤパターンの画素において複数の画素を一つのブロックとして扱って色フィルタパターンを水平方向に分割し、表示に用いるこのブロックの各画素から供給されるデータをサンプリングする。 - 特許庁
  • A control processing circuit 27 supplies the generation pattern of the diffusion code following the data read from the memory 28 by first and second code pattern generating parts 30 and 31 when a plurality of matched filters 20-23 inversely diffuse reception signals by executing correlation arithmetic operations.
    制御処理回路２７は、複数のマッチトフィルタ２０〜２３が相関演算を実行することにより受信信号を逆拡散する際に、第１及び第２のコードパターン生成部３０、３１により、メモリ２８から読み出したデータに従った拡散コードの生成パターンを供給する。 - 特許庁
  • Based on the pattern of liaisoning and estimation information showing control relations estimated in between the genes of the pattern of liaisoning, an application and processing part 24 applies the estimation information to a gene cluster containing the plurality of genes and the surrounding genes, and estimates an accurate control relationship of the gene cluster.
    適用処理部２４は、結合パターンとその結合パターンの遺伝子間において推定される制御関係を示す推定情報とに基づき、推定情報を複数の遺伝子と、周囲の遺伝子とを含む遺伝子群に適用し、遺伝子群の正確な制御関係を推定する。 - 特許庁
  • To provide an outside corner column imparting continuity to the pattern of the right and left plate pieces 1a, 1a by making a chamfered part 8 in the apex part 3 of the outside corner column A1 inconspicuous as much as possible and forming the similar image with the image (S, D) generating in the surface pattern in the chamfering processing part 8.
    出隅柱Ａ１の頂角部３における面取り加工部８をできるだけ目立たなくし、かつ面取り加工部８に表面柄部に生じる陰影（Ｓ，Ｄ）と同様な陰影が形成されるようにして、左右の板片１ａ，１ａの柄模様に連続性を持たせる。 - 特許庁
  • On the basis of array data classified by binarization processing, when the array density of a light pattern and a dark pattern configuring a bar code B is equal to or more than predetermined density, it is determined that the array density is of high density; and when the array density is less than the prescribed density, it is determined that the array density is not of highly density.
    二値化処理により区分けされた配列データに基づいて、バーコードＢを構成する明色パターンおよび暗色パターンの配列密度が、所定の密度以上であれば高密度であると判定され、当該所定の密度未満であれば高密度ではないと判定される。 - 特許庁
  • When print data on AM dot data is produced by an RIP 12, in an inkjet printer 20, the print data is divided into 4×4 pixel blocks Z by a mask pattern processing unit 41 and the dot recording order of each pixel in each block Z is decided based on a mask pattern.
    ＲＩＰ１２で、ＡＭ網点データの印刷データを生成すると、インクジェットプリンタ２０では、マスクパターン処理部４１により、印刷データを４×４画素のブロックＺ毎に分割し、マスクパターンに基づいて各ブロックＺにおける各画素のドット記録順序を決定する。 - 特許庁
  • A user diagnostic part of the remote user equipment includes a DNA microarray or a gene chip, an array or a chip scanner, a PC system, a user interface for system behavior, a gene pattern processing function, a pattern-matching request of chip ID for the central-process equipment, a report generation function, and the like.
    遠隔ユーザ設備のユーザー診断部には、ＤＮＡマイクロアレーまたは遺伝子チップと、アレーないしチップ走査器と、ＰＣシステムと、システム動作のためのユーザーインターフェースと、遺伝子パターン処理機能と、中央処理設備に対するチップＩＤのパターンマッチのリクエストと、報告生成機能などが含まれる。 - 特許庁
  • The substrate processing method includes a rinse liquid supply step S12 in which a rinse liquid is supplied to a substrate where a resist pattern is formed, and rinse liquid removing steps S14-S16 in which the rinse liquid is removed from the substrate to which the rinse liquid has been supplied in such atmosphere as contains vapor of a first process liquid that causes the resist pattern to be hydrophobic.
    レジストパターンが形成された基板にリンス液を供給するリンス液供給工程Ｓ１２と、レジストパターンを疎水化する第１の処理液の蒸気を含む雰囲気で、リンス液が供給された基板からリンス液を除去するリンス液除去工程Ｓ１４〜Ｓ１６とを有する。 - 特許庁
  • A double density mode pixel pattern generating section 422 of a hard circuit configuration adds a binary image subjected to bit map expansion to the code information obtained by the pattern recognition as to the image attended with resolution change and double density processing and receives a main scanning/subscanning double density code to generate correction data through logical arithmetic operations.
    解像度変更：倍密を伴う画像はハード回路構成の倍密モード用画素パターン生成部４２２により、ビットマップ展開された２値画像をパターン認識し得たコード情報に加え、主走査・副走査倍密コードを入力として論理演算で補正データを生成する。 - 特許庁
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