「patterned」を含む例文一覧(3853)

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  • For example, when a pixel is patterned on a flexible substrate to manufacture a display device, this method is suitably applicable to pixel patterning.
    例えば、可撓性基板上に画素をパターニングして表示装置を製造する場合、画素のパターニングに上記の方法を好適に適用することができる。 - 特許庁
  • The patterned optical shutter and back light layer which match each other have a pixel 'window' formed and an image printed in the background appears and disappears through the window.
    整合したパターン化オプティカル・シャッタおよびバックライト層は、ピクセル「窓」を形成し、この窓を介して、バックグランドに印刷されたイメージは見え隠れできる。 - 特許庁
  • The graft polymer layer 6 is patterned so as to cover the ITO layer 3, and a Cu layer 6 is formed on a surface of the graft polymer layer 6 by plating processing.
    グラフトポリマー層6はITO層3の上を覆うようにパターニングされ、グラフトポリマー層6の表面にCu層6がメッキ処理によって形成される。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a patterned body, by which a laser beam (electromagnetic beam) can be positioned readily with high accuracy.
    本発明は、レーザ光(電磁ビーム)の位置決めを高い精度で、かつ、容易に行うことができるパターン形成体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • METHOD OF MANUFACTURING DOOR FRAME WRAPPED WITH WRAPPING MATRIAL SUCH AS NATURAL GRAINED VENEER, PATTERNED PAPER OR VINYL SHEET, AND DOOR FRAME MANUFACTURED BY THIS METHOD
    天然木目単板、模様紙及びビニールシートなどのラッピング素材でラッピングされたドア枠組みの製造方法及びその方法により製造されるドア枠組み - 特許庁
  • To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity and enabling a patterned thin film excellent in heat resistance to be easily formed.
    高い感放射線感度を有し、耐熱性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a lithographic apparatus and a method for projecting a patterned beam onto a substrate, using a microlens array system capable of adjusting the magnification.
    倍率調整が可能なマイクロレンズアレイ系を用いて、パターンが付与されたビームを基板上へ投影するためのリソグラフィ装置及び方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a photoresist composition, a method for forming a photoresist pattern using the composition, a patterned resin composition, and a method for forming a photolithography.
    フォトレジスト組成物、該組成物を使用したフォトレジストパターンを形成する方法、パターン化樹脂組成物及びフォトリソグラフィーの形成方法を提供する - 特許庁
  • A stripe type patterned adhesion preventive layer 3 is formed on a heat sealant layer 2 (HS layer) which is the constituent layer of the cover tape by photogravure.
    カバーテープの構成層であるヒートシーラント層2(HS層)上に、グラビア印刷法により、ストライプ状のパターンとした密着防止層3を形成する。 - 特許庁
  • To provide a method of easily and enjoyably making an imitation flower even by a person not good at drawing picture or even in the case with a fine-patterned imitation flower.
    本発明は絵の上手な人でなくても、細かい模様を有する造花でも簡単に、楽しく作ることができる造花の作り方を得るにある。 - 特許庁
  • In an alternate embodiment, the dielectric layer is deposited on a first semiconductor layer (64) and is patterned and etched to form dielectric strips (66).
    変形例では、誘電体層を第1半導体層(64)に付着し、これにパターン化及びエッチングを施して誘電体ストリップ(66)を形成する。 - 特許庁
  • In particular, coloring of the first positive resist layer is preferably performed in the state where a patterned second resist layer is formed on the first positive resist layer.
    特に、前記第一のポジ型レジスト層の着色は、その上にパターン形成した第二のレジスト層を形成した状態で行うことが好ましい。 - 特許庁
  • The cleaning step is started within 60 seconds after the resin film 200 has been patterned with the laser ablation unit 4 (after the end of irradiation with the laser beam).
    洗浄工程は、レーザアブレーション装置4による樹脂膜200のパターニング終了後(レーザ光の照射終了後)60秒以内に開始される。 - 特許庁
  • An under etching residual film 20 is eliminated by etching using the resist 16 on which the deposit 18 is stuck as a mask, and a lower electrode material film 12 is patterned.
    堆積物18が付着したレジスト16をマスクとして、エッチングによりアンダーエッチング残膜20を除去し、下部電極材料膜12をパターニングする。 - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR FORMING PATTERNED CONDUCTIVE LAYER ON SUBSTRATE, AND TREATMENT METHOD AND TREATED PRODUCT OF WAFER
    半導体デバイス、半導体基板上にパタ—ン化された導電性層を作成する方法、半導体製造におけるウェハ—基板の処理方法及び処理された製品 - 特許庁
  • The sheet-like member responds to light patterns representing data from a patterned light source to form tactile shapes on its surface.
    このシート状の部材は、パターン化された光源からのデータを表す光のパターンに応答して、部材表面上に触ることのできる形状を形成する。 - 特許庁
  • A red emission layer 11r having positive hole transportation property is patterned by a transfer method above the lower electrode 3 of a part of the pixels.
    次に各画素のうちの一部の画素における下部電極3の上方に、正孔輸送性の赤色発光層11rを転写法によってパターン形成する。 - 特許庁
  • Furthermore, after forming a patterned second electrode 21 on opposing faces of a second substrate 20, the remaining light-emitting function layer 22 of the organic layer is formed.
    また、第2の基板20の対向面上には第2電極21をパターニングして形成した後、その上に有機層の残りの発光機能層22を成膜する。 - 特許庁
  • A beacon interval detecting circuit 31 of the wireless LAN terminal 3 always monitors intervals of the beacon and outputs a detection signal when detecting a patterned beacon.
    無線LAN端末3のビーコン間隔検出回路31はビーコンの間隔を常に監視し、パターン化されたビーコンを検出すると、検出信号を出力する。 - 特許庁
  • A semiconductor region, an insulating region, gate electrode and other wirings, and an intersection of wirings are patterned by the inkjet technology.
    半導体領域、絶縁体領域、ゲート電極および他の配線部、並びに、配線の交差部は特に、インクジェット印刷技術を用いてパターニングされる。 - 特許庁
  • At this time, the holes 13b of the unevenness forming layer 13 are patterned in a polygonal plane shape whose sides 13b' are directed at random.
    この際、凹凸形成層13aの孔13bについては、多角形の平面形状とし、かつ、各々の辺13b′がランダムな方向に向いたパターンとする。 - 特許庁
  • PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERNED FILM, ANTIREFLECTION FILM, INSULATING FILM, OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE USING THE COMPOSITION
    感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス - 特許庁
  • The exposure reference density is set lower to the area having the block mask with the lattice-patterned transmission apertures than that of the other area.
    そして、露光基準密度は、格子状の透過孔を有するブロックマスクのパターンを有するエリアに対して、それ以外のエリアの場合よりも低く設定される。 - 特許庁
  • After a buffer dielectric film 8, a ferroelectric film 9, and gate electrode material 10 are deposited in order over the entire surface, these films and material are patterned to form a gate.
    全面にバッファ誘電体膜8、強誘電体膜9、ゲート電極材料10の順序で形成した後、パターニングすることによりゲートを形成する。 - 特許庁
  • A plurality of driving electrodes 12 defining the transportation path of the micro moving object 14 are patterned inside an insulating layer 8 under the surface of the substrate 2.
    上記基板2の表面下の絶縁層8内に上記微小移動体14の輸送経路を規定する複数の駆動電極12をパターニングする。 - 特許庁
  • Then, a plating resist film for forming column-shaped electrode 23 consisting a negative type dry film resist is patterned on an upper surface of the metal film for forming wiring 7a.
    次に、配線形成用金属膜7aの上面にネガ型のドライフィルムレジストからなる柱状電極形成用メッキレジスト膜23をパターン形成する。 - 特許庁
  • The patterned conductive layer (3) includes a plurality of first and second electrode units (31, 32), and a plurality of first and second conductive lines (33, 34).
    パターン化導電層(3)は、複数の第一及び第二の電極ユニット(31、32)と、複数の第一及び第二の導電線(33、34)とを含む。 - 特許庁
  • An illumination system supplies a series of beams of radiation that are patterned by an array of individually controllable elements and projects the beams through arrays of lenses onto target portions of a substrate.
    照明システムは、個別制御可能の要素のアレイでパターン形成したビームを供給し、ビームをレンズアレイに通して基板の目標部分へ投影する。 - 特許庁
  • Nitride semiconductor layers are grown on the substrate having the recess regions, and the nitride semiconductor layers are patterned to form light emitting cells separated from one another.
    リセス領域を有する基板上に窒化物半導体層が成長され、窒化物半導体層をパターニングし、互いに分離された発光セルが形成される。 - 特許庁
  • Separation within a resist pattern and contact of patterns with each other can be thereby prevented, and also breakage of wires to be patterned and short-circuiting between wires can be prevented.
    レジストパターン内の分離やパターン同士の接触を防止することができ、パターニングする配線の断線や、配線間のショートを防止することができる。 - 特許庁
  • Anisotropic wet etching is applied using KOH aqueous solution via a thermal oxidation film 34 on a patterned upper surface to form a mirror surface 2.
    それから、パターニングされた上面の熱酸化膜34を介して、KOH水溶液を用いて異方性ウェットエッチングを施し、ミラー面2を形成する。 - 特許庁
  • By selectively forming the buffer layer 510 in the region where the thin film active device 90 possesses, the periphery of the patterned buffer layer 510 acts as notches.
    薄膜アクティブ素子90が占める領域部分に選択的にバッファ層510を形成すれば、パターン化したバッファ層510の周囲が切り込みになる。 - 特許庁
  • The metal-contained layer is patterned to form a constituent element of the semiconductor device, and a semiconductor layer is deposited in contact with the metal-contained layer.
    金属含有層をパターン付けして、半導体デバイスの構成要素を形成し、金属含有層と接触させるために半導体層を付着させる。 - 特許庁
  • The end 7 of a pad electrode 4 formed on a semiconductor substrate 1 including a patterned interlayer insulation film 3 is covered by a plated layer 5 without leaving any space in-between.
    パターニングされた層間絶縁膜3を含む半導体基板1上に形成されるパッド電極4の端部7をメッキ層5で隙間なく被覆する。 - 特許庁
  • The covering layer prevents contamination from entering the projection system, while allowing patterned EUV radiation to pass from the projection system onto a substrate.
    被覆層は、汚染が投影システムに入ることを防止する一方、パターン付きEUV放射が投影システムから基板上に移ることを可能とする。 - 特許庁
  • One common piezoelectric film layer 34 which may or may not be not patterned forms one continuous or discontinuous film.
    パターン化されていることもされていないこともある1つの共通の圧電薄膜層34は、1つの連続する又は連続しない薄膜を形成する方法。 - 特許庁
  • To provide an etching apparatus which can form a circuit excellent in accuracy without forming any solution pool on an upper surface of a printed circuit board patterned by a dry film.
    ドライフィルムによりパターニングされた回路基板の上面に液溜りすることなく、精度に優れた回路を形成できるエッチング装置を提供すること。 - 特許庁
  • The patterned layer of a sacrificial substance is formed in a first electrode layer in a manner that makes the area of the first electrode layer is exposed by a subsequent layer.
    犠牲物質のパターン化された層は、第一電極層の領域が後続する層により露出されるようにして第一電極層に形成される。 - 特許庁
  • To provide a composition facilitating direct forming of a patterned polymer film and forming a conjugated polymer film exhibiting a high luminous uniformity.
    パターン化されたポリマー膜の直接成膜を容易にし、高い発光均一性を示す共役ポリマー膜を成膜することができる組成物を提供する。 - 特許庁
  • As a result, the edge portions 28 of the negative type colored photosensitive resin patterns 11 which are light shielding layers are patterned and formed to a perpendicularly or inwardly tapered shape.
    これにより、遮光層となるネガ型着色感光性樹脂パターン11のエッジ部分28を垂直状あるいは内向きのテーパー状にパターン形成する。 - 特許庁
  • A photoresist film 12 is applied to the surface of a silicon substrate 10 of Fig (a) as shown by Fig (b) and patterned in a photolithographic process to form a resist mask 12 as shown by Fig (c).
    図1(a)のシリコン基板10の表面に、(b)のようにフォトレジスト膜12を塗布し、フォトリソグラフィ工程によりレジストマスク12をパターニングする(c)。 - 特許庁
  • A method detects a cycle slip in a data string read from a bit patterned medium and adjusts the data string to compensate for the cycle slip.
    ビットパターン媒体から読み出されたデータストリング内のサイクルスリップを検出し、データストリングを調節してサイクルスリップを補償する方法が開示される。 - 特許庁
  • To provide a continuous and highly uniform silica meso-structure thin film having a uniaxially oriented pore structure patterned on an arbitrary position on a substrate.
    基板上の任意の位置に一軸配向性の細孔構造を有する連続性、均一性の高いパターニングされたシリカメソ構造体薄膜を提供する。 - 特許庁
  • To provide an optical system for capturing an image of high contrast and low distortion from a patterned object (PO) of which image is captured.
    映像キャプチャーしようとする模様が形成されている物体(PO)よりハイ・コントラスト、ロー・歪みの映像をキャプチャーするための光学システムを提供する。 - 特許庁
  • An article comprises: a substrate; and a patterned lubricious coating comprising a dot matrix pattern on at least a portion of the substrate.
    物品であって、基材;および該基材の少なくとも一部分の上にドットマトリックスパターンを構成するパターン付けされた潤滑性コーティング、を備える、物品。 - 特許庁
  • At least either one of first or second insulating film is made of a photosensitive material and patterned through exposure, development, etc.
    また、前記第1の絶縁膜または第2の絶縁膜の少なくともいずれか一方の材料を、感光性材料とし、露光,現像などによりパターン形成する。 - 特許庁
  • To provide a method for wet cleaning which demonstrates proficient cleaning on CoWP exposed patterned wafers while maintaining CoWP integrity.
    CoWPが露出したパターン化ウェハを、CoWPの完全性を維持したままで洗浄することのできる優れた湿式洗浄方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a novel patterned glass article which is improved in properties required for building materials and has a high-grade appearance, and to provide a method for producing the glass article.
    建築材料に必要な特性を向上させた、高級感のある新規な外観を有する模様入りガラス物品とその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Many point materials are pressed against a coated steel plate to give many linear stripes, and then the plate is dried and plated to form a hairline-patterned coated steel plate.
    塗料を塗布した鋼板に、多数の尖頭材を押し付けて多数の線条筋を付した後、乾燥焼付けてなるヘアライン調塗装鋼板とした。 - 特許庁
  • To make a margin large for misalignment when a resist layer is patterned for formation of a contact or to lessen cells in size.
    コンタクト形成のためのレジストパターニング時の合わせずれに対する余裕度を大きくし、あるいはセルサイズを縮小できる半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁
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