「patterned」を含む例文一覧(3854)

<前へ 1 2 .... 35 36 37 38 39 40 41 42 43 .... 77 78 次へ>
  • To make a margin large for misalignment when a resist layer is patterned for formation of a contact or to lessen cells in size.
    コンタクト形成のためのレジストパターニング時の合わせずれに対する余裕度を大きくし、あるいはセルサイズを縮小できる半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁
  • When the colored photosensitive resin composition is patterned, a colored pattern (5) is formed and a color filter (6) can be produced.
    本発明の着色感光性樹脂組成物をパターンニングすることによって着色パターン(5)を形成して、カラーフィルター(6)を製造することができる。 - 特許庁
  • The lithographic apparatus has an illumination system that supplies a projection beam of radiation, which is patterned using a patterning system.
    リソグラフィ装置は、放射線の投影ビームを供給する照明システムを有し、この投影ビームには、パターン形成システムを使用してパターンが形成される。 - 特許庁
  • GRAVURE PRINTING PLATE, REFLECTOR WITH PATTERNED REFLECTING LAYER FORMED BY EMPLOYING IT, DEVICE WITH REFLECTOR FORMED THEREON AND MEDIUM EMPLOYING WITH REFLECTOR
    グラビア印刷版及びそれを用いたパターン反射層を有する反射体及びこの反射体が形成されるデバイス及びこのデバイスを用いた媒体 - 特許庁
  • The metabollized layer M and the plated layer P on the surface of the ceramic base are patterned with an element mounting pattern of a specified shape by a photolithography method.
    このセラミックベース表面のメタライズ層M及びメッキ層Pをフォトリソグラフィ工法によってパターニングして所定形状の素子実装パターンを形成する。 - 特許庁
  • To provide a repair method of a decorative sheet, which can repair a wide range of a transfer decorative patterned decorative sheet without odd pattern feelings.
    転写法による装飾絵柄を施した化粧板を、絵柄と違和感無しに広い範囲を補修できる化粧板の補修方法を提供する。 - 特許庁
  • An erosion-and-falling-patterned part 5A is formed in a recessed shape from one side of a top surface of a protrusive block 5 which forms a block-like pattern of a surface of the building board 1.
    建築板1表面のブロック調模様を形成する凸ブロック5の上面の一辺から侵蝕崩落様部分5Aを凹陥形成する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a patterned metallic plate capable of forming the satin finished surface having various patterns on a surface of the metallic plate in a small lot unit.
    金属板の表面に種々の模様を有する梨地を、小ロット単位で形成することが可能な模様付金属板の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a radiation-sensitive resin composition which has high radiation sensitivity and enables a patterned thin film excellent in adhesion to be easily formed.
    高い感放射線感度を有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
  • The grain-patterned structural material is produced by applying a coating to the surface of the structural material A, scratching the coating in a half-dried state with a brush-like implement, applying a protective coating on the upper surface of the resultant product and drying.
    構造材Aの表面に塗料を塗り、塗料が半乾きの状態でハケ状物で掻取り、その上面に保護塗装をし、乾燥させる。 - 特許庁
  • To provide a patterned eaves gutter which allows its portion being visible form the outside to be decorated, with a simple structure, to thereby harmonize the eaves gutter with the other component parts of a building.
    簡単な構成で軒樋の外から見える部分を化粧できて建築物の他の構成部材に対して違和感のないようにできる。 - 特許庁
  • To provide a magnetic recording medium having a high recording density data area formed of a patterned medium made of a self organizing material and having a high precision servo area.
    自己組織材料によるパターンドメディアにより作成した高記録密度のデータ領域と、高精度のサーボ領域とを備える磁気記録媒体の提供。 - 特許庁
  • PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERNED FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE, AND SOLID-STATE IMAGE PICKUP DEVICE USING THE COMPOSITION
    感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁
  • A step of assembling the HDD S530 makes the HDD by assembling the plurality of head groups and the plurality of patterned media according to a prescribed rule.
    HDD組み立て工程S530では、複数のヘッド集団と複数のパターン媒体とを所定の規則に従って組み合わせてHDDを製造する。 - 特許庁
  • To provide an inexpensive double side-patterned towel improved in recognizability and high-grade feeling due to double side patterns, and treatable without discrimination between the front and rear surfaces.
    廉価であり、両面模様による識別性や高級感の向上を図るとともに表裏の区別を不要とする取り扱いを行うことを可能とする。 - 特許庁
  • To provide a step difference measuring instrument and a step difference measuring method for measuring a step difference easily and precisely, as to a substrate patterned with a light transmitting mask.
    光を透過するマスクがパターンニングされた基板について、簡易に精度よく段差を測定する段差測定装置および段差測定方法を提供する。 - 特許庁
  • Stack polysilicon films 7 are patterned, and dummy patterns 8 are formed in a part where a shallow contact hole 12 is opened so that they surround the contact hole 12.
    スタックポリシリ膜7をパターニングすると同時に、浅いコンタクトホール12を開口する部分にコンタクトホール12を囲うようにダミーパターン8を形成する。 - 特許庁
  • The thin film layer is patterned by a two-dimensional periodic pattern consisting of many prisms of the same shape to form a thin film pattern layer 12.
    この薄膜層を、同一形状の多数の角柱からなる2次元的な周期的パターンによりパターニングして、薄膜パターン層12を形成する。 - 特許庁
  • The apparatus can be configured so as to rinse the immersion space 10 substantially and continuously until the patterned radiation beam is projected onto the substrate.
    基板に対してパターンの付いた放射ビームを投影するまで実質的に継続して液浸スペース10をリンスするよう構成することができる。 - 特許庁
  • A silicon oxide film 5 is formed on a semiconductor substrate (SOI substrate) 1 as a mask member and is patterned such that a trench formation portion is opened.
    半導体基板(SOI基板)1にマスク材となるシリコン酸化膜5を成膜するとともに、同膜5をトレンチ形成部が開口するようにパターニングする。 - 特許庁
  • Subsequently, the third patterned layer of the sacrificial substance has an opened portion due to the exposed area of the first electrode layer and formed in the second electrode layer.
    次いで、犠牲物質の第三のパターン化された層は、第一電極層の露出された領域による開口部を備えて、第二電極層に形成される。 - 特許庁
  • Then, after the first oxide film 41 is patterned into a first bottom film 24 (FIG. 2(b)), a second oxide film 42 is formed over the first polysilicon layer 40 (FIG. 2(c)).
    そして、第1酸化膜41を第1ボトム膜24にパターニングした後(図2(b))、第1ポリシリコン層40の上に第2酸化膜42を形成する(図2(c))。 - 特許庁
  • A matrix type electrode substrate for touch panel sensor includes a substrate 1, and first and second transparent electrodes 2 and 4 patterned on the substrate 1.
    タッチパネルセンサ用マトリックス型電極基板は、基板1と、基板1上にパターニングされた第1透明電極2と第2透明電極4を備えている。 - 特許庁
  • Then, the resist pattern 38 is subjected to turning into liquid repellent, and the thin film 28 is patterned by wet etching by using the resist pattern 38 treated to become liquid repellent as a mask.
    そして、レジストパターン38を撥液化処理して、撥液化処理が施されたレジストパターン38をマスクにして、薄膜28をウエットエッチングによりパターニングする。 - 特許庁
  • To provide a patterned knitted fabric in which one of patterns ranged from a simple pattern to a specific pattern can easily be formed by a simple structure, and provide a method for knitting the fabric.
    簡素な構成により、平易な柄から特異な柄に至るまで容易に形成される柄付き編地およびその編成方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method by which a fine and homogeneous metallic oxide film can be easily and continuously patterned, even when the film is of a continuous length or a large area.
    長尺あるいは大面積フィルムであっても、緻密で均質な金属酸化物膜のパターン化を簡便かつ連続的に実現できる方法を提供する。 - 特許庁
  • Also, the lithography system has a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting a patterned beam on a target portion of the substrate.
    また、リソグラフィ装置は、基板を保持するための基板テーブルと、パターン形成されたビームを基板の標的部分に投射するための投影システムとを有している。 - 特許庁
  • The lens form of a second microlens array 7 having a cylindrical shape is patterned by irradiating a first microlens array 4 with UV rays.
    シリンドリカル形状をした第2マイクロレンズアレイ7のレンズ形状のパターニングを、第1マイクロレンズアレイ4に紫外光を照射することにより行う。 - 特許庁
  • Since the wiring circuit 14 is patterned directly on the casing portion 15 by pressing, the instrument panel module 1 can be inexpensively manufactured.
    配線回路14は、筐体部15にプレス加工により直接パターン形成されるため、安価にインストルメントパネルモジュール1を製造することができる。 - 特許庁
  • Subpixel electrodes 20a are patterned in a matrix formation on a surface of a transistor array panel 50, and metal barrier ribs W are grown up between the subpixel electrodes 20a.
    トランジスタアレイパネル50の表面にサブピクセル電極20aをマトリクス状にパターニングし、サブピクセル電極20aの間に金属隔壁Wを成長させる。 - 特許庁
  • This method further comprises a step of scanning the patterned surface with at least one second laser beam 268 in relation with the first laser beam.
    また、この方法は、さらに、第1レーザービームとの関連において、少なくとも一つの第2レーザービーム268でパターン付き表面を走査する工程を有している。 - 特許庁
  • After this molded film is inserted in a mold 14 by a molded film feed apparatus 50, a resin is supplied to obtain a patterned molded article.
    そして、この成形フィルムを成形フィルム搬送装置50により成形型14に挿入した後に樹脂を供給し、絵付きの成形品を得る。 - 特許庁
  • After patterning the silicon oxide layer in accordance with a gate electrode pattern, the polysilicon layer is patterned by dry-etching using a remaining resist layer as a mask.
    シリコンオキサイド層をゲート電極パターンに従ってパターニングした後、残存するレジスト層をマスクとするドライエッチングによりポリシリコン層をパターニングする。 - 特許庁
  • Suzakumon Gate was the main gate built on the southern end of Imperial Palaces (called daidairi) in ancient Japanese cities, such as Heijo-kyo (capital of Japan in Nara from 710 to 740 and from 745 to 784) and Heian-kyo (capital of Japan in Kyoto from 794 to 1868) that had grid-patterned city layouts.
    朱雀門(すざくもん)は、古代、平城京や平安京といった条坊制の宮城(大内裏)において南面する正門。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • In the liquid crystal display, a common electrode 2 is patterned into a first common electrode 2a for odd-numbered pixels and a second common electrode 2b for even-numbered pixels.
    共通電極2が、奇数番号の画素用の第1共通電極2aと偶数番号の画素用の第2共通電極2bとにパターニングされている。 - 特許庁
  • The stress buffer layer 105 is patterned with a laser to thereby activate the filler, and the laser ablation path can then be selectively metalized.
    応力緩衝層105は、レーザでパターン化され、これにより、充填材が活性化され、次いで、レーザ切削経路が選択的に金属化されることが可能である。 - 特許庁
  • Then a resist layer 15 is applied onto the polysilicon layer 13 and patterned, and dry etching is carried out, by using the resist layer 15 as a mask to form a polysilicon gate electrode G.
    その後、ポリシリコン層13上にレジスト層15を塗布し、パターニングし、レジスト層15をマスクにドライエッチングすることによりポリシリコンゲート電極Gを形成する。 - 特許庁
  • The 1st and 2nd metal-containing films are patterned to form 1st and 2nd gate electrodes in the 1st and 2nd impurity type transistor regions.
    第1及び第2金属含有膜をパターニングして第1及び第2不純物型トランジスタ領域に各々第1又は第2ゲート電極を形成する。 - 特許庁
  • Then the insulating layer is etched using the patterned resist as a mask to form a second groove corresponding to the outline of the main magnetic pole auxiliary layer.
    次にパターンニングされたレジストをマスクとして絶縁層をエッチングすることにより、主磁極補助層の外郭に対応した第2の溝を形成する。 - 特許庁
  • To provide a photoresist composition, which is rapidly cured by irradiation with active energy beams and a method for forming a patterned photoresist film, using the composition.
    活性エネルギ線の照射で素早く硬化するフォトレジスト組成物、およびそれを用いたパターン化されたフォトレジスト膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
  • The intermediate layer 20 and the cathode side electrode 14 can be formed by screen printing using a patterned screen, e.g.
    このような中間層20及びカソード側電極14は、例えば、パターン化されたスクリーンを用いるスクリーン印刷によって形成することが可能である。 - 特許庁
  • The plastic is patterned by the first film and the second film left on a part of the area on the surface to manufacture plastic small structural bodies.
    第1の膜と、その表面の一部の領域上に残っている第2の膜とにより、プラスチックの型取りを行い、プラスチック製の微細構造体を作製する。 - 特許庁
  • As a result, since the route of the silver electrode section 27 patterned in an S-shape section 17 can be shortened, the amount of the silver electrode section 27 can be reduced.
    これにより、S字部17にパターニングされた銀電極部27の経路を短くすることができるので、銀電極部27の量を低減することができる。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a silicon carbide film capable of obtaining a patterned carbide silicon film without etching the silicon carbide film having difficulty in etching.
    エッチングが困難な炭化シリコン膜をエッチングすることなく、パターニングされた炭化シリコン膜を得ることが可能な炭化シリコン膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The patterned perpendicular magnetic recording medium has magnetic islands 52 that contain stacks of a plurality of individual magnetic cells 22 and 32 to provide multilevel recording.
    パターン状垂直磁気記録媒体は、多重レベル記録を可能にする積重なった複数個の個別磁気セル22,32を含む磁気の島52を有する。 - 特許庁
  • LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING PATTERNED COLOR FILTER LAYER AND OPTICAL ANISOTROPIC LAYER, METHOD FOR MANUFACTURING THE DEVICE, AND COLOR FILTER SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SUBSTRATE
    パターン状のカラーフィルタ層と光学異方性層とを有する液晶表示装置、及びその製造方法、ならびにカラーフィルタ基板及びその製造方法 - 特許庁
  • The method includes a step of using patterned photoresist masks and a step of etching regions or portions of an elastomeric layer of the elastomeric block.
    この方法は、パターンの付いたフォトレジストマスクを使用する工程およびエラストマーブロックのエラストマー層の領域または一部をエッチングする工程を包含する。 - 特許庁
  • The negative type feature of an exposed and developed positive type electron beam resist is reversed to positive type feature in a patterned silicon nitride layer of the nanoinprinting original plate.
    露光、現像したポジ型電子ビームレジストのネガ型特徴を、ナノインプリンティング原版のパターン化窒化ケイ素層におけるポジ型特徴に反転する。 - 特許庁
  • The laminated composite electrode (12) is provided with a porous carrier electrode layer (20), a thin patterned structure layer 22 (22), and a thin and highly dense electrolyte layer (24).
    積層複合電極(12)は、多孔質担体電極層(20)、薄いパターン化構造層22(22)、および薄く高密度な電解質層(24)を備える。 - 特許庁
  • The interlayer films under the resist film are patterned with the resist film as a mask, by which contact holes and the ruggedness of the interlayer film surfaces are formed simultaneously in the interlayer films.
    このレジスト膜をマスクとしてレジスト膜下の層間膜をパターニングして層間膜にコンタクトホールと層間膜表面の凹凸とを同時に形成する。 - 特許庁
<前へ 1 2 .... 35 36 37 38 39 40 41 42 43 .... 77 78 次へ>

例文データの著作権について