「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 次へ＞- A lithographic apparatus is provided which has an array of individually controllable elements to modulate a cross-section of a radiation beam, a substrate table to support a substrate, a projection system to project the modulated radiation beam onto a target portion of the substrate to apply a pattern, and a position encoder having a position sensor and a scale to determine a position of the substrate table.
放射線ビームの断面を変調する個別制御可能な要素のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、変調された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影してパターンを適用する投影システムと、基板テーブルの位置を決定する位置センサおよびスケールを備えた位置エンコーダとを有するリソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁 - Further, the automatic equalization system includes: a microphone; an acoustic measuring circuit for supplying a frequency signal denoting responses at a plurality of places; a memory for storing the signals representing the frequency responses at a plurality of the places; and an equalizing calculation circuit for supplying the equalization pattern signal in response to the signal representing the frequency response.
また、自動等化システムは、マイクロホンを含み、複数の場所での応答を表す周波数信号を供給する音響測定回路と、上記複数の場所での周波数応答を表す上記信号を格納するメモリと、周波数応答を表す上記信号に応じて等化パターン信号を供給する等化計算回路とを備える。 - 特許庁 - This system includes a discrimination part 118 which discriminates whether a cell connected to a critical path has the voltage drop violation, an improvement method decision part 116 which selects an optimum one of plural relocation patterns prepared for improving the voltage drop violation and a voltage drop improvement part 117 which executes the relocation according to the selected relocation pattern.
クリティカルパスに接続するセルに電圧降下違反があるか否かを判別する判別部１１８と、電圧降下違反を改善するための複数の再配置パターンの中から最適なものを選択する改善手法決定部１１６と、選択された再配置パターンに基づき再配置を行う電圧降下改善部１１７を備える。 - 特許庁 - For example, the photographing system 1 performs rangefinding operation to measure the distance h2 from the digital camera 10 to its plane based on the image picking up the pattern disposed on the surface apart by the distance h3 from the object surface in the optical axis direction of a photographing lens 101 and performs AF control by calculating the subject distance h1 based on the distances h2 and h3.
たとえば、撮影システム１は、撮影レンズ１０１の光軸方向において被写体面から距離ｈ３だけ離れた面に設けられたパターンを撮像した画像に基づいて、デジタルカメラ１０からその面までの距離ｈ２を測定する測距動作を行い、これらの距離ｈ２，ｈ３に基づいて被写体距離ｈ１を算出してＡＦ制御を行う。 - 特許庁 - This vehicular headlamp is structured to form the light distribution pattern having the horizontal cutoff line by a first light source 16 comprising a light emitting diode, wherein a rectangular light emitting chip 22 is covered with a hemispherical mold lens 24, and the first catoptric system 20 provided with a first reflector 18 to reflect light toward the front of a lamp from the first light source 16.
矩形状の発光チップ２２が半球状のモールドレンズ２４で覆われてなる発光ダイオードからなる第１光源１６と、この第１光源１６からの光を灯具前方へ向けて反射させる第１リフレクタ１８とを備えてなる第１反射光学系２０により、水平カットオフラインを有する配光パターンを形成する構成とする。 - 特許庁 - In the in-vehicle antenna system suitable for receiving TV broadcasting, digital terrestrial broadcasting in particular, a plurality of antenna elements 6 are arranged at prescribed intervals at sections equivalent to the corners of the roof parts of a pair of decoration malls 5, and a direction nearly vertical to an expanding surface where the wiring pattern of the antenna elements is expanded, is made close to a perpendicular direction.
テレビ放送とくに地上波デジタル放送の受信に適した車両用アンテナ装置で、複数のアンテナエレメント６を一対の装飾モール５のルーフ部分の角に相当する部位に所定間隔を持って配設し、アンテナエレメントの配線パターンが展開される展開面に対して略垂直な方向により鉛直方向に近づける。 - 特許庁 - Since the marks are placed at the center of field of view of the alignment sensor to observe and since the same component of both the distortion of optical system of the alignment sensor or the fixed pattern noise and the like of the imaging device are superimposed at each time, degradation of reproducibility of measurement caused by them can be prevented to implement the stable reticle alignment.
マークを、必ずアライメントセンサの視野中心において観察していることとなり、アライメントセンサの光学系のディストーション、あるいは、撮像素子の固定パターンノイズ等については、毎回同じ成分が重畳されることとなるので、これらに起因する計測再現性の悪化を防ぐことができ、安定したレチクルアライメントを行なうことができる。 - 特許庁 - Here, the first lighting system 31a makes the inspection light L1 parallel to the top surface of the reticle R to prevent the inspection light L1 irradiating the top surface of the reticle R from entering a glass substrate of the reticle R to be diffracted by a pattern DP formed on a bottom surface of the glass substrate to cause misdetection by the diffracted light.
レチクルＲの上面に照射された検査光Ｌ１がレチクルＲのガラス基板内に進入してガラス基板の底面形成されたパターンＤＰにより回折し、この回折された光が誤検出の原因になるのを防止すべく、第１照明系３１ａはレチクルＲの上面に対して平行に検査光Ｌ１をする。 - 特許庁 - The system includes a processor 33 having an element constituted so that the optimum motor bias route for a deep reactive ion etcher 22 is determined on a wafer, a stepper for imprinting a pattern of the gyro in the direction corresponding to the optimum motor bias route calculated to be the nearest to each gyro on the wafer, and a deep reactive ion etcher 37 for etching the gyro on the wafer.
システムは、ウェハ上で深反応性イオンエッチャ２２用の最適モータバイアス経路を決定するように構成された要素を備えたプロセッサ３３、ウェハ上で各ジャイロに最も近いものと算出された最適モータバイアス経路に対応した向きに該ジャイロのパターンをインプリントするステッパ３５及びウェハにジャイロをエッチングする深反応性イオンエッチャ３７を含む。 - 特許庁 - An imprint system 1 has a configuration connecting together the followings: a wafer carry-in-and-out station 2; a wafer processing station 3 which forms a first resist film on a wafer W; an imprint processing station 4 which forms a second resist film on the wafer W and a prescribed resist pattern upon the second resist film; and a template carry-in-and-out station 5.
インプリントシステム１は、ウェハ搬入出ステーション２と、ウェハＷ上に第１のレジスト膜を形成するウェハ処理ステーション３と、ウェハＷ上に第２のレジスト膜を形成し、当該第２のレジスト膜に所定のレジストパターンを形成するインプリント処理ステーション４と、テンプレート搬入出ステーション５とを一体に接続した構成を有している。 - 特許庁 - The exposure device EX is provided with an exposure part S for exposing a pattern of mask M to a substrate P, a library LB which can keep a mask case C for storing the mask M used by the exposure part S, and a conveyance system H1 having an arm 20 for conveying to library LB while being able to hold each of the mask M and the mask case C.
露光装置ＥＸは、マスクＭのパターンを基板Ｐに露光する露光部Ｓと、露光部Ｓで用いるマスクＭを収納するマスクケースＣを保管可能なライブラリＬＢと、マスクＭとマスクケースＣとのそれぞれを保持可能であるとともに、ライブラリＬＢに対して搬送するアーム部２０を有する搬送系Ｈ１とを備えている。 - 特許庁 - The correcting method for a photomask to correct a white defect in a photomask is characterized in that: a deposition film 11 is formed at a white defect portion C by a FIB-CVD (focused ion beam chemical vapor deposition) system; if the film protrudes a desired pattern, the protruding portion 2 is shaved off with a needle; and the needle is preferably a probe of a scanning probe microscope.
フォトマスクの白欠陥を修正するフォトマスク修正方法において、白欠陥部ＣにＦＩＢ−ＣＶＤ方式でデポジション膜１１を形成し、膜の形状が所望の形状よりはみ出た場合、はみ出た部分２を針で削りとり、好ましくは前記針は、走査プローブ顕微鏡の探針であることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide an incoming radio wave direction estimating antenna system with which the real time processing of incoming direction estimation and antenna directivity pattern control to a moving object moving near a base station at high speed is enabled, high-reliability data transmission is performed and reduction of interference to the other base stations or mobile stations or transmission power drop reduction is enabled.
基地局の近傍を高速に移動する移動体に対し、到来方向推定及びアンテナ指向性パターン制御の実時間処理を可能とし、高信頼性のデータ伝送を行い且つ他の基地局や移動局への干渉や送信電力の低減が可能な電波到来方向推定アンテナ装置の提供を目的とする。 - 特許庁 - To provide a method for acquiring photomask information, for acquiring photomask information that facilitates evaluation of a photomask reflecting on factors by an optical system of an exposure machine and various factors such as spectral characteristics of a light source and developing characteristics of a resist and that facilitates determination of a pattern feature and appropriate determination of a raw material or thickness of a film to be formed in a semitransmitting portion.
露光機の光学系による要因、光源の分光特性、レジストの現像特性などの諸要因を反映したフォトマスクの評価を可能として、パターン形状の決定、及び、半透過部に形成する膜の素材、または、膜厚の決定が的確に行えるようになされたフォトマスク情報を取得するフォトマスク情報の取得方法を提供する。 - 特許庁 - This image diagnosis support system performs pattern matching between an image of a candidate shadow of abnormal tissue, a plurality of knot templates created by a three-dimensional knot model and a plurality of blood vessel templates created by a three-dimensional blood vessel model, and discriminates whether the candidate shadow is a shadow of abnormal tissue or a shadow of normal tissue according to the result.
画像診断支援システムは、異常組織の候補陰影の画像と、三次元結節モデルより作成された複数の結節テンプレート及び三次元血管モデルより作成された複数の血管テンプレートとをパターンマッチングし、その結果に基づいて、候補陰影が真の異常組織の陰影であるか、正常組織の陰影であるかを判別する。 - 特許庁 - To provide a chemical reaction apparatus whose film quality, pattern precision and electric connection of a thin film heater and heater wiring used for a microreactor, are secured well simply, to provide a manufacturing method therefor, and to provide a fuel cell system which uses the chemical reaction apparatus having such a simple and highly reliable construction as a fuel supply apparatus or the like .
マイクロリアクタに用いる薄膜ヒータやヒータ配線等の膜質やパターン精度、電気的接続を良好かつ簡易に確保することができる化学反応装置及びその製造方法を提供し、以て、このような簡易かつ信頼性の高い構成を有する化学反応装置を、燃料供給装置等に適用した燃料電池システムを提供する。 - 特許庁 - To obtain an array antenna system consisting of a logarithmic period dipole array antenna, a phase shifter and a feeding circuit that can suppress deterioration in an element array pattern due to unbalanced currents on the logarithmic period dipole array antenna stimulated at a specific frequency so as to avoid a gain reduction at the specific frequency and the increase in a side lobe level.
対数周期ダイポールアレーアンテナと移相器と給電回路で構成するアレーアンテナ装置において、特定周波数において励起する対数周期ダイポールアレーアンテナ上の不平衡電流による素子アレーパターンの劣化を抑圧し、特定周波数において利得低下およびサイドローブレベル上昇をしないアレーアンテナ装置を得る。 - 特許庁 - Synthetic resin chips are obtained by laminating synthetic resin sheets in which the adjacent synthetic resin sheets and the both surface synthetic resin sheets respectively have color differences E (Lab colorimetric system) in the range of from 30 to 70, and by heat-rolling to thereby give a pattern- appeared synthetic resin laminated sheet, thereafter by pulverizing the synthetic resin laminated sheet.
隣接する合成樹脂シート間の色差ΔＥ（Ｌａｂ表色系）及び両表面となる合成樹脂シート間の色差ΔＥ（Ｌａｂ表色系）が、それぞれ３０〜７０の範囲にある合成樹脂シートを積層して加熱圧延して、模様が現出した合成樹脂積層シートを得た後に、合成樹脂積層シートを粉砕して合成樹脂製チップを得る。 - 特許庁 - During work of removing a damaged layer which arises from an ion beam, transmitted electrons are detected with a two-dimensional detector, the transmitted electrons arising by irradiating a sample with an electron beam formed by an electron beam optical system, and the timing of the completion of the work of removing the damaged layer is determined on the basis of the blur amount of a diffraction pattern obtained with the two-dimensional detector.
イオンビームにより発生したダメージ層の除去加工中に、電子ビーム光学システムで形成された電子ビームを試料に照射することにより発生する透過電子を二次元検出器で検出し、当該二次元検出器で得られたディフラクションパターンのぼけ量に基づいてダメージ層の除去加工を終了するタイミングを判定する。 - 特許庁 - To provide an electronic endoscope apparatus for carrying out field reading by using a CCD provided with color filters adopting the color difference line sequential system, displaying a whole image on the basis of signals of odd number fields and signals of even number fields, and suppressing production of a stripe pattern when the levels of luminance signals differ between the odd number fields and the even number fields.
色差線順次方式のカラーフィルタの設けられたＣＣＤを用いてフィールド読出しを行い、奇数フィールドの信号と偶数フィールドの信号とに基づいて全体画像を表示させる電子内視鏡装置において、奇数フィールドと偶数フィールドの輝度信号の大きさが異なる場合における縞模様の発生を抑制する。 - 特許庁 - A network service delivery system 11 causes information display devices 2 to operate differently depending on the pattern of overlapping of the information display devices 2 and creates a new service by not only causing a service from one of the information display devices 2 to be directly received (copied) by the other of the information display devices 2, but also synthesizing the service with services already acquired.
ネットワークサービス提供システム１１は、情報表示装置２の重ね合わせのパターンに応じて情報表示装置２に異なる動作を与え、一方の情報表示装置２のサービスを他方の情報表示装置２がそのまま受け取る（コピー）だけでなく、既に持っているサービスと合成することにより、新たなサービスを生成する。 - 特許庁 - The lithography apparatus includes a substrate table constructed, configured, and arranged so as to hold a plurality of substrates at each of a plurality of positions, where exposures can be made on the substrate, and a projection system constructed, configured, and arranged so as to project pattern-formed radiation beams onto the target portions of the plurality of substrates at positions where exposures can be made.
本発明は、基板テーブル上の複数の個々の露光可能位置で複数の基板を保持するように構築され、配置構成された基板テーブルと、パターン形成した放射線ビームを露光可能な位置で複数の基板の目標部分に投影するように構築され、配置構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置に関する。 - 特許庁 - To provide a method of applying an even phosphor coating by preventing residual liquid at the lower end of a glass tube or an uneven coating toward the circumferential direction of the glass tube or of a wind ripple pattern, a cold cathode discharge tube made of this glass tube emitting light with stable optical characteristics and also a lighting system using the discharge lamp emitting light with uniform brightness.
本発明は、ガラス管の下端部の液溜まりや円周方向もしくは風紋模様の膜ムラを防止し、均一な蛍光被膜を塗布する方法、そのガラス管を使用し安定した光特性で発光する冷陰極放電管、及びその放電管を使用した均一な輝度で光放出できる照明装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The noise canceller 12 previously stores parameters of noises according to vehicle speeds, accelerations and present locations by noise pattern memory means 122 and suppresses or removes the noises based on the data on the vehicle speeds, accelerations and present locations from the vehicle side in noise cancellation means 121 from the data from a vehicle speed sensor 13, acceleration sensor 14 and car navigation system 15.
ノイズキャンセル装置１２において、ノイズパターン記憶手段１２２で車速・加速度・現在地に応じたノイズのパラメータを記憶しておき、車速センサー１３、加速度センサー１４、カーナビゲーション装置１５からのデータから、ノイズキャンセル手段１２１において、車両側からの車速・加速度・現在地のデータに基づいたノイズを抑圧または除去する。 - 特許庁 - In a maskless lithography system having a spatial light modulator (SLM), a method for generating a gray scale on an object comprises: forming a pattern by exposing the object to a light; and forming a gray scale region on the object by modulating an exposure time of the object.
空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁 - The lighting system 100 comprises a motor 140, a color wheel 120 which has a drum-shaped rotation face rotated by the motor 140 and has a color pattern region 122 formed on the rotation face, a fan part 130 rotated by the motor 140 and a lamp cartridge 110 arranged on the inside of the rotation face of the color wheel 120.
本発明に係る照明装置１００は、モータ１４０と、モータ１４０によって回転されるドラム状の回転面を有し、当該回転面にカラーパターン領域１２２が形成されたカラーホイール１２０と、モータ１４０によって回転されるファン部１３０と、カラーホイール１２０の回転面の内側に配されたランプカートリッジ１１０とを有する。 - 特許庁 - To provide an optical system manufacturing method by which high optical performance is secured without restraining the accuracy of individual parts or assembling accuracy very strictly, a projection optical device whose extant aberration is easily adjusted and which realizes high optical performance and an aligner capable of excellently projecting and exposing the image of the pattern of a mask on a substrate.
個々の部品の精度や組立の精度を非常に厳しく抑えることなく，高い光学性能を確保可能な光学系の製造方法，および残存する収差の調整が容易に可能であり，高い光学性能を達成可能な投影光学装置，ならびにマスクのパターンの像を基板に良好に投影露光し得る露光装置を提供すること。 - 特許庁 - A lithographic apparatus comprises an illumination system for providing a projection radiation beam, a support structure for supporting a patterned device that functions to give a pattern on the sectional face of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projector for projecting a patterned beam on the target of the substrate.
リソグラフィ装置は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、投影ビーム中の放射を透過若しくは反射させ、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能するパターン化デバイスを支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影装置とを備えている。 - 特許庁 - The robot system which performs autonomous navigation determines the direction on the basis of previous decision on the course and arrangement of reflecting line patterns 44 and 48 obtained during the projection of a line pattern by a laser projector in a different known direction in environment according to the current laser projection line patterns 44 and 48 photographed by a camera.
自律的にナビゲーションするロボットシステムにおいて、カメラによって撮影された現在のレーザ投射ラインパターン４４、４８に基づき、及び環境における異なる既知の方向のレーザプロジェクタによるラインパターンの投射中に得られた反射ラインパターン４４、４８の進路及び配置の予めの判定に基づいて方向決めが行われる。 - 特許庁 - The aligner comprises a projection optical system having a plurality of reflectors (M1-M6) performing exposure and transfer of a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate using extreme ultravoilet light wherein at least one of the plurality of reflectors is held in a state insulated from the outside.
極端紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するための複数の反射鏡（Ｍ１−Ｍ６）を有する投影光学系を備えた露光装置であって、前記複数の反射鏡のうち、少なくとも１つの反射鏡を外部と絶縁した状態で保持することを特徴とする露光装置である。 - 特許庁 - A neural network processing section 15 specifies a control pattern for the input data using the learning data of an image data base DB and delivers a motor control indication value to a drive control section 17 thus enhancing control response by reducing the load on a system when the operational intention is recognized while employing an easy operation matching the feeling of a person.
そして、ニューラルネットワーク処理部１５で入力データに対して画像データベースＤＢの学習データを用いて制御パターンを特定し、モータ制御指示値を駆動制御部１７に出力することで、人間の感覚に合致した容易な運転操作としつつ操作意図を認識する際のシステムの負荷を低減して制御応答性を向上する。 - 特許庁 - To output an input sheet on site, to automatically calculate an area of a specific range by writing the range into the input sheet on the site, and to perform screen display of information input on the site in a form of image information and character information to confirm/correct the information, in a system using a digital pen reading an existing dot pattern.
既存のドットパターンを読取るデジタルペンを用いたシステムにおいて、入力シートを現場で出力し、現場で特定の範囲を入力シートに書き込むことにより当該範囲の面積を自動計算し、現場で入力した情報を画像情報及び文字情報の形式で画面表示し、情報を確認・修正しうるようにする。 - 特許庁 - A whole performance map of an engine is formed by estimating each of engine speed and a fuel consumption rate against a manipulated variable of an engine output control device in accordance with characteristics of the fuel consumption rate and the minimum fuel consumption rate to be estimated from a torque pattern of an evaluation objective vehicle on this driving state evaluation system.
この運転状態評価システムにおいては、管理者用パソコン２において、評価対象車両のトルクパターンから推測される燃料消費率特性と、最小燃料消費率とに基づき、各エンジン回転速度及びエンジン出力制御装置操作量に対する燃料消費率を推定することでエンジンの全性能マップが生成される。 - 特許庁 - To surely demodulate main data by correctly detecting identification data ID even when computer data or the like is transmitted especially by a predetermined block unit, or a synchronous pattern is not correctly detected due to a flaw or the like in application to a system for recording in an optical disk.
本発明は、記録媒体、データ送信装置、データ受信装置及び光ディスク装置に関し、特に所定のブロック単位でコンピュータデータ等を伝送し、又は光ディスクに記録するシステムに適用して、傷等によって同期パターンを正しく検出できない場合でも、識別データＩＤを正しく検出して確実にメインデータを復調できるようにする。 - 特許庁 - To exclude a control for determining effectiveness of a shortening operation and reduce loading to a control system by making the shortening operation effective to all regular symbol variation patterns and to suppress a decline in a player's incentive to play by providing a shortened symbol variation pattern performed by a shortening instruction, with a variation.
全ての通常図柄変動パターンに対して短縮操作を有効とすることで、短縮操作の有効か否かの判断を行うための制御を排除して制御系負担を軽減すると共に、短縮指示によって演出される短縮図柄変動パターンにバリエーションを持たせることで、遊技者の遊技意欲の減退を抑制する。 - 特許庁 - This three-dimensional shape acquisition system for acquiring three-dimensional information of an object 3 by irradiating the object 3 collectively with a plurality of light beams from a pattern light irradiation mechanism 2 and analyzing the image of the object 3 photographed by an imaging mechanism 1 has a characteristic wherein the plurality of light beams have characteristic fine structures respectively.
本発明は、パターン光照射機構２からの複数の光ビームを被写体３に一括して照射し、撮像機構１で撮影した被写体３の画像を解析することにより被写体３の３次元情報を取得する３次元形状取得システムにおいて、前記複数の光ビームがそれぞれ固有の微細構造を有することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a design support system, a design method, a design support program and a manufacturing method of a semiconductor integrated circuit, with which occurrence of a design pattern that is a main cause of a circuit defect and is difficult to be lithography-processed can be suppressed, dispersion due to manufacture fluctuation is suppressed and yield can be improved.
回路不良要因であるリソグラフィー処理困難な設計パターンの発生を抑制でき、製造変動によるばらつきを抑制して歩留まりの向上を図ることが可能な半導体集積回路の設計支援システム、半導体集積回路の設計方法、半導体集積回路の設計支援プログラム、半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The drawing position control system for a drawing apparatus having a circular pattern generator 21 comprises controlling the generator 21 so as to deviate the drawing start position of a circle from the drawing start position of another circle in proximity to the above circle in drawing a plurality of the circles having the same center and different radii by using the generator 21.
この発明は、円パターン発生装置２１を有する描画装置の描画位置制御方式において、円パターン発生装置２１を用いて、同一の中心を持ち半径の異なる複数の円を描画する際に、円の描画開始位置を該円に近接する別の円の描画開始位置からずらすように円パターン発生装置２１を制御するものである。 - 特許庁 - The interior informing system has a light emission means for illuminating an outer panel of a predetermined on-vehicle equipment; a detection means for detecting a plurality of kinds of state signals outputted from the on-vehicle device; and a control means for controlling the light emission means by a light emission pattern made relevant to the plurality of kinds of state signals.
車内報知システムは、所定の車載機器の外部パネルを照明する発光手段と、車載の装置から出力される複数種類の状態信号を検出する検出手段と、上記複数種類の状態信号に対応づけられた発光パタンによって発光手段を制御する制御手段と、を有する構成にした。 - 特許庁 - To provide a dipping type method and apparatus for removing resist with proper in-plane uniformity as compared with a shower system, without damaging wiring pattern in which re-adhesion of stripped metal dust is prevented, while enhancing the resist removing speed.
本発明の目的は、シャワー式に比較して面内均一性がよく、配線パターンをキズ付けることの少ないディップ式のレジスト除去方法及び装置において、一旦剥離した金属屑が半導体基板に再付着することを防止するとともに、レジスト除去の処理スピードを向上させられるレジスト除去方法及び装置を提供することである。 - 特許庁 - In the exposure device equipped with a projection optical system having a plurality of reflectors for exposure transferring a pattern formed on a mask to a photosensitive substrate by using extreme UV-light, at least one of the plurality of reflectors is provided with an apparatus 111 for monitoring the reflectivity of exposure light.
極端紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するための複数の反射鏡を有する投影光学系を備えた露光装置であって、前記複数の反射鏡のうち、少なくとも１つに露光光の反射率を監視する機器１１１を備えたことを特徴とする露光装置である。 - 特許庁 - An imprint system 1 has a constitution in which a wafer carrying in/out station 2, a wafer processing station 3 for forming a first resist film on a wafer W, an imprint processing station 4 for forming a second resist film on the wafer W and forming the predetermined resist pattern on the second resist film, and two or more template carrying in/out stations 5 are integrally connected.
インプリントシステム１は、ウェハ搬入出ステーション２と、ウェハＷ上に第１のレジスト膜を形成するウェハ処理ステーション３と、ウェハＷ上に第２のレジスト膜を形成し、当該第２のレジスト膜に所定のレジストパターンを形成するインプリント処理ステーション４と、複数のテンプレート搬入出ステーション５とを一体に接続した構成を有している。 - 特許庁 - This system uses a means which retrieve a plant name from the external shape and vein shapes of leaves of a plant, etc., by a database regarding the external shape and vein shapes of leaves, a scanner, image analyzing software, pattern recognition software, etc., by using the fact that plants are different in external leaf shape and vein shape by kinds.
本発明は、上記の課題を解決するために、植物の葉の外形及び葉脈の形状が植物の種類により異なることを利用して葉の外形及び葉脈の形状に関するデータベースとスキャナー、画像解析ソフト、パターン認識ソフト等により植物の葉の外形、葉脈形状等より植物名を検索する手段を用いる。 - 特許庁 - In the liquid crystal display device 1 in which the alignment films 40, 40a are formed by the alignment film printing system which is noncontact with respect to the substrate 11, wetting and spreading of an alignment material are controlled to permit formation of the alignment films 40, 40a having uniform thickness by providing a printing control pattern 60 between a seal member 50 and a display area.
基板１１に対して非接触な配向膜印刷方式により配向膜４０、４０ａを形成した液晶表示装置１において、シール材５０と表示領域の間に印刷制御パターン６０を設けることにより、配向材の濡れ広がりを制御し膜厚を均一にできる配向膜４０、４０ａを形成する。 - 特許庁 - Three semiconductor wafers A1, A2, and A3 are pulled out of a wafer carrier A set at the setting part 10, distributed across three range-finding SEMs 11, 12, and 13 through the transportation system 14, and the line thickness of resist pattern formed on the semiconductor wafers A1, A2, and A3 are automatically measured, concurrently, using the same recipe.
そして、セッティング部１０にセットしたウェーハキャリアＡから３枚の半導体ウェーハＡ１、Ａ２、Ａ３を抜き取り、搬送系１４を介して３台の測長ＳＥＭ１１、１２、１３に振り分け、それぞれ半導体ウェーハＡ１、Ａ２、Ａ３上に形成されたレジストパターンの線幅を同一のレシピを使用して同時並行的に自動測長する。 - 特許庁 - A first dispenser head 12 incorporating a first nozzle 20, and a second dispenser head 14 incorporating a second nozzle 22 are provided, pattern of the bonding pad is recognized using an optical system 18, and then adhesive is dispensed onto a dispense target position in the same columnar section of the substrate by driving the first nozzle 20 and the second nozzle 22 simultaneously.
第一ノズル２０を組み込んでいる第一ディスペンスヘッド１２と、第二ノズル２２を組み込んでいる第二ディスペンスヘッド１４とが設けられ、光学システム１８を用いて接合パッドのパターン認識を行い、第一ノズル２０及び第二ノズル２２を同時に駆動して基板の同一の列状セクションにおけるディスペンス目標位置上へ、接着剤をディスペンスする。 - 特許庁 - In order for the Chinese economy to achieve balanced, sustainable growth from now, there is an urgent need for China to continue strengthening macroeconomic control, advance further efforts to tackle structural issues such as expanding consumer demand resulting from increased incomes among farmers and other reasons, reform of state-owned enterprises, the financial system and social insurance system, while rectifying the growth pattern characterized by an overemphasis on investment. Thus there is a need to continue paying attention to trends concerning the government’s operation of economic policy.
中国経済が今後、持続可能でバランスのとれた成長を達成するためには、マクロコントロールの強化を引き続き堅持し、農民の収入増加等を通じた消費需要の拡大、国有企業改革や金融制度改革、社会保障制度改革等の構造的問題への取組を一層進展させながら、投資偏重の成長パターンを是正していくことが急務となっており、今後とも政府の経済政策運営の動向に注視していく必要がある。 - 経済産業省 - The image forming system and improvement therein for edge blending a composite image displayed by a plurality of configurable display devices in a tiled display system or between the display devices and the surrounding environments, by either modifying one or more light emission characteristics in regions of the composite image adjacent to the gaps, or generating a pattern in the composite image that coincides with the spaces of the gaps so that the visual seam is camouflaged when viewed from a distance.
離れた所から視聴した場合に視覚的な継ぎ目がカムフラージュされるように、合成画像のうちギャップに隣接する領域の１つ以上の発光特性を修正する、またはギャップの間隔に一致するパターンを合成画像中に生成する、ことの少なくとも１つによって、タイル状ディスプレイシステムにおける複数の構成可能なディスプレイデバイスにより、もしくはディスプレイデバイスおよび周辺環境との間により表示される合成画像のエッジ混合のための画像形成システムとその改善方法を提供する。 - 特許庁 - In the data transmission system wherein, at the sending end, control data are added to transmission data, modulated by a predetermined modulation scheme and transmitted as transmission signals and at the receiving end, the control data in the transmission signals are used to detect a reception power strength, a random pattern is used for a reception power detection section where the reception power strength is detected, in the control data.
送信側では、送信データに制御データを付加し、所定の変調方式で変調して送信信号として送信し、受信側では、送信信号中の制御データを用いて受信電力強度を検出するデータ伝送システムにおいて、制御データ中で受信電力強度を検出する受信電力検出区間に、ランダムパターンを用いるようにした。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition solution which allows fine pattern printing by an inkjet system, is curable by active energy beams and low-temperature heating (250°C or below), and has low viscosity despite not containing organic solvents, and to provide a coating film of the photosensitive resin composition obtained from the solution and having good physical properties, and to provide a method for utilizing the same.
本発明の課題は、インクジェット方式で微細パターンの印刷が可能であり、活性エネルギー線及び低温（２５０℃以下）の加熱で硬化可能であって、有機溶媒を含有しないにもかかわらず、低粘度である感光性樹脂組成物溶液及びそれから得られる良好な物性を有する感光性樹脂組成物塗膜、並びに、その利用方法を提供することにある。 - 特許庁
