「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 59 60 61 62 63 64 65 66 67 .... 73 74 次へ＞- In the optical communication system, a light transmitter 1s of a master station 1 becomes an error measuring mode after starting, transmits a test pattern signal memorized in a mode slave station 3 side by the maximum output, and repeatedly transmits decreasing the transmission output step by step by a predetermined level difference.
親局１の光送信器１ｓは、起動後、エラー測定モードになり、モード子局３側が記憶したテストパターン信号を最大出力から送信し、所定のレベル差で１段ずつ送信出力を下げて繰り返して送信する。 - 特許庁 - A three-dimensional structure M as an original image of the stereoscopic pattern is set by setting a recording surface Sxy on an XY plane of an XYZ three-dimensional coordinate system, a projection surface Syz on a YZ plane, and a reference axis R on a Z axis.
ＸＹＺ三次元座標系におけるＸＹ平面上に記録面Ｓｘｙ、ＹＺ平面上に投影面Ｓｙｚ、Ｚ軸上に基準軸Ｒを設定し、立体模様の原画像となる三次元構造体Ｍを設定する。 - 特許庁 - This allows the light transmittance of the image element having a wiring pattern manufactured in Copper Damascene Process to be improved and the system to prevent the dispersion and irregular reflection of the light incident on the light receiving element, thereby enables the improvement of the light transmittance and the simplification of the manufacturing process.
これにより、銅ダマシン工程で製造された配線パターンを有するイメージ素子の光透過率を向上でき、受光素子に入射される光の散乱と乱反射とを防止して、光感度を向上でき、製造過程を単純化できる。 - 特許庁 - A lighting control system 1 changes a lighting pattern according to a difference between a life of an electric lamp 86 of a lighting apparatus 80 included in a first lighting group and a life of the electric lamp 86 of the lighting apparatus 80 included in a second lighting group.
照明制御システム１は、第１照明グループに含まれる照明器具８０の電灯８６の寿命と、第２照明グループに含まれる照明器具８０の電灯８６の寿命との差に応じて点灯パターンを変更している。 - 特許庁 - This printing system is composed of a host computer and a printer, and a driver 5 in the host computer has a rasterizer 31, a hidden pattern generating part 32a, a color correction processing part 33, a color correction table 34, a halftone processing part 35 and an interlace processing part 36.
本発明の印刷システムは、ホストコンピュータとプリンタで構成され、ホストコンピュータ内のドライバ５は、ラスタライザ３１と、隠しパターン生成部３２ａと、色補正処理部３３と、色補正テーブル３４と、ハーフトーン処理部３５と、インターレース処理部３６とを有する。 - 特許庁 - The antenna system includes antenna parts formed by applying patterning to a conductor pattern to a printed circuit board and dielectric parts laminated on the antenna parts, and the dielectric part is characterized in being laminated with thickness in a direction wherein the directivity is provided thicker than the thickness in other directions.
プリント配線板に導体パターンがパターンニングされたアンテナ部と、アンテナ部に積層された誘電体部とを有し、誘電体部はアンテナ部の指向性を持たせる方向に他の方向より厚く積層されていることを特徴とする。 - 特許庁 - In the exposure system, the pattern of wafer-discrimination information is exposed to a resist layer formed on the wafer 1 for inscribing wafer-discrimination information by utilizing the patterned resist layer to the wafer 1, on which a plurality of the thin-film elements are formed collectively.
露光装置は、複数個の薄膜素子が一括して形成されるウエハ１に対して、パターニングされたレジスト層を利用してウエハ識別情報を記入するために、ウエハ１に形成されたレジスト層に対してウエハ識別情報のパターンを露光する。 - 特許庁 - To prevent the generation of a deterioration of image quality caused by potential variation and the like of a common electrode line and a counter electrode to a hatch pattern wherein bright gradation and dark gradation are repeated with a fixed period when a capacitive coupling driving system is adopted.
容量結合駆動方式を採用した場合に、一定の周期で明階調と暗階調とが繰り返されるハッチパターンに対して、共通電極線や対向電極の電位変動などに起因する画質劣化が発生することを防止する。 - 特許庁 - In the case a user uses caller information sent from a line to make a callback, when edit of the telephone number is required, the telephone system of this invention stores its area code and an edit pattern so that the telephone system can automatically edit the telephone number having the same area code thereby allowing the user to easily make a callback.
ユーザーが回線から送られてくる発呼者情報を使用してコールバックを行う際に、電話番号を編集する必要があった場合には、そのエリアコードと編集パターンを記憶していくことにより、以後同じエリアコードを持つ電話番号は電話装置が自動的に編集できるようにとたもので、これにより、ユーザーは簡単にコールバックできることとなる。 - 特許庁 - Concerning the speech communication system constituted so as to enable a speech with a base unit 1 by calling signals from hand sets 2 and 3, this system is provided with a voice recognizing part 12 for making the base unit 1 recognize the pattern of speech contents and a display part 13 for displaying the speech contents as character information based on voice information recognized by this voice recognizing part 12.
子機２，３からの呼び出し信号によって親機１との通話が可能に構成された通話システムにおいて、親機１に通話内容をパターン認識する音声認識部１２と、この音声認識部１２によって認識された音声情報に基づいて通話内容を文字情報として表示する表示部１３とを設ける。 - 特許庁 - Further, an interference fringe forming optical system 70 projecting a prescribed interference fringe pattern onto the inspected surface 80 is disposed on an optical path between a light source 20 and a branching optical element 3 in order to prevent unnecessary light from being reflected from a partial area of the inspected surface 80 and entering an imaging system 4 when the measurement light is applied to the inspected surface 80.
また、被検面８０に測定光が照射されたときに被検面８０の一部領域から反射されて撮像系４に入射する不要光の発生を防止するために、所定の干渉縞パターンを被検面８０に投影する干渉縞形成光学系７０を、光源部２０と分岐光学素子３との間の光路上に配置する。 - 特許庁 - The immersion lithography apparatus includes: a working stage arranged to retain a workpiece; a projection system for projecting an image pattern; a fluid-supplying unit for providing an immersion liquid into a gap defined between an optical element of the projection system and the workpiece during an immersion lithography process; and a cleaning device to clean the optical element during a cleaning process.
液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁 - Thereby, damping operation in which recording quality is preferred can be achieved, while a processing system is not largely changed from the conventional system, and increment of device manufacturing cost can be suppressed, by performing that setting instruction of recording speed of preferential recording quality for a drive side from a host side is performed depending on existence of the prescribed data pattern in the speed instruction information.
これにより記録品質を優先したダビング動作を実現できると共に、ホスト側からドライブ側への記録品質優先の記録速度の設定指示を上記速度指示情報における上記所定データパターンの有無により行うようにしたことで、処理体系を従来から大幅に変更せずに済むものとでき、装置製造コスト増加を抑制できる。 - 特許庁 - The immersion lithography apparatus incorporates a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit for supplying an immersion liquid into a gap defined between an optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.
液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁 - A terminal capable of having communications via a network receives an ADF storing the attribute information of data, and whether the ADF is an allowed transition pattern or not is determined based on a communication system (normal/SSL) used when receiving the ADF and a communication system used when receiving Jar storing the substance of the data (step S10).
ネットワークを介して通信可能な端末では、データの属性情報を格納したＡＤＦが受信され、このＡＤＦの受信時に使用された通信方式（通常／ＳＳＬ）と上記データの実体を格納したＪａｒの受信時に使用される通信方式とに基づいて、許容された遷移パターンであるか否かが判定される（ステップＳ１０）。 - 特許庁 - In the case where a continuous signal in conjunction with a contact change is connected as a contact signal from an external system, when performing pattern control in accordance with the contact signal from the external system, a control command is outputted for shifting a load to be controlled into a predetermined control state in accordance with rising of the contact signal or falling of the contact signal.
外部システムからの接点信号として、接点変化と連動する連続信号が接続されるケースでは、外部システムからの接点信号に応じてパターン制御を行う場合、接点信号の立ち上がりまたは接点信号の立ち下がりに対応して、制御対象負荷を所定の制御状態へと移行させる制御指令を出力する。 - 特許庁 - A main pattern of a photomask having a focus monitor mark capable of controlling a focus position can be subjected to a transfer simulation giving a just-focus and accurate contrast of transmitted light intensity, only by setting a focus controlling system 80 on a measurement stage of a lithographic simulation microscope, the system capable of giving a just-focus and accurate contrast of transmitted light intensity.
リソグラフィシュミレーション顕微鏡の測定ステージに、ジャストフォーカスで正確な透過光強度のコントラストが得られるフォーカス制御システム８０をセットするだけで、フォーカス位置が制御可能なフォーカスモニターマークが配置されたフォトマスクのメインパターンをジャストフォーカスで正確な透過光強度のコントラストが得られる転写シュミレーションを行うことができる。 - 特許庁 - To provide a hybrid printer in which an image of a free pattern can be drawn in a short time with high accuracy on a three-dimensional shape, e.g. a nail, by making the most use of the features of ink jet system and pad print system without requiring any troublesome work of a user and without contaminating the periphery of the printer significantly.
インクジェット方式とパッド印刷方式の両方の長所を生かして、爪などの立体形状の上に自由な図柄の画像を短時間に精度良く多色に描くことができ、その際、利用者に煩わしい作業を行わせることなく、かつ、装置周辺を汚すことが比較的少ないハイブリッド印刷装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - In an optical system for forming a rectangular beam spot, an optical system that unifies longitudinal or lateral energy distribution of a rectangular beam spot on an irradiated surface is replaced by an optical element having a curved surface pattern on an injection side face of a laser beam and two reflective faces opposed to each other.
本発明は、長方形状のビームスポットの形成用光学系において、被照射面における長方形状のビームスポットの長辺方向または短辺方向のエネルギー分布を均一化する光学系を、レーザビームの入射側面に曲面形状を有し、かつ向かい合う二つの反射面を有する光学素子に置き換えるものである。 - 特許庁 - The digital pen 1 transmits a digital pen code and triage tag writing information (coordinate information) 81 acquired from a dot pattern on a triage tag 2 to a digital pen system management server 4 via a communication terminal 3, and the digital pen system management server 4 transmits the triage tag writing information and digital pen code in a text data format to a triage tag information server 5.
電子ペン１はトリアージタグ２上のドットパターンから取得した電子ペンコードとトリアージタグ記載情報（座標情報）８１を通信端末３を介して電子ペンシステム管理サーバ４に送信し、電子ペンシステム管理サーバ４によりテキストデータ化したトリアージタグ記載情報と電子ペンコードをトリアージタグ情報サーバ５に送信する。 - 特許庁 - A lithographic projection apparatus is provided with a radiation system for supplying a radiation projection beam, a support structure for supporting a patterning means that submits the projection beam to patterning according to a designed pattern, a substrate table for retaining a substrate and a projection system for projecting the beam that has been submitted to patterning to a target part of the substrate.
放射の投影ビームを供給するための放射システムと、設計されたパターンに従って、投影ビームをパターニングする働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、上記基板の目標部分にパターニングされたビームを投影するための投影システムとを備えるリソグラフィ投影装置。 - 特許庁 - The system comprises laser light 44 for obtaining diffraction images, an optical diffractor array 23 to be supplied with hologram data, a screen 26 having a photorefractive member 25 for projecting hologram images, reference light 46 to be made incident on the hologram pattern on the photorefractive member 25, and a means 22 for supplying the hologram data and an optical system control signal.
回折像を得るためのレーザ光４４と、ホログラムデータが供給される光回折器アレイ２３と、ホログラム像を映し出すためのフォトリフラクティブ部材２５を有したスクリーン２６と、フォトリフラクティブ部材２５上のホログラムパターンに入射する参照光４６と、ホログラムデータ及び光学系制御信号を供給する手段２２とから成る。 - 特許庁 - The lithographic unit includes an illuminating system that controls a radiation beam, a patterning support that retains a patterning device for patternizing the radiation beam, a substrate support that retains a substrate, a projection system that projects the radiation beam with a pattern, an additional support, and a flexible line assembly that transmits at least any one of current, signal, and fluid.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームをパターン化するパターニングデバイスを保持するパターニングサポートと、基板を保持する基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板に投影する投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達する可撓性の線アセンブリとを含む。 - 特許庁 - A user U generates a hash value h1=h(PID/TLP) with a hash function (h) from PID/TLP, for which information PID for identifying an individual and a bedding pattern TLP are linked at a user system, and requests the registration to a shop system 13 while pairing TLP and h1.
ユーザＵはその識別子ＰＩＤと賭けパターンＴＬＰとの連結に対するハッシュ値ｈ１＝ｈ（ＰＩＤ‖ＴＬＰ）を求め、ｈ１とＴＬＰとお金を販売店Ｓへ送り、Ｓよりその識別子ＳＩＤを受領し、Ｓはｈ１，ＴＬＰの登録を掲示板ＢＢＳに対し行う、ＢＢＳはＴＬＰ，ｈ１，ＳＩＤを対としてデータベースで管理する。 - 特許庁 - The lithographic equipment has a radiation system for providing a projection beam of radiation, a support structure for supporting the patterning means that patterns the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, a projection system for projecting the patterned beam onto a target area on the substrate, and an interferometer system to help positioning an object in the equipment, wherein the interferometer system performs position measurement.
リソグラフィ投影装置であって、放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、装置内での対象物の位置決めを助ける干渉計システムとを備えていて、干渉計システムが位置測定を行うように配置されているリソグラフィ投影装置。 - 特許庁 - This teaching method of the automatic optical inspection system for performing continuous optical inspection of a printed circuit board unit having the same pattern has characteristics wherein master data to the printed circuit board unit are prepared, and the master data are divided into a plurality of fine part inspection domains and registered, and reference data for discriminating each pattern component in the plurality of divided fine part inspection domains are registered.
同一なパターンのプリント回路基板ユニットを連続的に光学検査する自動光学検査システムのティーチング方法において、プリント回路基板ユニットに対するマスタデータを準備し、マスタデータを複数の細部検査領域に分割して登録し、分割された複数の細部検査領域のパターン成分を判別する基準データを登録することを特徴とする自動光学検査システムのティーチング方法。 - 特許庁 - To provide a developing device and an exposing/developing method for facilitating pattern formation with high resolution, improving mass-productivity and providing a product of high quality by exposure using a proximity exposure system in the exposing/developing steps of a method for manufacturing a color filter for processing a photosensitive resin composition applied on a substrate into a black matrix or a colored pattern.
本発明は、基板上に塗布された感光性樹脂組成物をブラックマトリクス、若しくは着色パタ−ンとして形成するカラ−フィルタ製造方法の露光・現像工程において、プロキシミティ露光方式を用いた露光で、高解像度のパターン形成を可能にし、量産性を向上させ、かつ、高品質の製品を提供するための現像装置及び露光・現像方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The light distribution control system 100 includes: the vehicle headlight 210 capable of forming a plurality of light distribution patterns; and a vehicle control unit 302 and an irradiation control unit 228 for controlling the vehicle headlight so as to detect the preceding vehicle present on a front side of one's own vehicle, select one light distribution pattern from the plurality of light distribution patterns based on the result of detection and irradiate the selected light distribution pattern.
配光制御システム１００は、複数の配光パターンを形成可能な車両用前照灯２１０と、自車の前方に存在する前走車を検出し、該検出の結果に基づいて複数の配光パターンのうちから一つの配光パターンを選択し、選択した配光パターンを照射するよう車両用前照灯を制御する車両制御部３０２および照射制御部２２８とを備える。 - 特許庁 - The unbacked transport and condition regulating system for printing a pattern on a fabric (114) is provided with a winding subsystem (110) that rotates a roll (112) of the fabric, a fabric characterization and tension control subsystem (130a, 130b) for collecting variations in the behavior of the fabric, and printing subsystem (250) configured for depositing ink in a pattern on the fabric.
布地（１１４）にパターンを印刷するための裏紙なし搬送及び状態調節システムにおいて、前記布地のロール（１１２）を回転させるための少なくとも１つの巻きサブシステム（１１０）と、前記布地における変動に関する情報を取得するための布地特性決定及び張力制御サブシステム（１３０ａ、１３０ｂ）と、前記布地にインクを付着させるように構成された印刷サブシステム（２５０）とを備える。 - 特許庁 - This analysis system is provided with a transformation and extraction part 11 for obtaining a feature amount by wavelet-transforming electrocardiogram waveform data and extracting a maximum value or a minimum value from the feature amount and a pattern analysis part 12 for extracting the target waveform included in the electrocardiogram waveform by pattern-analyzing the maximum value or the minimum value extracted in the transformation and extraction part 11.
本解析システムは、心電図波形データをウェーブレット変換して特徴量を求め、この特徴量から極大値または極小値を抽出する変換抽出部１１と、この変換抽出部１１にて抽出された極大値または極小値をパターン分析することにより、心電図波形に含まれる目的波形を抽出するパターン分析部１２とを備えて構成されている。 - 特許庁 - To provide a method of forming a pattern of a semiconductor device in which a smaller photomask pattern stage can be achieved by performing an etching stage for photomask patterns using photosensitive film patterns as an etch-stop layer after forming the photosensitive film patterns between the photomask patterns by using a self-alignment system using negative photoresist and then performing a heat treatment stage for expanding the photoresist film patterns.
本発明は、ネガ型フォトレジスト(Negative Type Photo Resist)を用いた自己整列方式を利用してフォトマスクパターンの間に感光膜パターンを形成し、感光膜パターンを拡大するための熱処理工程を行った後、感光膜パターンをエッチング防止膜として用いてフォトマスクパターンに対してエッチング工程を行うことにより、さらに微細なフォトマスクパターン工程が可能な半導体素子のパターン形成方法を提供するものである。 - 特許庁 - The system comprises a tester 14 for supplying a test pattern signal for analysis to the semiconductor integrated circuit device and at the same time holding the supply test pattern at given timing, an electron gun 15 for applying electron beams to the semiconductor integrated circuit device which being related to the hold, and a detector for taking in the potential contrast of the semiconductor integrated circuit device that is illuminated with the electron beams.
このシステムは、前記半導体集積回路装置へ、解析のためのテストパターン信号を供給するとともに、前記供給テストパターン信号を所与のタイミングでホールドするテスタ１４と、前記ホールドに関連付けて、前記半導体集積回路装置に電子ビームを照射する電子銃１５と、前記電子ビームの照射された前記半導体集積回路装置の電位コントラストを取り込む検出器２３と、を具備する。 - 特許庁 - The system stores a model pattern introduced by analyzing the requirement specifications according to the predetermined method (step S11), generates program modules specifying the respective functions following the user instructions (step S12, S13), converts the generated program modules and the functions specified for them into the information that conforms with the model pattern (step S14), and generates software codes based on the information converted.
所定の手法に従って要求仕様を分析して導かれるモデルパターンを記憶し（ステップＳ１１）、ユーザの指示により、プログラム構成要素を生成し、その機能を指定し（ステップＳ１２、Ｓ１３）、生成されたプログラム構成要素と、これに対して指示された機能とを、前記モデルパターンに則った情報へ変換し（ステップＳ１４）、変換された情報に基づいてソフトウエアコードを生成する（ステップＳ１６）。 - 特許庁 - To provide a document data management system capable of unitarily managing documents of respectively different constitution patterns by a data base of one structure, and even when necessity for managing a new constitution pattern is generated, capable of managing data without requiring changes in the data base structure or a program.
異なる構成パターンの文書を１つの構造のデータベースで一元管理することが可能であると共に、新たな構成パターンを管理する必要が生じた場合にも、データベース構造やプログラムの変更の必要がない文書データ管理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method and a system for fabricating a semiconductor device in which scattering of particles to an etching object can be suppressed when an insulating film and an antireflection film on a metal film are etched in the same reaction chamber and generation of pattern defect can be suppressed.
金属膜上の絶縁膜と反射防止膜とを同一の反応室内でエッチングする際におけるエッチング対象物へのパーティクルの散布を抑制でき、パターン欠陥の発生を抑制し得る半導体装置の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁 - To deposit a stable amount of polishing particles on an auxiliary electrifying means 6 at any time, irrespective of a printed image pattern, regarding a cleanerless system image forming apparatus wherein the polishing particles are deposited on the auxiliary charging means 6 so as to polish an image carrier 2.
クリーナレスシステムであり、帯電補助手段６に研磨粒子を付着させて像担持体２の研磨を行なわせる画像形成装置において、印字された画像パターンによらず、常に安定した量の研磨粒子を帯電補助手段６に付着させる。 - 特許庁 - The electron beam lithographic system comprises a forming controller for controlling the relative position between an electron beam and a forming throttle, in response to individual patterns, when the beam emitted from an electron gun is formed into a desired shape by the throttle, and emitted to a sample to draw the pattern on the sample.
電子銃で放射された電子線を成形絞りで所望の形状に成形し試料へ照射して該試料にパターンを描画する場合に、個々のパターンに応じて電子線と成形絞りとの相対位置を制御する成形制御装置を備える。 - 特許庁 - When a substrate is exposed by an image of a pattern being projected onto the substrate through a projection optical system and a liquid, a liquid immersion condition optimal for a film member to be formed on a liquid contact surface of the substrate is selected from among liquid immersion conditions stored in a storage device.
投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、記憶装置に記憶された液浸条件の中から基板上の液体接触面に形成される膜部材に最適なものを選択する。 - 特許庁 - To obtain a recording system for recording a desired user document and an advertisement of a sponsor on the same recording medium in which waste of the recording medium is minimized when a test pattern for detecting poor recording quality is outputted.
ユーザが印刷を所望するユーザドキュメントとスポンサーによる広告とを同一の記録媒体に記録する記録システムにおいて、記録の品質不良を検出する為のテストパターン出力に対し、記録媒体の浪費を極力抑えることが可能な記録システムを提供する。 - 特許庁 - To produce qualitatively reliable artificial marble by ensuring necessary molded article strength even in a system wherein many members expressing a pattern are compounded without bonding a reinforcing plate such as plywood to the rear surface of a molded article of artificial marble.
人造大理石の成形品の裏面に合板などの補強板を貼り付けることなく、また柄を表現する部材が多く配合される系においても、必要な成形品強度を確保して品質的に信頼性のある人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure method capable of performing projection exposure with fidelity and high accuracy by satisfactorily suppressing variations of the line width of a pattern formed on a photosensitive substrate, for example, even if aberration of a projection optical system using an EUV light is not sufficiently suppressed.
たとえばＥＵＶ光を用いる投影光学系の収差が十分に抑えられていなくても、感光性基板上に形成されるパターンの線幅のばらつきを良好に抑えて、忠実で高精度な投影露光を行うことのできる露光方法。 - 特許庁 - The present invention provides a color tone inspection method for inspecting a color tone of a surface by an image processor 4 using a spectroscopic camera 1 for detecting a spectroscopic spectral value in each point in the surface of the inspection object having the pattern of plural colors, and a system therefor.
複数色の図柄を有する検査対象物の表面各点における分光スペクトル値を検出する分光カメラ１を用いて、画像処理装置４が、上記表面の色調検査をするための色調検査方法およびそのシステムを提供する。 - 特許庁 - An optical system 1 is provided with a light source 2, a pattern formation means 3 arranged on an optical axis of the light source, for forming slit light by the light from the optical source, and a floodlighting lens 4 for condensing the slit light toward a measuring object.
光源２と、光源の光軸上に配置され、上記光源からの光によりスリット光を形成するためのパターン形成手段３と、スリット光を測定対象物に対して集光するための投光レンズ４とを備える光学系１を設ける。 - 特許庁 - In this recording system, a test pattern to be used in the process to correct the color drift is constituted of a plurality of pieces of patch data showing the varying printing ratio of coloring materials maintained to a small size and each piece of the patch data is recorded so that it is arranged so as to allow the continuous variation of color casts.
色ずれを補正する処理に用いられるテストパターンを、小さいサイズで保持された色材の印字比率が異なる複数のパッチデータによって構成されるものとし、各パッチデータが連続的に色味が変動するように配置するよう記録する。 - 特許庁 - A transparent flexible resin layer 12 is formed on the surface of the base material 11 having a surface pattern and transparent ink is ejected and applied to the surface of the flexible resin layer 12 by an ink jet coating system to form a hard protective layer 13.
表面模様を有した基材１１の表面に透明の柔軟樹脂層１２が形成され、その柔軟樹脂層１２の上に、インクジェット塗装方式によって透明のインクを噴出塗布して、硬質保護層１３を形成したことを特徴とする。 - 特許庁 - In the case of processing a single channel audio signal (10) to obtain a plurality of audio channel signals, this audio signal processing system separates the single channel audio signal into a 1st separation signal (18) and a 2nd separation signal (14) that are roughly characterized in a sound spectral pattern.
単一チャネル・オーディオ信号（１０）を処理することによって、複数のオーディオ・チャネル信号を得る際、単一チャネル・オーディオ信号を、概して音声スペクトルパターンで特徴付けられる第１の分離信号（１８）、および第２分離信号（１４）に分離する。 - 特許庁 - To provide a laser marking system capable of marking every marking pattern set up and inputted by a user (particularly, new font characters and original fonts) on a work, and capable of eliminating the change of a software to the new character fonts.
本発明の目的は、ユーザによって設定入力されたあらゆるマーキングパターン（特に、新規なフォント文字やオリジナルフォント）をワークにマーキングすることが可能であり、新規な文字フォントに対してソフトウェアの変更を不要にできるレーザマーキング装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a processing system capable of rationalizing reception work of an application sent by mail by generating a special and unique dot pattern for an electronic pen when inputting prescribed contents and printing them on a paper medium, in the application by an electronic form.
電子フォームによる申込書に関し、所定の内容を入力して紙媒体に印刷する際に、特殊でユニークな電子ペン用のドットパターンを発生させることで、郵送される申込書の受付作業を合理化することができる処理システムを提供する。 - 特許庁 - The program of the deciphering system specification information 1231 uses a header detecting function for detecting a specific bit pattern in the contents, a frame length detecting a function for detecting frame length in the contents, and a deciphering process function for performing deciphering with the specified algorithm.
なお、暗号方式特定情報１２３１のプログラムには、コンテンツ中から特定ビットパターンを検出するヘッダ検出関数や、コンテンツ中からフレーム長を得るフレーム長検出関数や、指定されたアルゴリズムで復号を行う復号処理関数が用いられる。 - 特許庁 - To provide a system such that when a shape of a shot during exposure is distorted as a circuit pattern becomes finer, a decrease in throughput during wafer inspection with an electron microscope and a decrease in automation rate are recognized, and a position correcting operation for the shot distortion is carried out.
回路パターンの微細化に伴い、露光の際のショットの形状の歪みがある場合には、電子顕微鏡によるウェーハ検査時のスループットの低下や自動化率の低下が認められ、ショット歪みに対する位置補正動作を実行する方式を提供する。 - 特許庁
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