「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 次へ＞- The image of a mask pattern is formed accurately on a substrate by determining correspondence between a scanning direction regulated on a first coordinate system for controlling movement of first stages 10, 11 holding a mask 12 and a scanning direction regulated on a second coordinate system for controlling movement of a second stage 4 holding a substrate 5 thereby enhancing alignment accuracy of the mask and the substrate at the time of scanning alignment.
マスク（１２）を保持する第１ステージ（１０，１１）の移動を制御するための第１座標系で規定される走査方向と、基板（５）を保持する第２ステージ（４）の移動を制御するための第２座標系で規定される走査方向との対応関係を求めることによって、走査露光時のマスクと基板とのアライメント精度を向上させて、マスクのパターンの像を正確に基板上に形成する。 - 特許庁 - Patterns adjusting the aperture rate are successively arranged at pitches below a resolution limit so as not to resolve the patterns by a projection optical system and further while pattern sizes and pitches are sequentially calculated by successive places by grasping a residual film thickness characteristic of the photosensitive material to an exposure quantity, the patterns are arranged.
開口率を調整するパターンを投影光学系によって解像させないために、解像限界以下のピッチでパターンを連続配置し、また露光量に対する感光性材料の残存膜厚特性を把握して連続した場所毎にパターンサイズとピッチを逐次計算しつつパターンを配置するように構成する。 - 特許庁 - To configure an optical element for correcting an influence from the surface shape of a reticle pattern surface which is a factor incurring the distortion or random distortion remaining in a projection optical system, and to configure a pellicle which reduces deterioration even when a light source of a short wavelength such as ArF or F_2 is used.
ディストーションの発生要因であるレチクルパターン面の面形状の影響あるいは、投影光学系に残存するランダムなディストーションを補正する光学素子を構成可能にするとともに、ＡｒＦ、Ｆ_２といった短波長の光源を使用した場合でも劣化の少ないペリクルを構成することを可能とする。 - 特許庁 - The transmission control device 1 controlling transmission and receiving of signals in a remote control monitoring system displays the display lamp corresponding to the operation switch under the display method designated by a display method setter 105 according to lighting-up conditions of respective lighting devices corresponding to the operation switch for pattern control.
遠隔制御監視システムにおける信号の送受信を管理する伝送制御装置１は、パターン制御用の操作スイッチに対応する各照明装置の点灯状態に応じて、その操作スイッチに対応した表示灯を、表示方式設定部１０５で指定された表示方式に従って表示させる。 - 特許庁 - To provide a power sale support system constituted so that a candidate for new customer to be preferentially acquired is automatically selected from among a plurality of candidates for new customers in order to reduce load fluctuation as much as possible upon considering a power load fluctuation pattern of the whole power supply destination at present.
現時点における電力供給先全体の電力負荷変動パターンを踏まえた上で、負荷変動をできるだけ小さくするために優先的に獲得すべき新規需要家候補を複数の新規需要家候補の中から自動的に選択可能に構成される電力営業支援システムを提供する。 - 特許庁 - The signal transmission system is characterized by including: a detection means for detecting a synchronous pattern included in a downlink signal received from the wireless base station via the transmission cable; and a means for determining a transmission/reception switching timing of the signal transmitted through the transmission/reception shared antenna on the basis of a result of the detection.
本システムは、前記無線基地局から前記伝送ケーブルを介して受信された下り信号に含まれる同期パターンを検出する検出手段と、検出結果に基づいて、前記送受共用アンテナを通じて伝送される信号の送受切替タイミングを決定する手段とを備えることを特徴とする。 - 特許庁 - An image processing means 121 changes a method of processing an image (such as changing the mask pattern used in the edge emphasizing process as the image processing) for a read image obtained by a microfilm scanner 110 based on the information on the optical system (such as about the type or the zoom magnification of a projection lens, etc.), of the microfilm scanner 110.
画像処理手段１２１は、マイクロフィルムスキャナ１１０が有する光学系に関する情報（投影レンズのタイプ又はズーム倍率等）に基づいて、マイクロフィルムスキャナ１１０で得られた読取画像に対する画像処理方法を変更（画像処理としてのエッジ強調処理で使用するマスクパターンの変更等）する。 - 特許庁 - The card system comprises a card 10 with a card base and aluminum foil formed in a predetermined pattern on the surface of the card base; and a card reader 20 having at least one sensor for detecting the aluminum foil of the card 10 and reading card information according to signals outputted from the at least one sensor.
カード基板と、カード基板の表面に所定のパターンで形成されたアルミニウム箔とを有するカード10と、カード10のアルミニウム箔を検出するための、少なくとも一つのセンサを備え、少なくとも一つのセンサからの出力信号に基づいてカードの情報を読み取るカード読取装置20と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁 - When performing an angle measurement processing on an arrival signal by an interferometer system, the angle measurement processing device receives the arrival signal by a plurality of antenna elements for angle measurement in an antenna part, obtains the reception level received by one of the antenna elements and the reception level received in a sum pattern as a synthesized beam, and compares them.
インターフェロメータ方式により到来する信号の測角処理を行う際に、到来する信号を空中線部内の測角用の複数のアンテナ素子で受信し、その中の１つのアンテナ素子で受信した受信レベルと、合成ビームとして和のパターンにより受信した受信レベルとを取得して、これらを比較する。 - 特許庁 - In this state, the substrate 2 and resist 3 are etched together by using an etching system capable of etching the substrate 2 and resist 3 at the same time to transfer the resist pattern in (b) to the substrate 2 as shown in (c), and the substrate 2 has unevenness corresponding to the patterns of the mask 1 and is usable as a diffusion plate.
この状態で、基板２とレジスト３を同時にエッチング可能なエッチング方式を使用し、基板２とレジスト３を同時にエッチングすると、（ｃ）に示すように、（ｂ）のレジストパターンが基板２に転写され、マスク１のパターンに対応した凹凸を有する基板２が得られ、これが拡散板として使用できる。 - 特許庁 - To provide a toner and a liquid developer for electrostatic image development outputting silver color, a recording material such as ink-jet ink and an image forming method, and to reproduce faithfully a complex electric circuit with high resolution of a wiring circuit without causing faulty conduction when the method by an electrophotographic system is applied to formation of a wiring pattern.
銀色を出力することができる静電荷像現像用のトナー、液体現像剤、インクジェットインク等の記録材料及び画像形成方法、それらの電子写真方式による方法を配線パターンは導通不良を起こさず配線回路の解像度が高く複雑な電気回路を忠実に再現する。 - 特許庁 - When the elevation angle of a rhombic detection system is reduced in order to detect much flaw scattered light by reducing the scattered light from wafer surface roughness, surface roughness under an oxide film, and the circuit pattern, the elevation angle α2 becomes lower than α1, but the outer diameter 10b of the lens becomes shorter than the lens outer diameter 10a and the condensing capacity of the scattered light decreases.
ウエハ表面粗さや酸化膜下の面粗さ、回路パターンからの散乱光を低減して、欠陥散乱光を多く検出するために斜方検出系の仰角を下げると仰角α２＜α１となるがレンズの外径１０ｂはレンズ外径１０ａより小となり散乱光の集光能力が低下する。 - 特許庁 - For the method of measuring quantum efficiency of the electroluminescent element and the system used for the same, using the data of brightness L0(j) of the electroluminescent element at the front of the element and the data of spectrum E(l, θ) and radiation pattern I(θ) at the observation angle λ, the quantum efficiency ΦEL is calculated in accordance with the formula (1).
電界発光素子の、素子正面での輝度Ｌ_0 （ｊ）のデータと、観測角θにおけるスペクトルＥ（λ，θ）及び放射パターンＩ（θ）のデータとから、下記式（１）に従い量子効率ΦＥＬを計算する、電界発光素子の量子効率を測定する方法及びそれに用いるシステムである。 - 特許庁 - The system is provided with a centralized monitoring center 2; and a centralized metering device 1 which is connected to the center 2 via a telephone line and to which a plurality of meters (exemplified by a water meter 3) for making a call when a short-circuit or opening of the communication line is detected by a predetermined pattern.
集中検針システムは、集中監視センタ２と、集中監視センタ２に電話回線を介して接続され、且つ予め決められたパターンで通信線の短絡、開放を検知すると発呼を行う通信機能付きメータ（水道メータ３で例示）が通信線によって複数接続された集中検針装置１とを備える。 - 特許庁 - To provide a vapor deposition system and a vapor deposition method by which the contact strength between a substrate and a vapor deposition mask can be increased to improve the precision of a vapor deposition pattern deposited on the substrate even when the size of the substrate and the vapor deposition mask is enlarged, and to provide an electro-optical device and an electronic device.
基板および蒸着マスクが大型化した場合においても、基板と蒸着マスクの密着性を向上させて、基板上に形成する蒸着パターンの精度を向上させることが可能な蒸着装置、蒸着方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The receive signal level of the electric wave transmitted from the radio tag 3 and a reference signal level stored in the radio communication system main unit 13 are compared, and a power feeding pattern to the first to third antenna units 10A, 10B, 11A, 11B, 12A, and 12B is so changed that the receive signal level becomes larger than the reference signal level.
無線タグ３から送信された電波の受信信号レベルと無線通信装置本体１３に記憶されている基準信号レベルとを比較し、受信信号レベルが基準信号レベルより大きくなるように第１〜第３のアンテナ部１０Ａ，１０Ｂと、１１Ａ，１１Ｂと、１２Ａ，１２Ｂへの給電パターンを変える。 - 特許庁 - To obtain a positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power of ≤0.2 μm in the production of a semiconductor device, giving a photoresist of a rectangular shape and less liable to cause a dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step when the composition is used as the upper layer resist of a two- layer resist system.
半導体デバイスの製造において、高感度で0.2μｍ以下の高解像力を有し、かつ矩形形状のフォトレジストを与え、また二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を得る。 - 特許庁 - Among voice recognition candidates concerning a past utterance, the voice recognition device previously stores in a memory 22 a pattern of a voice recognition candidate which is different from a system response produced by a signal processor 14 in response to a correction intent and adopted as a candidate except a first place candidate, while associating with the candidate except the first place candidate.
音声認識装置は、過去の発話についての音声認識候補のうち、訂正意図に応じて、信号処理装置１４によって生成されたシステム応答とは異なる第１位以外の候補が採用された音声認識候補のパターンを、当該第１位以外の候補と関連付けてメモリ２２に記憶しておく。 - 特許庁 - The device production system SYS has an exposure body portion EX which exposes a substrate P to light to transfer a pattern to the substrate P; conveying units H1 and H2 for conveying the substrate P from the exposure body portion EX to a stage portion ST; and a conveying unit H3 for conveying the substrate P from the stage portion ST to a substrate housing apparatus F.
デバイス製造システムＳＹＳは、パターンを基板Ｐに露光する露光本体部ＥＸと、露光本体部ＥＸからステージ部ＳＴまで基板Ｐを搬送する搬送装置Ｈ１，Ｈ２と、ステージ部ＳＴから基板収納装置Ｆまで基板Ｐを搬送する搬送装置Ｈ３とを有している。 - 特許庁 - In this system 10, a first upper limit speed pattern in which speed is gradually reduced from a predetermined speed to a predetermined terminal speed in a section C1 to be controlled whose distance is a distance L1 from a position B1 where the train arrives after a predetermined time elapses from the start of YP signal reception to the target stop position S or less is used.
このシステム１０では、ＹＰ信号受信開始から所定時間経過後に到達する位置Ｂ１から目標停止位置Ｓまでの距離Ｌ１以下の制御対象区間Ｃ１において所定速度から所定の終端速度まで漸減する第一の上限速度パターンが、用いられる。 - 特許庁 - This system is provided with a plurality of antennas 11, 12, 13, 14, 15, 16 having a radiation pattern that takes into account communication in a three-dimensional space and selection means 23, 23a-23g, 24, 25 that select an optimum antenna on the basis of reception strength information obtained from each of a plurality of the antennas 11, 12, 13, 14, 15, 16.
３次元空間における通信を考慮した放射パターンを有する複数個のアンテナ１１，１２，１３，１４，１５，１６と、この複数個のアンテナ１１，１２，１３，１４，１５，１６の各々から得られる受信強度情報により最適なアンテナを選択する選択手段２３，２４，２５とを具備するものである。 - 特許庁 - In this chip inspecting method and the device for inspecting the plurality of chips formed on a surface of a work to be inspected as a fine pattern, one field of view of the observation optical system is divided into a plurality of areas, and predetermined good chips are successively arranged in each area, and image data of the predetermined good chips is incorporated at the position of each area.
被検査物の表面に微細パターンとして形成された複数のチップを検査するチップ検査方法及び装置において、観察光学系の１つの視野を複数のエリアに分割し、所定の良品チップを各エリアに順次配置して、各エリアの位置でその所定の良品チップの画像データを取込む。 - 特許庁 - This occupant detection system comprises the seating sensor 20 incorporated in the seat surface of a seat 1 and detecting the load distribution pattern of a load applied to the seat surface, an installation detection device 31 for detecting the installation of a seat belt 3 on the seat 1, and a used portion detection device 32 for detecting the used portion of the seat belt 30.
この乗員検知システムは、座席１の座面に内蔵され座面にかかる荷重の荷重分布パターンを検出する着座センサ２０と、座席１におけるシートベルト３０の装着を検出する装着検出装置３１と、シートベルト３０の使用量を検出する使用量検出装置３２とを備えている。 - 特許庁 - To provide a semiconductor wafer processing system for improving the manufacturing yield of a semiconductor by drastically making uniform the thickness distribution of a photoresist film on a wafer, for reducing the deviation of the line width of a pattern, and efficiently suppressing the contamination of the wafer in a housing by dust or the like.
ウェハ上のフォトレジスト膜の厚さ分布が格段に均一になってパターンの線幅の偏差が減少し、しかも塵埃等によるハウジング内におけるウェハの汚染を効率よく抑制することによって、半導体の製造収率を向上させることができる半導体ウェハプロセッシングシステムを提供すること。 - 特許庁 - A novel and useful method, system and framework is provided for extending the event processing pattern language to include constructs and patterns in the language in order to support historical patterns and associated retrospective event processing that enable a user to define patterns that consist of both online streaming patterns and historical (retrospective) patterns.
ユーザがオンライン・ストリーミング・パターンと履歴（遡及）パターンとの両方からなるパターンを定めることができるようにする履歴パターン及び関連する遡及イベント処理をサポートするために、言語内に構造及びパターンを含むようにイベント処理パターン言語を拡張するための新規で有用な方法、システム、及びフレームワークである。 - 特許庁 - To obtain an autofocus (AF) system where an AF area as a range to be autofocused is made to automatically track a target subject and by which the target subject is tracked even when a camera performs pan/tilt operation by appropriately setting an image range compared between front and rear frames by the extraction of a difference between the frames by utilizing pattern matching.
オートフォーカス（ＡＦ）の対象範囲であるＡＦエリアをその対象被写体に自動追尾させるオートフォーカスシステムにおいて、フレーム間差分抽出によって前後フレーム間で比較する画像範囲をパターンマッチングを利用して適切に設定し、カメラがパン／チルト動作している場合にでも追尾できるようにする。 - 特許庁 - The system includes a processor configured to receive a hold departure time indicating a time the aircraft is to leave the hold path to meet a required time of arrival (RTA) at a waypoint, determine a present position of the aircraft within the holding pattern, and determine an amount of time to complete a current hold orbit.
システムは、ウェイポイントにおける必要な到着時刻（ＲＴＡ）に間に合うように、航空機が待機経路を離れるべき時間を指示する待機離脱時刻を受信し、ホールディングパターン内の航空機の現在位置を決定し、かつ現在の待機軌道を完了するための時間量を決定するように構成されたプロセッサを含む。 - 特許庁 - This is a production system which includes partially variations in presentation pattern by combination of a color material and illumination, and realizes a large color variation by preparing illumination light having a sharp peak of spectral distribution and by selecting and using the illumination light with the peak coinciding with a peak of spectrum reflectance of the color material and the one not coinciding.
色材と照明の組合せによる表現パターンの変化を一部に含んでなる演出システムであって、照明光に鋭い分光分布のピークを持つものを用意し、そのピークが色材の分光反射率ピークと一致するものとしないものを選択して用いることで大きな色変化を実現する。 - 特許庁 - The examiner can use a monitor 102, and an electronic operation system comprising a mouse 107, a light pen 108, and another pointing device 109 to directly operate a recording sheet pattern displayed (or printed) on the monitor 102 or a digitizer pad for deciding a spot position, inputting commands for recording user response, etc.
検者は、モニタ１０２、および、マウス１０７、ライトペン１０８、その他のポインティングデバイス１０９から成る電子化された操作系を用いて、モニタ１０２あるいはデジタイザパッド上に表示（あるいは印刷）された記録用紙パターンを直接、操作することによりスポット位置の決定、ユーザ応答の記録などのためのコマンド入力を行なう。 - 特許庁 - Wave front distribution in the measurement optical system of the wave front sensor is calculated from the light reception results of each calibration pinhole pattern image PHI' and then the wave front aberration determined from light reception results of the CCD under a state where the entire surface of the measurement opening 46 is illuminated is corrected thus calibrating the wave front aberration measuring equipment.
各較正用ピンホールパターン像ＰＨＩ’の受光結果から波面センサの測定用光学系における波面の分布を算出し、測定用開口４６の全面を照明した状態でのＣＣＤの受光結果から求めた波面収差を補正して、波面収差測定装置を較正する。 - 特許庁 - Since the antinode and node of the standing waves generated in the ground pattern or the antinode and a part corresponding to the antinode are short- circuited at the time of feeder power to an IC 35 and an LSI 36 mounted on the circuit board 30, noise power by the standing waves is offset, and the antiresonance by the standing waves and the increase of the power feeder system impedance are suppressed.
回路基板３０に実装されたＩＣ３５やＬＳＩ３６への給電時にグランドパターンに生じる定在波の腹と節または腹と腹に対応する部分が短絡されるため、定在波によるノイズ電源が相殺され、定在波による反共振や給電系インピーダンスの増加が抑制される。 - 特許庁 - To provide a multiple wavelength semiconductor laser device capable of facilitating the design of optical system by having a window structure in which the capacity of FFP in the laser beams of respective wavelengths is stabilized, and becomes a requested FFP pattern with respect to the multiple wavelength semiconductor laser device formed on the same substrate.
同一基板上に形成された多波長半導体レーザ装置に対して、各波長のレーザ光におけるＦＦＰの大きさが安定して所望のＦＦＰパターンとなるような窓構造を有することにより、光学系の設計を容易にすることのできる多波長半導体レーザ装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - An information processing system 10 extracts the plurality of patterns of subtrees from an information group with a tree structure, and generates the feature information of each of those extracted patterns, and classifies the patterns on the basis of the generated feature information of each of those patterns, and generates display information for displaying each pattern according to the classification result.
情報処理システム１０は、木構造の情報群から部分木の複数のパターンを抽出し、抽出された各パターンの特徴情報を生成し、生成された各パターンの特徴情報に基づいて、当該各パターンを分類し、その分類結果に応じて各パターンを表示する表示情報を生成する。 - 特許庁 - To acquire an image information detecting device capable of detecting a pattern image with high accuracy by taking a condition of spherical aberration of an illumination optical system into account, thereby increasing a quantity of illumination light in the central portion of an illumination area and its vicinity and hence improving the S/N ratio of a detection signal.
照明光学系の球面収差の状態を考慮することにより照明領域中心部及びその近傍の照明光量を大きくすることができ、検出信号のＳ／Ｎ比を向上させ位置検出用のパターン像を高精度に検出することができる画像情報検出装置を得ること。 - 特許庁 - By adding the character string targeted for conversion for a specific project and the character string after conversion, an application server 11 of the masking system has a character string conversion table creation function 113 and a function 116 that adds the definition of new character string conversion pattern to a character string conversion table or renews existing patterns.
また、プロジェクト独自の変換対象となる文字列と変換後の文字列を追加することで、マスキングシステムはアプリケーションサーバ１１に、文字列変換表作成機能１１３と文字列変換表へ新たな文字列変換パターンの定義を追加する、もしくは既存のパターンを更新する機能１１６とが格納されている。 - 特許庁 - The method also comprises the steps of detecting the pressures of the plurality of the positions in the mold after the screw arrives at the position LS4 (or the dwelling starting time TR2) (dwelling step), and feedback controlling the advancing speed of the screw based on a program control system so as to change its maximum value with respect to the lapse time in the preset pattern.
スクリュが保圧開始位置ＬＳ４（または、保圧開始時間ＴＲ２）に到達した後（保圧工程）、金型内の上記複数箇所の圧力を検出し、その最大値が予め設定されたパターンで経過時間に対して変化するように、プログラム制御方式に基づきスクリュの前進速度をフィードバック制御する。 - 特許庁 - To provide a reticle with which an exposure region of the light emitting from an illumination optical system of an exposure apparatus can be aligned to a specified position of an inspection pattern so as to inspect the performance of the exposure apparatus with high reproducibility, to provide a method for inspecting an exposure apparatus by using the reticle, and to provide a method for manufacturing a reticle.
露光装置の性能検査を再現性よく行うために、露光装置の照明光学系から照射される光の露光領域を検査用パターンの特定の位置に合わせることが可能なレチクル、そのレチクルを用いた露光装置の検査方法及びレチクル製造方法を提供する。 - 特許庁 - In this method for detecting finish accuracy and defects of a circuit pattern of a printed wiring board and an inner layer circuit-including copper clad laminate of its partly-finished product, this installation method for the lighting system is characterized by installing a light source vertical to an inspection object and a light source oblique to the inspection object in conjunction with each other.
プリント配線板及びその中間製品である内層回路入り銅張積層板の回路パターンの仕上がり精度並びに欠陥検出方法において、被検査物に対して垂直方向の光源と斜め方向の光源を併用して設置することを特徴とする照明装置の設置方法。 - 特許庁 - An exposure system projects a mask pattern onto a photosensitive substrate using a fluorine excimer laser as a light source, where the beam of the excimer laser whose wavelengths are in a wavelength range of vacuum ultraviolet rays are used as an exposure light, and an optical axis aligning means in which visible light or infrared beams emitted from the fluorine excimer laser at the same time are used is provided.
フッ素エキシマレーザを光源とし、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、前記フッ素エキシマレーザ光の真空紫外域の波長を露光光とし、前記フッ素エキシマレーザ光が同時に発光する可視光または赤外光を用いた光軸合わせ手段を設ける。 - 特許庁 - The pattern teaching system 1 has the middle layer 40 having a plurality of first-class units 10 adapted to vary their own signal outputs in dependence of results of comparison between sums of signal inputs and a first threshold, and the output layer 50 having a plurality of second-class units 11 adapted to vary output signals Oi. Learning processing is as follows.
パターン教示システム１は、信号の入力和と第一の閾値との比較結果に基づいて自身の信号出力を変化させる複数の第一種ユニット１０を有する中間層４０と、出力信号Ｏｉを変化させる複数の第二種ユニット１１を有する出力層５０とを有する。 - 特許庁 - The light rays emitted from the p-n junctions between the substrate 10 and areas 12 are condensed upon a photosensitive drum and form very small dot images on the photosensitive surface of the drum through an unmagnified image forming optical system after the uneven light quantity of a nonuniform luminous pattern is corrected to a uniform light quantity by means of the scattering bodies 14.
そして、ＧａＡｓＰ基板１０とＺｎ拡散領域１２とのｐｎ接合部から放射された光は、散乱体１４により不均一な発光パターンの光量むらを均一され、更に等倍結像光学系を経由して感光ドラムに集光され、その感光面に微小な点像を形成するようになっている。 - 特許庁 - The optical disk system 1 obtains an RF signal by using diffraction gratings 24 to which a specified diffraction pattern is provided corresponding to a laser beam of first wavelength, and when a laser beam of second wavelength different from the first wavelength is transmitted, and by adding non-diffraction and diffraction beams to an output signal of the laser beam of the second wavelength.
この発明の光ディスク装置１は、第１の波長のレーザ光に対応させて規定された回折パターンが与えられた回折格子２４を用い、第１の波長とは異なる第２の波長のレーザ光が透過した場合に、その出力信号を、非回折と回折光を加算することにより、ＲＦ信号を得る。 - 特許庁 - In a series of sequential aligning operation (alignment sequence) for forming a pattern on a sensitive substrate, replacing time of a wafer, moving time of a stage between alignment of respective chips, and wafer alignment time using an off-axis alignment sensor are an allowable carrying system operation time for opening/closing a gate valve, operating a robot, and the like.
感応基板上にパターンを形成するための、順序づけられた一連の露光動作（露光シーケンス）において、ウェハの交換時間、各チップの露光の間のステージ移動時間、及び、オフアクシスアライメントセンサを使用したウェハアライメント時間を搬送系動作許可時間とし、ゲートバルブの開閉やロボット動作等の搬送系を作動させる。 - 特許庁 - The leaked electromagnetic field information evaluation system comprises an antenna which measures electromagnetic waves leaking from an instrument to be evaluated on which a test pattern is displayed and receives the electromagnetic waves leaking from the instrument to be evaluated, a band-pass filter circuit, and a processor which quantifies information obtained from the band-pass filter circuit by controlling the central frequency of the band-pass filter circuit.
テストパターンが表示されている評価対象機器から漏洩する電磁波を計測し、評価対象機器から漏洩する電磁波を受信するアンテナと、帯域フィルタ回路と、帯域フィルタ回路の中心周波数を制御して、この帯域フィルタ回路から得られる情報量を定量化する処理装置とを備え。 - 特許庁 - The gyroscope comprises each driving electrode formed on each driving vibration system, wiring patterns 12A, 38A formed on at least one main surface 2a of the base part 9 in conformation to each driving electrode and power supplying pads 13A, 14B connected to each wiring pattern.
ジャイロスコープが、各駆動振動系にそれぞれ形成されている各駆動電極、基部９の少なくとも一方の主面２ａ上に、各駆動電極に対応してそれぞれ形成されている配線パターン１２Ａ、３８Ａおよび各配線パターンに接続されている電力供給パッド１３Ａ、１３Ｂを備える。 - 特許庁 - To provide an elevator control system for stopping the setting of the parking floor to a passenger pattern preferable for not performing parking operation in the specific floor since the alighting floor of a certain passenger and the boarding floor of the next passenger are the same such as reciprocating behavior between the specific floors of a passenger and patrolling behavior for respectively moving by one story floor.
乗客の特定階間の往復行動や、１階床づつ移動する巡回行動など、ある乗客の降車階と次の乗客の乗車階が同じであり、特定の階にパーク動作を行なわない方がよい乗客パターンに対してパーク階設定を中止するエレベータ制御装置を提供する。 - 特許庁 - In an aligner that lights up a mask by lighting luminous flux having coherent anisotropy, and projects and exposes the pattern of a mask surface onto the light-sensitive substrate by a projection optical system, time for lighting up the light-sensitive substrate is adjusted, thus eliminating the illuminance disturbance that is periodically generated on the light-sensitive substrate.
コヒーレンスの異方性を有する照明光束でマスクを照明し、該マスク面のパターンを投影光学系によって感光基板上に投影露光する露光装置において、前記感光基板に照明する時間を調整することにより、前記感光基板上に周期的に発生する照度外乱をなくすように構成する。 - 特許庁 - In recording areas except the yarn color code data attribute area 101, the new yarn color code recording area 150, and the pattern new yarn color code header 115, recording contents and recording order are agreed with those of the data recording medium for embroidering device to retain the host system compatibility with the conventional data recording medium for embroidering device.
糸色コードデータ属性領域１０１、新糸色コード記録領域１５０、及び模様新糸色コードヘッダー１１５を除く各記録領域は、記録内容及び記録順序を従来の刺繍装置用データ記録媒体のものと一致させ従来の刺繍装置用データ記録媒体との上位互換性を保つ。 - 特許庁 - In the case of calculating the focus evaluation values of respective sample images acquired at a plurality of focus positions, smoothing processing is performed to the acquired sample image so as to reduce the gradation pattern of brightness caused by the optical system, and the focus evaluation value is calculated on the basis of the sample image to which the smoothing processing is performed.
複数のフォーカス位置で取得した各サンプル画像のピント評価値を算出するに当たり、取得したサンプル画像に平滑化処理を施して光学系に起因する明るさの濃淡パターンを軽減し、この平滑化処理したサンプル画像に基づいてピント評価値を算出するようにする。 - 特許庁 - A three-dimensional picture processing part reads plural grouped objects Ga to Gc obtained by grouping objects for displaying a single pattern from a character storing part, and successively arranges the objects Ga to Gc outside of a displaying area set in a world coordinate system, that is a position which is not projected to a projecting plane TM.
３次元画像処理部は、単一の図柄を表示するためのオブジェクトをグループ化した複数個のグループ化オブジェクトＧａ〜Ｇｃをキャラクタ記憶部から読み出し、それらグループ化オブジェクトＧａ〜Ｇｃをワールド座標系に設定された表示領域外すなわち投影平面ＴＭに投影されない位置に順次配置する。 - 特許庁
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