「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 63 64 65 66 67 68 69 70 71 .... 73 74 次へ＞- In a method, in which the image of a photomask pattern provided on a photomask is projected and exposed upon and on a surface to be exposed by irradiating the photomask with light from an exposure light source by means of a projection optical system, the image is projected and exposed upon the surface to be exposed by scanning the photomask, while the photomask is housed in a hermetically sealable enclosure.
露光光源からの光でフォトマスク上のフォトマスクパターンを照射して、フォトマスクパターンの像を、投影光学系により被露光面に投影露光する方法において、前記フォトマスクを、密閉可能な筐体に収装し、前記筐体内部において走査させ、投影露光する。 - 特許庁 - The power consumption of the entire electric facility in the building is detected by the power detection means 25, and the operation pattern control means 26 limits the traveling speed and the acceleration/deceleration of the car 1 so that the power consumption is not negative, in other words, any reverse power flow to the power system does not occur.
そして、電力検出手段２５によって建物内の電気設備全体の消費電力量を検出し、消費電力がマイナス、即ち、電力系統への逆潮流が発生しないように、運転パターン制御手段２６が、かご１の走行速度および加減速度を制限する。 - 特許庁 - To provide a VDT(video display terminal) harm alleviating device/ method capable of reducing a VDT harm due to a regular space pattern and a VDT harm due to the flicker caused by an interlace system and a device/ method for quantifying danger of a VDT harm and a recording medium.
規則的空間パタンによるＶＤＴ障害やインターレース方式に起因したフリッカーによるＶＤＴ障害を緩和することができるＶＤＴ障害緩和装置／方法、およびＶＤＴ障害危険性定量化装置／方法、ならびに記録媒体を提供すること。 - 特許庁 - The apparatus includes a light source 4 for irradiating the surface of a steel plate with light at a wavelength of 10.6 μm or longer and a detecting system for detecting minute defects in accordance with a light-dark pattern obtained by focusing and diffusion of light reflected by minute irregular flaws with irregularities on the surface of the steel plate.
鋼板表面に波長が１０．６μm以上の光を照射する光源４と、前記鋼板表面の微小凹凸疵で反射された光の集束及び発散によって得られる明暗パターンに基づいて微小欠陥を検出する検出系とを有する。 - 特許庁 - A main control system 24 finds out the appropriate movement speed of the pattern of a reticle R to be transferred to a shot area on a wafer W according to the synchronous movement direction SD of each of shot areas that is set on the wafer W, and it outputs the result to driving control units 35 and 41 and sets it.
主制御系２４は、ウェハＷに設定された各ショット領域の同期移動方向ＳＤにおける大きさに応じてレチクルＲのパターンをウェハＷ上のショット領域に転写する際の最適な移動速度を求め、駆動制御ユニット３５，４１に出力して設定する。 - 特許庁 - A light exposure is altered within a scope of at least an appropriate light exposure or below, while sequentially transferring a measuring pattern disposed on a reticle R to a wafer W disposed on an image plane side of a projection optical system PL to form a first region composed of a plurality of block regions on the wafer.
少なくとも適正露光量以下の範囲内で露光量を変更しながら、レチクルＲ上に配置された計測用パターンを投影光学系ＰＬの像面側に配置されたウエハＷに順次転写して複数の区画領域から成る第１領域をウエハ上に形成する。 - 特許庁 - Furthermore, according to a gradual scaling, with which a certain point in a two-dimensional coordinate system is converted into a new point by adding a value proportional to the other coordinate value to the x-coordinate value or to the y-coordinate value, a corrected drawing data, corresponding to the second deformed pattern drawing region 47, are generated.
さらに、２次元の座標系のある点を、そのＸ座標、もしくはＹ座標の座標値に、他方の座標値に比例した値を加えた新たな点に変換するグラデュアル・スケーリングによって、第２変形描画領域４７に対応した補正描画データを生成する。 - 特許庁 - To provide a projection aligner which can improve the positioning precision of a substrate surface by precisely detecting the tilting of a substrate without making an optical system complex, even when a step is formed on the substrate surface and then precisely projects a fine pattern for exposure.
光学系を複雑化することなく基板表面に段差が形成されていても基板の傾きを精度良く検出して基板表面の位置決め精度の向上を図り、その結果、微細なパターンの投影露光を精度良く行うことのできる投影露光装置を提供する。 - 特許庁 - To estimate the amount of frequency offset precisely even if the number of repetition fixed patterns in a preamble section is small and CNR is small, when estimating the amount of frequency offset using the repetition fixed pattern under the multipath fading in the radio propagation line of a radio communication system.
無線通信システムの無線伝搬路のマルチパスフェージング下において繰返し固定パタンを用いて周波数オフセット量の推定を行う際に、プリアンブル区間の繰返し固定パタンの数が少なく、ＣＮＲが小さい場合においても、周波数オフセット量を精度良く推定可能にする。 - 特許庁 - To provide a power storage system which can cope with a long time of power failure by supplying power from a storage battery to indispensable minimum load apparatuses when a commercial power gives out, and also can cope with it, even if the user changes the installation place of the load apparatus due to pattern change or the like of the room.
商用電力が停電した場合、蓄電池からの電力を必要とする最小限の負荷機器に供給し、長時間の停電に対応でき、また、部屋の模様替えなどで負荷機器の設置場所を変更しても対応可能な電力貯蔵システムを提供すること。 - 特許庁 - When this system is used, an authenticating device 3 irradiates the solar battery 1 with light beams, and receives the lights returned after transmitted through the solar battery 1, and derives the light absorption wavelength pattern of the solar battery 1 from the strength of the irradiated light beams and the reflected light beams, and transmits it to a power company 4 or the like.
利用時、認証装置３は、太陽電池１に光を照射し、太陽電池１を透過して戻ってきた光を受光して、照射光と反射光の強度から太陽電池１の光吸収波長パターンを導出し、電力会社４等へ送信する。 - 特許庁 - To provide a novel device and a new method for optical recording, and a new device and a new method for optical recording/reproducing, which record/reproduce a hologram by using a reference light having its phase modulated according to the display position of a reference light pattern in a spatial optical modulator in a colinear system.
コリニア方式において、空間光変調器における参照光パターンの表示位置に応じて位相が変調された参照光を利用してホログラムの記録や再生を行う、新規な光記録装置、光記録方法、光記録再生装置、及び光記録再生方法を提供する。 - 特許庁 - Moreover, the system controller 160 displays characters or a pattern indicating the reception state on the display section, by interrupting the display of the video image, when a vehicle is in driving state, on the basis of a drive detection signal supplied from a drive detector 190 for detecting the driving state of the vehicle.
更に、システムコントローラ１６０は、車両の走行状況を検出する走行検出器１９０から供給される走行検出信号に基づいて該車両が走行状態にあるときには映像の表示を断ち受信状況を表す文字乃至パターンを表示部に表示する。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for forming an image capable of deforming the image in a predetermined range while holding a rough profile shape so as not to largely collapse a previously prepared pattern to deform the image by a reaction diffusion system by using a computer.
コンピュータを用いて反応拡散系による画像変形を行うにあたり、あらかじめ用意した模様が大きく崩れないように大まかな輪郭形状を保ったまま、所定の範囲で画像変形を行うことが可能な画像作成方法および装置を提供する。 - 特許庁 - The system has a capturing mechanism 15 capturing a droplet L discharged from the discharging head 1, a positioning mechanism positioning the captured droplet L at a specified position on the substrate and a removing mechanism removing at least a part of the pattern drawn on the substrate with the positioned droplet L.
吐出ヘッド１から吐出された液滴Ｌを捕捉する捕捉手段１５と、捕捉した液滴Ｌを基板上の所定位置に位置決めする位置決め手段と、位置決めされた液滴Ｌにより基板上に描画されたパターンの少なくとも一部を除去する除去手段とを１５とを備える。 - 特許庁 - Further, a computer system includes a processor, a data storing device coupled to the processor, a computer executable code for specifying the movement patterns of teeth using the two-dimensional array; and a computer executable code for generating the treatment path for moving the teeth according to a specified pattern.
さらに、プロセッサと、プロセッサに結合されたデータ格納デバイスと、２次元アレイを用いて歯の移動パターンを特定するコンピュータ実行可能コードと、特定されたパターンに従って歯を移動させるための処置経路を生成するコンピュータ実行可能コードとを備える、コンピュータシステムが提供される。 - 特許庁 - A battery control method for a hybrid car employs a traveling pattern by which the range of the residual capacity is changed to charge and discharge a battery 1 for supplying electric power to the motor 2 driving the hybrid car on the basis of the map information and travel position information obtained from a navigation system 7.
ハイブリッドカーのバッテリ制御方法は、地図情報と、ナビゲーションシステム７から得られる走行位置情報に基づいて、ハイブリッドカーを駆動するモーター２に電力を供給するバッテリ１の充放電を許容する残容量範囲を変更する走行パターンとしている。 - 特許庁 - To provide a tire slip ratio measuring system for a construction vehicle allowing the most advantageous tire type to be selected from a plurality of tire types having the same TKPH based on quantitative prediction in a tire abrasion life, and to provide a tire tread pattern selection method for a construction vehicle using this.
同じＴＫＰＨを有する複数のタイヤ種の中から、タイヤ摩耗ライフにおいて、最も有利なタイヤ種を定量的な予測に基づいて選択することを可能にする建設車両用タイヤスリップ率測定システム、および、これを用いた建設車両用タイヤトレッドパターン選定方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a technique of replacing the space approximately closed by an original plate and a pellicle film with inert gas with an exposure device for replacing the interior of the device with the inert gas and irradiating a photosensitive substrate with the pattern of the plate across a projection optical system using UV light as exposure light.
露光光として紫外光を用い、装置内を不活性ガスで置換し、原版のパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、原版とペリクル膜で略閉じられた空間を不活性ガスで有効に置換する技術を提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure method, and exposure apparatus, a method of manufacturing a device, and a device, where a pattern having a line width larger than resolution limit is transferred in desired contrast to secure desired resolution when a projection optical system clearing in midsection and a phase shift mask are used.
本発明は、中抜けのある投影光学系と位相シフトマスクを使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁 - Therefore, the system automatically recognizes the shape of a pattern 33a after the OPC process by recognizing the coordinates of each vertex and sets candidates [1] to [5] for a dimension measurement window which is a candidate for a region where the dimension measurement is done, in a space between coordinates of vertexes.
そこで、システムが自動で、ＯＰＣ処理後のパターン３３ａに対して、例えば、頂点座標を認識するなどでパターン３３ａの形状を認識し、各頂点座標の合間の空間に寸法測定を行う領域の候補となる寸法測定ウインドウの候補［１］〜［５］を設定する。 - 特許庁 - The vehicle operation supporting system 1 comprises a beam irradiation device 5 for irradiating the road surface with a visible light beam B in a predetermined pattern, and an optical filter 13 for transmitting reflected light of the visible light beam B reflected from the road surface to the vehicle at a predetermined transmittance characteristic.
車両運転支援システム１は、道路路面上に所定のパターンで可視光ビームＢを照射するビーム照射装置５と、道路路面から車両に対して反射してくる可視光ビームＢの反射光を所定の透過率特性で透過させる光学フィルタ１３と、を備えている。 - 特許庁 - A pattern inspection system 1A generates a difference image U between an image to be inspected S and a reference image R and converts the pixel value of each pixel in the difference image U into an error probability value Er using a standard deviation σ concerning to the pixel value of the difference image U.
パターン検査装置１Ａは、被検査画像Ｓと参照画像Ｒとの間の差分画像Ｕを生成し、当該差分画像Ｕの画素値に関する標準偏差σを用いて当該差分画像Ｕにおける各画素の画素値をエラー確率値Ｅｒに変換する。 - 特許庁 - To provide an exposure system capable of effectively cooling an optical material without vibration, a detrerioration in positional stability, response to a positional control, or the like to decrease a failure rate of the wafer by precisely exposure transcribing a circuit pattern, which manufactures a high performance device.
光学部材を、振動・位置安定性・位置制御の応答性の悪化等を伴わずに効果的に冷却することができ、その結果、高精度に回路パターンを露光転写することができてウエハの不良率を低減し、また高性能のデバイスを作成することができる露光装置を提供すること。 - 特許庁 - In this measuring system, a control generalizing device 5 for controlling generally respective in-line measuring instruments 3a, 3b introduces image informations for a work required for recognition of the work from the measuring instruments 3a, 3b, to generate individual informations (work pattern, position, important dimension and the like) of the work based on the image informations.
各インライン測定機３ａ，３ｂを統括的に制御する制御統括装置５が、インライン測定機３ａ，３ｂからワークの認識に必要なワークの画像情報を導入し、この画像情報に基づいてワークの個別情報（ワークパターン、位置、主要寸法等）を生成する。 - 特許庁 - In the plate making method for the photosensitive planographic printing plate, a photosensitive planographic printing plate material, having a radiation-sensitive photosensitive layer on the base is heated up to 80 to 150°C by using an electromagnetic induction heating system, during development processing, after the photosensitive planographic printing plate material has been exposed to an image pattern.
支持体上に放射線感応性の感光層を有する感光性平版印刷版材料を画像様に露光した後、現像処理する間に、電磁誘導加熱方式を用いて８０〜１５０℃に加熱することを特徴とする感光性平版印刷版の製版方法。 - 特許庁 - To provide a data transmission system that adds a flag (bit pattern) denoting a start and an end of transmission data being data of optional bit streams to the transmission data, assembles the data into frames, transmits the frames and facilitates inserted bit retrieval processing by a receiver.
任意のビット列のデータを伝送データとし、この伝送データの開始と終了とを示すフラグ（ビットパターン）を上記伝送データに付加し、フレーム化して伝送する方式において、受信装置における挿入ビット検索処理が容易となるデータ伝送方式を提供することを目的とするものである。 - 特許庁 - The system is constructed in such a manner as to be provided with a phased array antenna 5 capable of forming a desired radiation pattern to receive the broadcasting from a satellite 4 which is located in the direction with the fewest rainfall attenuation among satellites 1, 2, 3 and 4 on different orbits and each having the same service area.
所望の放射パターンが形成可能なフェーズドアレーアンテナ５を具えて、別軌道上にあり同一サービスエリアを有する複数の衛星１，２，３，４のうち、降雨減衰が最も少なくなる方向に位置する衛星４からの電波を受信するように構成した。 - 特許庁 - To provide a printing method having an inspecting and modifying technique which does not require a high-level defect discrimination system, can easily correct a high-precision defect and hardly causes the loss of a substrate to be printed when forming a defect-free image pattern on the substrate to be printed by using a printing process.
印刷法を用いて被印刷基板に欠陥のない画像パターンを形成するに当たり、高度な欠陥識別システムが不要で、容易に高精度な欠陥修正が可能で、被印刷基板のロスが少ない検査・修正技術を備える印刷方法を提供する。 - 特許庁 - In the optical path of the lighting optical system, the illuminating light projected upon the mask 27 is transformed to at least two luminous fluxes, which are inclined by the angles which vary depending upon the fineness of the pattern by means of a luminous flux transforming member 12 provided at a position, which is nearly conjugate to the mask 27 or its vicinity.
そして、照明光学系の光路中で、マスクと略共役な位置またはその近傍に設けられる光束変換部材１２によって、マスクに照射する照明光を、パターンの微細度に応じて決まる角度だけ傾いた少なくとも２つの光束に変換する。 - 特許庁 - This grating scale measurement system is composed of a telephoto lens (250) which is arranged so as to form an image of a grating (120), and is composed of a plurality of aspheric lenses (252, 254), and detectors (180) arranged so as to measure the movement of the intensity distribution pattern (175) in the image plane of the telephoto lens.
本願発明の格子スケール計測システムは、格子（120）の像を形成するように配置され、複数の非球面レンズ（252、254）からなる望遠レンズ（250）と、望遠レンズの像平面における強度分布（175）の移動を計測するように配置されている検出器（180）からなることを特徴とする。 - 特許庁 - When in the process of arranging a via 4, a clearance 5 around the via 4 is divided into a clearance region continued by a predetermined number (6), the via 4 is arranged so that a power supply system pattern 6 of the width for one pitch is arranged continuously between the adjacent clearance regions.
ビア４を配置する工程の際に、ビア４の周囲のクリアランス５を予め決められた個数（６個）で連続させたクリアランス領域に区分し、隣り合うクリアランス領域間に１ピッチ分の幅の電源系パターン６が連続して配置されるようにビア４を配置する。 - 特許庁 - When the pattern variation game is executed by employing the variation contents of the special variation system, the stage performance is started from a notice image having at least the number of stages equal to/larger than the number of stages set for a notice image finally displayed in the last variation cycle on second and after variation cycles.
図柄変動ゲームが特殊変動系の変動内容で実行される場合、２回目以降の変動サイクルでは、少なくとも、直前の変動サイクルで最終的に表示された予告画像に設定された段階数以上の予告画像から段階演出を開始させるようにした。 - 特許庁 - In a medical image processing system 100, an image processing means 20 not only generates a medical image according to a predetermined gray-scale style but also writes a gray-scale pattern A for identifying the gray-scale style in the medical image data to transmit it to a management server 40.
医用画像処理システム１００では、画像処理手段２０は、医用画像を所定の階調形式に基づいて生成すると共に、当該医用画像データ内に当該階調形式を判別するためのグレースケールパターンＡを書き込んで管理サーバ４０に送信する。 - 特許庁 - To conduct accurate measurement by correcting a measuring error caused by a value of fine parasitic resistance such as a cable between a measuring instrument and a measured object, a probe and a wire on a test pattern, in a measuring system by a direct current for an electric sample having three or more of terminals.
３つ以上の端子を持つ電気的試料の直流での測定系において、測定器と被測定物の間のケーブル、プローブ、テストパターン上の配線等の微小な寄生抵抗の値による測定誤算を補正することで、より高精度な測定を行うことを目的とする。 - 特許庁 - To provide a droplet discharge device that can discharge droplets at proper and accurate timing and can form (plot) a pattern with discharged droplets, and to provide a droplet discharge system, an electro-optic device, a method for manufacturing the electro-optic device, and electronic equipment.
液滴を適正かつ正確なタイミングで吐出することができ、吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができる液滴吐出装置、液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器を提供すること。 - 特許庁 - There are luminance value alteration sign patterns of a general system 103, and two kinds of concrete A 101 and B 102; and the concrete of the luminance value alteration sign pattern of the information elementary unit insert chip is determined and an image whose luminance value is varied by reference thereto is outputted.
輝度値変更符号パタンは、一般系１０３、具体はＡ１０１、B１０２の２種があり、挿入情報と画像上の位置に応じて、情報基本単位挿入チップの輝度値変更符号パタンの具体を決め、これを参照して画像の輝度値を変更した画像を出力する。 - 特許庁 - This method trains parameters of the voice recognition system which are exactly associated with one implemented transform example of one word from a list, and a training group of the pattern is made available, and the parameters are determined by selective optimization of a target function.
本発明は、リストからの一パターンの一実現変形例にそれぞれが厳密に関連付けられたパターン認識システムのパラメータを訓練する方法であって、パターンの訓練群を使用可能にし、目標関数の選択的最適化を通じて前記パラメータを決定することを特徴とする方法に関する。 - 特許庁 - To provide a technique for accurately carrying out cutting in a neural circuit network cultured on an MEA (multi-electrode array), and to provide a new method for evaluating the regeneration process of the cut neural circuit network by analyzing a pattern (synchronism) of the system as a whole.
本発明の目的は、多点電極上に培養した神経回路網において精度よく切断する手法、および切断した神経回路網の再生過程を系全体のパターン（同期性）を解析することにより評価する新規な方法を提供することである。 - 特許庁 - To obtain a positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power of ≤0.2 μm, giving a photoresist of a rectangular shape and less liable to cause a dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step when the composition is used as the upper layer resist of a two-layer resist system.
高感度であり、０．２μｍ以下の高解像力を有し、矩形形状を有するフォトレジストを与え、しかも二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - In this case, a scanning direction of the mask and the photosensitive substrate is aligned with the projection optical system, and the mask and the photosensitive substrate are moved along the scanning direction in a condition where alignment have been performed, and the pattern image of the mask is scanned and exposed on each exposure area of the photosensitive substrate.
この場合、本発明では、マスクおよび感光性基板の走査方向を投影光学系に対して位置合わせし、位置合わせした状態においてマスクと感光性基板とを走査方向に沿って移動させて、感光性基板の各露光領域にマスクのパターン像を走査露光する。 - 特許庁 - At the time of reproducing each set block of the music data in the order of reproduction and the pattern of reproduction, the CPU 1 transmits the music data read from the ROM 2 and performance data inputted by the performing operation of a keyboard 5 to a sound source part 7, and allows a sound system 8 to utter sounds.
ＣＰＵ１は、曲データの設定された各区間を再生順及び再生パターンで再生する際は、ＲＯＭ２から読み出した曲データと、鍵盤５の演奏操作によって入力された演奏データを音源部７に送出し、サウンドシステム８から発音させる。 - 特許庁 - This frame synchronizing system for performing frame processing of a received data string counts the number (X) of times when a synchronous pattern is not detected at a position at which a frame is assumed within a prescribed period of time T in each prescribed period of time T, and changes the number (M) of stages of front protection.
受信データ列のフレーム処理を行うためのフレーム同期方式であって、所定期間Ｔおきに、その所定期間Ｔ内にフレームの想定される位置に同期パターンが検出されなかった回数（Ｘ）をカウントし、この数に応じて前方保護の段数（Ｍ）を変更する。 - 特許庁 - When an exposure process is carried out, for instance the blur of the energy beam in the X direction is set smaller than that in the Y direction, the wafer is adjusted in position so as to make the direction of the gate line width coincident with the X direction in the exposure system and loaded into the exposure device, and a gate pattern is exposed.
露光にあたり、例えばエネルギービームのぼけ量について、Ｘ方向のぼけ量を小さくＹ方向のぼけ量を大きく設定し、露光装置内でゲート線幅方向とＸ方向が合うようにウェハの向きを調整して搬入し、ゲートパターンを露光する。 - 特許庁 - To provide a data storage system in consideration of the attributes (performance and cost), the operating rate and the data usage frequency of the storage device in a storage area network constituted of a plurality of the storage devices that have different attributes and are used in a business pattern of a storage service provider or the like.
ストレージサービスプロバイダなどのビジネス形態で利用する、複数の異なる属性を有する記憶装置で構成されるストレージエリアネットワークにおいて、記憶装置の属性（性能やコスト）や稼働率およびデータの利用頻度を考慮したデータの保持方式を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a frequency hopping communication device having a frequency diversity function for utilizing the time division multiple access system that avoids consecutive collision of transmission / reception data caused by a radio wave generated by another wireless apparatus using the same hopping pattern to ensure stable communication quality.
時分割多元接続方式を利用した、周波数ダイバーシティ機能を有する周波数ホッピング通信装置において、同じホッピングパターンを使用した他無線機器が発する電波によって生じる連続した送受信データの衝突を回避し、安定した通信品質を確保する。 - 特許庁 - To provide a layout setting device for an eyeglass lens grinding system that improves work efficiency while allowing a user to input without errors by enabling the user to arbitrarily set a cursor display position on an initial display screen and by providing an input order corresponding to a machining pattern.
初期表示画面におけるカーソル表示位置を任意に設定可能とすることで、加工パターンに合わせた入力順序を提供することで、誤り無く入力できかつ作業効率を向上させることを目的とする眼鏡レンズ研削加工装置のレイアウト設定装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a vehicle position retrieving system for overcoming communication delay and communication failure, increasing the speed of a retrieval time and accurately retrieving the position of a vehicle when a vehicle is not provided with a database in which a retrieval table to be used for collation with an array pattern is stored.
配列パターンとの照合に用いられる検索テーブルが記憶されたデータベースを車両側に持たない場合に、通信遅延、通信障害を克服しつつ検索時間のスピードアップを図りつつ車両の位置検索を正確に行うことができる車両位置検索システムを提供する。 - 特許庁 - In a controller and display device for a sample pattern providing system for realizing efficiency of the preparation of designs and application software or the like, vague needs or abstract image of a user can be made concrete in a short time, and any time to be spent on the definition of requirements or special knowledge becomes unnecessary.
デザイン及びアプリケーションソフトなどの作成を効率化するためのサンプルパターン提供システム用制御装置及び表示装置により、ユーザーの漠然としたニーズや抽象的なイメージが短時間で具体化し、要件定義に費やす時間と専門的知識が不要となる。 - 特許庁 - An imaging system includes an image receiving structure including a material layer having a tunable energy transfer characteristic; and an energy source to emit an energy beam at the material having the tunable energy transfer characteristic such that marking material is pattern-wise transferred to the image receiving structure.
調整可能なエネルギー移動特性を有する材料を含む画像受容構造と、画像受容構造の表面にマーキング材料がパターン状に転写されるように、調整可能なエネルギー移動特性を有する材料にエネルギービームを放射するエネルギー源と、を含む画像形成システム。 - 特許庁
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