「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 61 62 63 64 65 66 67 68 69 .... 73 74 次へ＞- To provide a system and a method for photolithography process, in which whether particles exist or not on the surface of a wafer charged to form a mask pattern is detected, and the process of the wafer is determined in accordance with the presence or non-presence of the particles.
パターンマスクを形成するために投入されるウェーハの表面上にパーチクルが存在するか否かを検査し、そのパーチクルの存在有無に従いそのウェーハの過程を決定するフォトリソグラフィー工程システム及びフォトリソグラフィー工程方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electric power control system that evaluates a control pattern being applied for a period equal to or longer than a constant length and utilizes the evaluation for subsequent control while discharge start time of an electric power storage device and the level of output can be changed.
蓄電装置の放電開始時間及び出力の大きさの変更が可能な構成において、適用中の制御パターンを一定の長さ以上の期間をかけて評価し、その後の制御に活かすことが可能な電力制御システムを提供する。 - 特許庁 - In a conveyance system, a speed pattern generation part 62 generates a speed command to make a difference in the speed between two running wheels, or inner and outer wheels, with respect to a standard speed and sends the speed command to two motors 26 and 29 when the conveyance vehicle drives around a curve.
搬送車システムにおいて、速度パターン発生部６２は、搬送車が曲線部を走行するときに２個の走行車輪に対して基準速度に対して内外輪にそれぞれ速度差が生じるように、速度指令を発生して２個のモータ２６，２９に与える。 - 特許庁 - To provide a transport information display system capable of changing a display scale and a display pattern by one line screen data, instantly carrying out a display action, and reflecting a result of an operation result or a result of operation arrangement to a line screen.
表示スケール、表示パターンの変更が一つのスジ画面データで対応可能となり、表示動作を瞬時に行うことができるとともに、運転実績や運転整理の結果をスジ画面に反映することのできる輸送情報表示システムを提供することである。 - 特許庁 - To correct the collapse of a capacity ratio by the influence of a parasitic capacity and to facilitate the pattern designing of an additive capacitive element in the D/A conversion circuit of a system which decides output voltage by the distribution of an electric charge by using at least two capacitive elements.
少なくとも２個の容量素子を使用して電荷の配分により出力電圧を決定する方式のＤ／Ａ変換回路において、寄生容量の影響による容量比の崩れを補正すると共に、付加容量素子のパターン設計を容易とする。 - 特許庁 - To provide a door order acceptance support system which enables an order reception side to prepare a material and a component to be used for a production through an order placed according to a preliminarily set ordering pattern which defines a range to allow a design and each component to be changed from a standard door.
標準品からデザイン、それぞれのパーツを変更できる範囲を決めて予め発注パターンを設定して発注すれば、受注側も使用する材料やパーツ類を準備し製造することができるドアの受注支援システムを提供する。 - 特許庁 - The projection means 10 is constituted of a light source 11, a pattern generating means 12, a same principal point arranging means 13 for arrangement at the optically same principal point as that of the first imaging means 20, and an image forming optical system 14 shared with the first imaging means 20.
投射手段１０は光源１１と，パターン発生部１２と，第１の撮像手段２０と光学的に同主点に配置させるための同主点配置手段１３と，第１の撮像手段２０と共用される結像光学系１４とを含んで構成される。 - 特許庁 - An intermediate layer conductor 4 arranged in a dielectric 1 of the intermediate layer is composed of an aggregate of unit cells, where a metal pattern is formed on the surface of a dielectric substrate while the dielectric remains at the periphery, and is allowed to function in a left-hand system region.
中間層の誘電体１の中に配置される中間層導体４は、誘電体基板の表面に金属パターンを周囲に誘電体を残して単位セルを形成し、この単位セルの集合体により構成し、左手系の領域で機能させる。 - 特許庁 - To provide an electron beam exposing apparatus, an electron beam exposing method and an electron beam exposing system for exposing a plurality of dies depending on a pattern formed on each die in a front-end process, during continuously and simultaneously exposing the dies on a sample using a plurality of masks.
複数のマスクを使用して連続して同時に試料上の複数のダイに露光を行う際に、個々のダイ上に前工程で形成されたパターンに応じて露光を行う電子ビーム露光装置、電子ビーム露光方法および電子ビーム露光システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate manufacturing method reducing the misalignment between an upper layer and a lower layer even when there is substrate distortion and work-starting exposure apparatuses for the upper and lower layers have apparatus dependence in exposure distortion, in the manufacture of substrate for forming a pattern on the substrate, and to provide a system thereof.
基板上にパターンを形成する基板製造において、基板歪み、及び上層と下層の着工露光装置に露光歪みの機差が存在しても、上層と下層の合わせずれを小さくする基板製造方法、およびそのシステムを提供する。 - 特許庁 - The inspection system for the circuit pattern is provided with an electron beam visual inspection device, provided with a monitor for displaying the defect on a map; and an external visual inspection device for storing an image of the defect, and is constituted to display concurrently the map and the image of the defect on the monitor.
また、回路パターンの検査システムは、マップに欠陥を表示するモニタを備えた電子線外観検査装置とこの欠陥の画像を記憶した外部外観検査装置とを備え、モニタにマップと欠陥の画像とを同時に表示する構成とする。 - 特許庁 - When an error contained in reproduced data from maximum likelihood decoding section 24 is equal to or less than the error correction ability of an error correction system 10, data for which the error correction has been performed by holding, in a register 12, an error position and pattern determined by an error calculating section 11 are sequentially output.
最尤復号部２４からの再生データ中のエラーが、エラー訂正系１０のエラー訂正能力以下であれば、エラー計算部１１によって求めたエラー位置、パターンをレジスタ１２に保持してエラー訂正を行ったデータを順次出力する。 - 特許庁 - The pattern correcting device is equipped with a substrate table 10, a laser beam irradiating device 1, an optical system 21 that adjusts the laser beam to a micro beam diameter, and a table control means for controlling the movement of the table 10 so that the beam scans the entirety of the area to be corrected.
基板テーブル１０と、レーザ光出射装置１と、レーザ光を微小ビーム径とする光学系２１と、そのビームが修正領域の全域を走査するように上記テーブル１０の動きを制御するテーブル制御手段を備えるパターン修正装置とする。 - 特許庁 - To provide a projection aligner, which corrects the irrotational symmetric property of the optical characteristics of a lens that accompanies a thermal change in the lens due to the absorption of exposure light by an aligner using a step-and scan system and can obtain a high-resolution pattern image, and to provide a method of manufacturing a device using the projection aligner.
ステップアンドスキャン方式を用いた露光装置で露光光吸収によるレンズの熱的変化に伴う光学特性を補正し、高解像度のパターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。 - 特許庁 - To provide an infrared reflection pattern print transparent sheet whose weight is light, whose price is low, whose large area scaling is simple, and whose mass production is possible as a member applicable to a data input system of a direct handwriting type on a screen of a display device for providing a coordinate detection means.
ディスプレイ装置の画面に直接手書きするタイプのデータ入力システムに適用できる、座標検知手段を提供する部材であって、軽量で、価格が安く、大面積化が容易で、量産可能な赤外線反射パターン印刷透明シートを提供する。 - 特許庁 - By using the digitized image of an uncorrected formed image generated by the picture reproducing system of a test image as the learning pattern of a neural network, digital image data including the test image are defined as learning reference data in a direct learning process.
ニューラルネットワークを使用し、テスト画像の画像再生システムにより発生された未修正結像のディジタル化画像をニューラルネットワークの学習パターンとして用い、テスト画像の格納されているディジタル画像データを直接学習プロセスでの学習基準データとして定める。 - 特許庁 - When errors are detected after the frame data has been subjected to bit interleave processing and corrected for errors, an error pattern is estimated by an error system estimator 18, a block where errors occur is discriminated from others by a resending block discriminator 20, and a request to resend the data block is made.
フレームデータをビットインタリーブ処理し、誤り訂正した後データに誤りが検出されると、誤り系列推定部１８で誤りパターンを推定し、再送ブロック判定部２０において誤りのあるブロックを判定して、そのデータブロックの再送を要求する。 - 特許庁 - To provide a power control system capable of evaluating an applied control pattern taking a period equal to or longer than a fixed length and utilizing that in control thereafter, in a configuration in which the discharge start time of a power storage device and magnitude of output are changeable.
蓄電装置の放電開始時間及び出力の大きさの変更が可能な構成において、適用中の制御パターンを一定の長さ以上の期間をかけて評価し、その後の制御に活かすことが可能な電力制御システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a highly reliable multilayer wiring board preventing occurrence of creases or folds by providing a proper dummy pattern even if a gap occurs between wiring layers in a wiring layer area when producing a multilayer wiring board through a roll laminate system.
ロールラミネート方式で多層配線板を作製する際、配線層領域で、配線層間に間隔が生じても適正なダミーパターンを設けることにより、シワ、折れ曲がり等の発生を防止でき、信頼性に優れた多層配線板を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To compensate aberration due to lens heating, the compensation device can be used in a projection system with a lighting mode and a pattern type causing intensive off-axis localized pupil filling.
補正デバイスは、レンズ加熱によって引き起こされた収差を補正するため、特に、強い軸外局在瞳充填（ｏｆｆ−ａｘｉｓ ｌｏｃａｌｉｓｅｄ ｐｕｐｉｌ ｆｉｌｌｉｎｇ）をもたらす照明モードおよびパターンタイプと共に投影システム内で使用されることができる。 - 特許庁 - The electric power steering device is provided with a danger determination part 142 for finally determining the dangerous driving state and giving warning to a driver when a danger driving notice is input from a navigation system when it is determined whether or not a steering pattern of the vehicle is in the dangerous state.
車両の操舵パターンが危険状態であるか否かを判定したときに、ナビゲーションシステムから危険運転通知が入力されていた場合に、危険運転状態と最終判定し、運転者に警告を与える危険判定部１４２を備える。 - 特許庁 - The system measures the characteristics of a transmission line by a reception error rate and a received signal level for a fixed form pattern signal before data communication origination, and feeds back the measurement result to a transmitter side, while signal processing is reestablished at a receiver side.
伝送線路の特性を、データ通信開始前の定型パターン信号の受信誤り率と受信信号レベルで測定し、測定結果を送信側にフィードバックすると共に、受信側の信号処理も設定しなおすことで、最適な信号伝送処理を提供する。 - 特許庁 - To prevent a print defective substrate from being produced owing to a position shift of a substrate on a palette by a system which positions one screen mask above a plurality of substrates mounted on the palette and screen-prints a predetermined pattern on the plurality of substrates together at a time.
パレット上に搭載した複数の基板の上方に１枚のスクリーンマスクを位置させて複数の基板に一括して所定のパターンをスクリーン印刷するシステムにおいて、パレット上の基板の位置ずれ等に起因する印刷不良基板の生産を未然に防止する。 - 特許庁 - Based on the read data of a test pattern 200, the output density corresponding to an input pixel value at a measurement point is measured and plotted in the coordinate system of the input pixel value-output density, and then the output density is complemented between the measurement points thus obtaining a measured density curve 204.
テストパターン２００の読取データに基づいて、入力画素値に対応した測定点における出力濃度を測定し、入力画素値−出力濃度の座標系にプロットし、各測定点間の出力濃度を補完して測定濃度曲線２０４を得る。 - 特許庁 - The exposure device EX comprises an exposure unit which exposes a substrate P to be exposed with a circuit pattern, and an alignment system 4 provided to penetrate the substrate P and to detect the position of the substrate P by passing light through an alignment mark AM becoming a position reference of exposure.
本発明の露光装置ＥＸは、露光対象の基板Ｐに回路パターンを露光する露光部と、基板Ｐを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークＡＭに光を通して基板Ｐの位置を検出するアライメント系４を備える。 - 特許庁 - The reticle 18 held on a reticle stage 19 and a wafer 25 held on a wafer stage 26 are moved by the stages 19 and 26 respectively in a Y direction, and the projection image of the pattern on the reticle 18 by a projection optical system 24 is successively transferred on the wafer 25.
レチクルステージ１９上に保持されたレチクル１８と、ウエハステージ２６上に保持されたウエハ２５は、ステージ１９，２５によりＹ方向に沿って移動され、レチクル１８のパターンの投影光学系２４による投影像がウエハ２５上に逐次転写される。 - 特許庁 - The remote control signal transmitting section 11 that receives this command, transmits from a light-emitting diode LED an infrared remote control signal of a signal pattern corresponding to the relevant transmission channel stored in a learning function section 13 and remotely controls predetermined controlled system equipment 3.
この指令を受けたリモコン信号送信部１１は学習機能部１３で記憶している当該送信チャンネルに対応した信号パターンの赤外線リモコン信号を発光ダイオードＬＥＤより送信させ、所定の操作対象機器３をリモコン操作するのである。 - 特許庁 - Introduction of the multi- dimensional beam pattern establishes the base of a 3D ultrasound imaging system comprising a small multi-dimensional sensor layout and a device to be arranged at site, and a three-dimensional image with high resolution is generated in real time.
本発明に従った多次元ビームパターンを導入すると、小型多次元センサ配列と現場に配備できる小型処理装置とからなる本発明に従った３Ｄ超音波映像システムの基盤となり、リアルタイムで高解像度の３次元映像を生成する。 - 特許庁 - After variably displaying special symbols, the notification system lights the infrared LED 69a at the lighting pattern corresponding to the numerical value of the random number r2 and previously notifies the formation of "winning of the probability variation" or "regular win" using the infrared rays (S140 and S150).
そして、特別図柄を変動表示させたのち、乱数ｒ２の数値に対応する点灯パターンにて赤外線ＬＥＤ６９ａを点灯させ、「確変当たり」もしくは「通常当たり」の発生を赤外線を用いて事前に報知する（Ｓ１４０及びＳ１５０）。 - 特許庁 - To provide a qualification obtaining support system and a qualification support program, creating an attendance plan of a trainee using a learning pattern of a successful candidate and estimating the learning level to improve the percentage of obtaining the qualification.
本発明は、合格者の学習パターンを用いて受講者の受講計画を作成すると共に、学習レベルを予測することにより資格取得率を向上させることのできる資格取得支援システム及び資格支援プログラムを提供することを目的とする。 - 特許庁 - The scanning exposure apparatus 100 uses a down scaling projection optical system 104 for projecting a pattern scaled down to 1/6 or 1/8 in a laser beam irradiating area 103 of a mask 102 on a wafer 105 mounted on a wafer stage 106.
本発明のスキャン型露光装置１００では、マスク１０２におけるレーザ光照射領域１０３内のパターンは、縮小投影光学系１０４によって、１／６又は１／８に縮小されてウエハステージ１０６に載せられたウエハ１０５上に投影される。 - 特許庁 - In the press system removing water from the web by composing one or more press nips between two rolls 30A, 32A, a press nip NA installs the grooved pattern comprising crossing grooves 11A, 11B or 21A, 21B on a cover 22 of one or more rolls 30A, 32A composing the nip or a belt 12.
少なくとも１つのプレスニップを２つのロール30A、32Aの間に構成してウェブから水を除去するプレス方式において、プレスニップNAは、それを構成する少なくとも１つのロール30A、32Aのカバー22またはベルト12に、交差する溝11A、11Bまたは21A、21Bから成る溝模様を設けている。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a three-dimensional device, by which a desired three-dimensional figure can be formed in a thick film resist with high accuracy by deriving a transfer function of an exposure system by use of a test reticle and designing a mask pattern using the transfer function as a feedback.
テストレチクルを用いて露光システムの伝達関数を導出し、この伝達関数をマスクパターンの設計にフィードバックさせて、厚膜レジストに所望する三次元形状を精度よく形成することが可能な三次元デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image processing system which acquires image data from specified reading regions (patches)even when the position and the size of color regions (patches) constituting a gradation pattern outputted from a printer change according to setting conditions such as printer resolution, etc.
プリンタから出力された階調パターンを構成する各色領域（パッチ）の位置および大きさが、プリンタの解像度等の設定条件に応じて変化した場合でも、所定の各読み取り領域（各パッチ）から画像データが取得できる画像処理システムを提供する。 - 特許庁 - This aligner has a light source 1, an illumination optical system 6 for illuminating a pattern drawn on a mask 5 by a light source light, and a projection optical system 11 for projecting the illuminated pattern to a substrate 13.
光源１と、マスク５に描かれたパターンを光源光で照明する照明光学系６と、照明されたパターンを基板１３に投影する投影光学系１１を有する露光装置であって、光源１から基板１３までの全体または一部を外気から遮蔽する容器７、１４、１７と、容器に接続された不活性ガスの供給ラインおよび排出ラインと、容器上若しくは容器と圧力的に等価な位置および／または供給若しくは排出ライン上若しくは供給若しくは排出ラインと圧力的に等価な位置に圧力調整手段２１〜２３を具備する。 - 特許庁 - By limiting the ON/OFF count per unit time of a control pulse, which is outputted from a pulse pattern determination means 13 by a turbulence generation signal Vf of a turbulence detection means 40 of an AC system, a converter outputs a voltage according to a voltage command, thus continuing operation by controlling the fluctuation of an AC current, even if disturbances are generated in AC system is disturbed.
交流系統の擾乱検出手段４０の擾乱発生信号Ｖｆにより、パルスパタン決定手段１３から出力する制御パルスの単位時間あたりのオンオフ回数の制限を制御することで、変換器が電圧指令通りの電圧を出力することができ、交流系統に擾乱が生じても交流電流の変動を制御して運転を継続することができる。 - 特許庁 - In the multiplex computer system comprising computers 10 and 20 which have the same function and an operation managing device 30 which totally manages those computers, the operation managing device 30 is provided with an operation simulation part 35, which simulates the operation of the operation managing device 30 according to a predetermined operation pattern to test the computer system.
同一機能を有する複数台の計算機１０、２０と、これら各々の計算機を統括して管理する運転管理装置３０からなる多重化計算機システムであって、運転管理装置３０に操作模擬部３５を設け、この操作模擬部３５によりあらかじめ決められた操作パターンで運転管理装置３０の操作の模擬を行い、計算機システムの試験を行うようにしたものである。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板上のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁 - In the immersion lithography apparatus, there are assembled a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit which serves during an immersion lithography process to supply an immersion liquid into a gap defined between the optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.
液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁 - The lithographic device is equipped with an illumination system constituted to adjust an irradiation beam, a supporting body constituted to support a patterning device capable of forming a patterned irradiation beam by setting a pattern on the sectional surface of the irradiation beam, a substrate table constituted to support a substrate, and a projection system constituted to project the patterned irradiation beam to the target of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを備える。 - 特許庁 - The base station apparatus discriminates a terminal with high necessity of searching of other channel and a terminal with low necessity of searching of other channel and changes a compressed mode pattern on the basis of the result of discrimination so as to minimize a frequency of non- transmission period as a whole mobile communication system thereby minimizing the reduction in the system capacity in the compressed mode.
他チャネルのサーチ動作の必要性が高い端末装置と、当該サーチ動作の必要性が低い端末装置とを判別し、当該判別結果に基づいてコンプレストモードパターンを変化させることにより、移動体通信システム全体として、非送信区間の頻度を最小限とすることができ、コンプレストモードによるシステム容量の低下を最小減に抑えることができる。 - 特許庁 - The reflection type projection optical system which projects a pattern arranged on an object surface to an image surface through a reflection mirror is telecentric on both of the object surface side and the image surface side, and the object surface and the image surface are arranged to be inclined to a plane perpendicular to an optical axis of the reflection type projection optical system so as to satisfy the Scheimpflug condition.
本発明は、物体面に配置されたパターンを反射鏡を介して像面に投影する反射型投影光学系であって、前記物体面側と前記像面側との両方でテレセントリックであり、かつ、前記物体面と前記像面とを、シャインプルーフの条件を満たすように、前記反射型投影光学系の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾けて配置した。 - 特許庁 - To provide a retrieval system for medical information and a program for carrying out the system for accurately extracting a case group and a diagnosis name group of high similarity by using the appearance pattern of a symptom as a retrieval key to retrieve from a case information database accumulated in large quantities in a medical institution, and comparing the mutual similarity of symptom lists.
医療機関に大量に蓄積されている症例情報データベースに対して、症状の出現パターンを検索キーとして検索を行い、症状リスト同士の類似度を個別に比較することによって、類似度の高い症例群や診断名群を正確に抽出する医療情報の検索システム及びそのシステムを実行するためのプログラムを提供する。 - 特許庁 - Namely, since it is possible to prevent the phenomenon that the circumferential portion of the pattern images formed via the projection type optical system is shielded and cannot pass through the photosensitive aperture by changing the aperture used for the measurement, the optical characteristic of the projection type optical system can be calculated with higher accuracy without relation to the focusing condition.
すなわち、ピンホールパターンの結像状態に応じて、計測に用いる開口を変更することにより、投影光学系を介して形成されるパターン像の周縁部が受光用開口を通過せずに遮られてしまうという事態を防止することができるので、結像状態にかかわらず、投影光学系の光学特性を高精度に算出することが可能となる。 - 特許庁 - Under the set conditions of irregular illumination, a pattern is transferred via a projection optical system PL onto a substrate W where a resist film, an antireflection film or the like are formed with the formation conditions set with reflectivity on the substrate for slant incident light incident onto the substrate W from a direction inclined from the optical axis AX of the projection optical system PL taken into consideration.
そして、この設定された変形照明条件の下で、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対して傾斜した方向から基板Ｗ上に入射する斜入射光に対するその基板上での反射率を考慮して形成条件が設定されたレジスト膜、反射防止膜などが形成された基板Ｗ上に、投影光学系ＰＬを介してパターンが転写される。 - 特許庁 - A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁 - This printer comprises: a nozzle 12 for ejecting a holographic recording material in a dot pattern onto paper 3; a hologram recording optical system 100 for recording interference fringes by simultaneously applying a plurality of laser beams onto the holographic recording material ejected by the recording material nozzle; and a scanning drive unit for moving the nozzle 12 and the optical system 100 relatively with respect to a supporting body.
用紙３に対し、ホログラフィック記録材料を点状に吐出するノズル１２と、記録材料ノズルが吐出したホログラフィック記録材料上に複数のレーザ光を同時に照射して干渉縞を記録するホログラム記録光学系１００と、ノズル１２とホログラム記録光学系１００とを、支持体に対し相対的に移動させる走査駆動装置とを備えて印刷装置を構成する。 - 特許庁 - To enhance security in a printing system 100 having a host PC 1-1 for sending print data and a printer 1-6 connected to the host PC 1-1 via a network 2 to print the print data received from the host PC 1-1 over a predetermined tint pattern.
印刷データを送信するホストＰＣ１−１と、ホストＰＣ１−１にネットワーク２を介して接続され、ホストＰＣ１−１から受信する印刷データを所定の地紋パターンに重ね合わせ印刷可能なプリンタ１−６とを有する印刷システム１００に於いて、セキュリティを向上させること。 - 特許庁 - To provide a system and a method to support setting of a record unit which makes an analysis resulting in a desired analysis result possible by presenting a pattern and a rule acquired from inputted data and a record number by various units of record for the inputted data before starting the analysis.
分析開始前に、入力されたデータに対する様々なレコードの単位でのレコード数及び該データから得られるパターンとルールを提示することによって、求めたい分析結果に結び付く分析が可能となるレコードの単位の設定を支援するシステム及び方法を提供する。 - 特許庁 - A system controller 24 controls an on-vehicle camera 12 to perform imaging to sequentially acquire image data, pattern-recognizes road signs 44 and 45 with reference to image data for reference, and determines whether the road signs 44 and 45 are on the right side of the lane.
システムコントローラ２４は、車載カメラ１２を制御して撮像を実行させ、画像データを逐次取得するとともに、参照用画像データを参照して道路標識４４，４５をパターン認識して、道路標識４４，４５が走行車線に対して右側にあるか否かを判定する。 - 特許庁
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