「patterned」を含む例文一覧(3853)
＜前へ 1 2 .... 47 48 49 50 51 52 53 54 55 .... 77 78 次へ＞- A film 2 one side of which has an uneven pattern part 3 is laminated on the surface of the patterned nonwoven fabric 1 impregnated with the resin so that the pattern part 3 contacts the nonwoven fabric 1.
この模様付けした樹脂含浸不織布１の表面に、片面が凹凸模様部３を有するフィルム２を凹凸模様部３側が樹脂含浸不織布１側となるようにして積層する。 - 特許庁 - The manager side extracts a display patter corresponding to the patterned status by referring to a status display table 112 and displays the extracted patter on a pseudo office environment realized on a display device 12.
管理者側では、状況表示テーブル112を参照して類型化された状況に対応する表示パターンを抽出して表示装置12上に実現される擬似オフィス環境に表示する。 - 特許庁 - Accordingly, the plurality of light source devices arrayed on the board face 1 emit light and, thereby, it seems that the light-source exposing type signboard itself emits light in a shape of letters or figures patterned on the board face 1.
そして、盤面１上に配列された複数の光源装置が発光することにより、光源露出型看板自体が、盤面１の象った文字や図形形状に発光したように見える。 - 特許庁 - To improve accuracy of image retrieval in log information based on an output image printed on a medium such as a colored or patterned sheet or a sheet with characters or graphics printed thereon.
色や模様の付いた用紙、文字や図形が既に印刷されている用紙等の媒体に対して印刷出力を行った場合に、出力画像に基づく、ログ情報の画像検索の精度を向上させる。 - 特許庁 - The dielectric layer is patterned, the first electric conductive layer of the region is exposed where a third fuse element (F3) is arranged, while leaving a dielectric layer (4i) in the region where a second fuse element (F2) is arranged.
誘電体層をパターニングし、第２ヒューズ素子（Ｆ２）が配置される領域に誘電体層（４ｉ）を残すと共に、第３ヒューズ素子（Ｆ３）が配置される領域の第１導電層を露出させる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an EL element through photolithography method preventing mixing of colors between an edge portion of a patterned light-emitting part and a different light-emitting layer deposited thereon afterwards, and preventing pixels from getting narrower.
パターン形成された発光部のエッジ部分と後に積層する異なる発光層との混色を防止し、画素細りを防止するフォトリソグラフィー法によるＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for joining two substrates each other using a joining film patterned in a fine pattern at low cost, and a joined body including a joining film joined by the same.
２つの基材同士を、低コストで微細な形状にパターニングされた接合膜で接合する接合方法、かかる接合方法で接合された接合膜を備える接合体を提供すること。 - 特許庁 - For barrier metals 18 and 19, a photoresist PR1 is let sag and is sputtered and is patterned to be thinner as it goes to the periphery of the barrier metal 18, and a protective sheet 20 is stuck, and the back is grounded.
バリアメタル１８、１９は、ホトレジストＰＲ１をダレさせてスパッタリングし、バリアメタル１９の周辺に向かうに連れて薄くなるようにパターニングした後に、保護シート２０を貼り合わせてバックグラインドする。 - 特許庁 - To obtain a Zener diode in which Zener zapping can be performed stably even when an epitaxial layer is made thin or elements are patterned finely and a semiconductor device having such a Zener diode.
エピタキシャル層の厚さを薄くしたり、素子を微細化した場合でも安定してツェナーザッピングを行うことができるツェナーダイオードおよびこのようなツェナーダイオードを有する半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal device wherein an underground organic film is made not to be corroded by an organic solvent when a retardation layer is patterned on a substrate on which the organic film is formed and to provide a manufacturing method thereof.
有機膜が形成された基板に位相差層をパターニングする際に有機溶剤によって下地の有機膜が侵食されないようにした液晶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - This sensor has a first substrate having a first driving pattern and a first pickup pattern on its upper and lower surfaces respectively, and magnetic bodies laminated upon the upper and lower surfaces of the first substrate and patterned in prescribed forms.
上下両面に第１ドライビングパターン及び第１ピックアップパターンが形成された第１基板と、該第１基板の上下両面に積層され、所定の形態にパターン化された磁性体が形成される。 - 特許庁 - An etching solvent 13 is placed on the substrate 10 and a light 15 which is patterned by using a mask 17 from a parallel light source 19 is emitted to the etching solvent 13, thereby manufacturing the acoustic lens.
特に、エッチング溶剤１３を基板１０上に載せ、平行な光源１９からマスク１７を用いて作ったパターン化した光１５を、エッチング溶剤１３に照射して、音響レンズを製造する。 - 特許庁 - To provide a method for making a patterned magnetic recording medium that includes a step of completely peeling etching resist on a magnetic layer having been used for etching the magnetic layer without causing magnetic characteristics of the magnetic layer to deteriorate.
磁性層のエッチングに使用した磁性層上のエッチングレジストを、磁性層の磁気特性を劣化させること無く完全剥離する工程を含むパターン化磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - After the bonding point is set to the coordinate value of the island corresponding to the patterned position set to the selection state, and the effect of the bonding to the coordinate value is stored in the memory device (S5), the bonding is conducted.
選択状態に設定されたパターン化位置に対応するアイランドの座標値にボンディングポイントを設定し、この座標値にボンディングする旨を記憶装置に記憶した後（Ｓ５）、のボンディングを行う。 - 特許庁 - A major surface of a transparent substrate 11 made of quartz, calcium fluoride or the like transparent to exposure light has recesses patterned by engraving the surface, and a light shielding film 12 is disposed in the recess.
露光光に対して透明な石英やフッ化カルシウムなどの透明基板１１の主面に掘り込み形成された凹部がパターニングされており、この凹部に遮光性膜１２が設けられている。 - 特許庁 - The patterning device can give a pattern to the section of an radiation beam to form a patterned radiation beam, and the support has a support clamp structured to clamp the patterning device onto the support.
パターニングデバイスはパターン化された放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを与えることができ、支持体はパターニングデバイスを支持体にクランプするように構成された支持クランプを含む。 - 特許庁 - The liquid crystal display device further includes a first metal layer 72 deposited on the gate insulating film 15 and patterned to provide a gate electrode 16 on the gate insulating film 15 opposed to a polysilicon layer 11 of parts becoming thin film transistors 4, 5.
ゲート絶縁膜15上に成膜した第１の金属層72をパターニングして、薄膜トランジスタ４,５となる部分のポリシリコン層11に対向したゲート絶縁膜15上にゲート電極16を設ける。 - 特許庁 - The 1st and 2nd lens arrays are mutually offset in a lateral direction by half the lens pitch so that the spot of S-polarized light may alternate with the spot of P-polarized light in a patterned retarder.
第１および第２レンズアレイはレンズピッチの半分だけ互いに横方向にオフセットしており、パターン化リターダにおいてＳ偏光のスポットがＰ偏光のスポットと互い違いになるようになっている。 - 特許庁 - To provide a foaming sugar-coated food patterned with mottles sustaining a foaming feeling over a long period of time, and having a good texture, excellent durability, and further a visual impact, and to provide a method for producing the same.
発泡感が長く持続し、かつ食感が良好で、耐久性にも優れ、かつ視覚的インパクトも備えた斑模様入り発泡性糖衣食品及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - By an ion implantation method using the patterned resist film FR2 as a mask, argon (Ar^+)is introduced to the polysilicon film PF1 in an exposed n-channel type MISFET formation region NTR.
その後、パターニングしたレジスト膜ＦＲ２をマスクにしたイオン注入法により、露出しているｎチャネル型ＭＩＳＦＥＴ形成領域ＮＴＲのポリシリコン膜ＰＦ１にアルゴン（Ａｒ^＋）を導入する。 - 特許庁 - A semiconductor layer 20 and the metal layer 22 are patterned by etching through the etching resist 28 to form wiring 30 from the metal layer 22, and a part under the wiring 30 of the semiconductor layer 20 is left as it is.
エッチングレジスト２８を介して、半導体層２０及び金属層２２をエッチングによってパターニングして、金属層２２から配線３０を形成し、半導体層２０の配線３０下の部分を残す。 - 特許庁 - To provide: a photosensitive resin composition which has high photoreactivity, can be patterned and can form a film with high hydrophobicity and excellent dielectric properties; a thin film of the composition; and a pattern forming method.
光反応性が高くパターニングが可能であるとともに、疎水性が高く誘電特性に優れる被膜を形成できる感光性樹脂組成物とその薄膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrochromic composition which has favorable handleability and can be patterned by various coating methods, and an electrochromic element using the composition which is superior in productivity and free from liquid leakage.
ハンドリング性が良好であり、様々な塗布法によるパターン形成が可能なエレクトロクロミック組成物及びこの組成物を用いた生産性に優れた漏液の少ないエレクトロクロミック素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a laminate manufacturing method capable of suppressing a metal residue from occurring during etching processing and acquiring a laminate having a plating film including patterned copper excellent in linearity and adhesion.
エッチング処理時における金属残渣の発生が抑制されると共に、直線性、および、密着性に優れるパターン状銅含有めっき膜を有する積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - At least one organic EL layer constituting an EL element is patterned by a photo lithography method.
上記目的を達成するために、本発明は、ＥＬ素子を構成する少なくとも1層の有機ＥＬ層を、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることを特徴とするＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - In one embodiment, a photosensitive cladding layer is exposed by chemical rays that transmit a first gray scale mask, is patterned, thereafter, is developed to define a groove having the curved major bottom surface within a layer.
一実施例では、感光性クラッディング層が、第１グレースケールマスクを通過した化学線にさらされてパターニングされ、その後に現像され、湾曲した主底面を有する溝を層内に規定する。 - 特許庁 - The insulating film 6 and the conductive film 5 are sequentially etched as a resist pattern 7 as a mask, a patterned insulating film 8 and the laminate of a gate electrode 9 of the high breakdown voltage transistor are formed.
レジストパターン７をマスクとして絶縁膜６および導電膜５が順次エッチングされ、パターニングされた絶縁膜８および高耐圧トランジスタのゲート電極９の積層体が形成される。 - 特許庁 - Then, the polycrystalline silicon film is patterned, a booster plate 22 is formed, and an etching stop layer 22a is formed on the upper face of each diffused layer region 16b of the drain side selection gate 16A.
そして、その多結晶シリコン膜をパターニングして、ブースタープレート２２を形成するとともに、ドレイン側選択ゲート１６Ａの各拡散層領域１６ｂの上面にエッチングストップ層２２ａを形成する。 - 特許庁 - Afterwards, a gate oxide film 8 is formed on the main surface side of the semiconductor layer 3, a polysilicon film is deposited on the gate oxide film 8, and a patterned gate electrode 9 is formed by utilizing a mask (Figure 1 (b)).
その後、半導体層３の主表面側にゲート酸化膜８を形成し、ゲート酸化膜８上にポリシリコン膜を堆積させ、マスクを利用しパターニングされたゲート電極９を形成する（図１（ｂ））。 - 特許庁 - A patterning device for the mask etc., used for a photolithographic apparatus includes a blank layer, a layer of patterned opaque materials existing on the surface of the blank layer and a pellicle of perfluoropolyether (PFPE) liquid covering the surface.
フォトリソグラフィ装置に使用するマスクなどのパターニング・デバイスは、素材層と、素材層の表面上にあるパターン状不透明材料の層と、表面を覆う過フルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）液のペリクルとを含む。 - 特許庁 - A plurality of circuit components 3, 4 are mounted on the dielectric substrate 2, and connected by using many transmission lines 5 different in length which are patterned and formed on the substrate 2.
誘電体基板２に複数の回路部品３，４を実装するとともに、これらが誘電体基板２にパターン形成された線路長を異にする多数の伝送線路５によって接続されてなる。 - 特許庁 - When a patterned thin film is formed using a photoresist method; one surface of the thin film 200 before the patterning is treated by a treating solution 300 containing lactate, and then a photoresist mask is formed.
フォトレジスト法を用いてパターン化された薄膜を形成するに当たり、パターン化前の薄膜２００の一面を、乳酸エステルを含有する処理液３００で処理し、その後に、フォトレジストマスクを形成する。 - 特許庁 - To provide a resin composition for producing artificial marble which does not necessitate reinforcement with glass fibers nor reinforcement on the back, is patterned and has a high impact strength.
ガラス繊維による補強や裏面補強を行なうような必要なく、柄材入りで且つ耐衝撃強度が高い人造大理石を製造することができる人造大理石製造用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - After a thin film layer 14 having a predetermined shape is deposited on the ceramic layer 12 by using a focused ion beam system, the ceramic layer 12 is patterned by etching using the thin film layer 14 as a mask.
このセラミック層１２上に、集束イオンビーム装置を用いて所定形状の薄膜層１４を堆積した後、この薄膜層１４をマスクとして、エッチングによりセラミック層１２をパターニングする。 - 特許庁 - The method for knitting the patterned knitted fabric comprises changing the tension applied to the fed knitting yarn with a tension-changing device 30 during the knitting operation, thus forming the pattern comprising loop length-different portions in the knitted fabric.
その編成方法は、張力変動装置３０により編成中に編糸Ｙの給糸張力を変動させることによって、ループ長の異なる部分からなる柄を編地に形成するものである。 - 特許庁 - A thermally assisted recording (TAR) bit patterned media (BPM) magnetic recording disk drive utilizes optical detection of a synchronization field for write synchronization and optical detection of the servo sector for read/write head positioning.
熱アシスト記録（ＴＡＲ）ビットパターンメディア（ＢＰＭ）磁気記録ディスクドライブは、書き込み同期のための同期フィールドの光検出と、読み込み／書き込みヘッド位置決め用サーボセクタの光検出を利用する。 - 特許庁 - The patterned beam PB of radiation includes a pattern for forming device features in areas of a product die and a pattern for use in forming features of an alignment mark 101 in other areas.
放射線のパターン形成ビームＰＢは、製品ダイの領域にデバイス・フィーチャーを形成するためのパターン、および他の領域にアラインメントマーク１０１のフィーチャーを形成する際に使用するパターンを含む。 - 特許庁 - A lithography apparatus comprises a masking device for covering at least a part of patterning means used for patterning a projected beam, before image formation of a patterned beam is performed on a substrate.
パターン化されたビームを基板上に結像する前に投影ビームをパターン化するために使用されるパターン化手段の少なくとも一部を覆い隠すためのマスキング・デバイスを有するリソグラフィ投影装置。 - 特許庁 - To provide a connector which has minutely and complex patterned wiring parts and with which required electrical characteristics can be accomplished and provide its manufacturing method and a circuit device inspecting adaptor device equipped with the connector.
微細で複雑なパターンの配線部を有し、所要の電気的特性が達成されるコネクターおよびその製造方法並びにこのコネクターを具えた回路装置検査用アダプター装置を提供すること。 - 特許庁 - The cell gate-insulating film 14 is patterned to leave the film 14 on a first region of a cell array region a and expose a second region of a cell array region a and a peripheral circuit region b.
セルゲート絶縁膜１４をパターニングしてセルアレイ領域ａの第１領域上にセルゲート絶縁膜１４を残して、セルアレイ領域ａの第２領域及び周辺回路領域ｂを露出させる。 - 特許庁 - The signal is inputted to the amplifying circuit not through any capacitor, so the waveform has no variation even if a difference in continuance between its low and high level is present, thereby the striped patterned flicker of video is eliminated.
信号はコンデンサを介さずに増幅回路に入力されるので、ローレベルとハイレベルの継続時間に差があっても波形の変化は発生せず、映像の縞模様やチラツキを解消できる。 - 特許庁 - In the circuit unit 12, for example, five circuit boards 19 are stacked; and a patterned foil circuit 21 is placed on a resin plate 20 molded by, for example, injection molding, on each circuit board 19.
回路ユニット１２は例えば５枚の回路基板１９が積層され、各回路基板１９は例えば射出成型により成型された樹脂プレート２０上に、パターンの箔回路２１が載置されている。 - 特許庁 - On the other hand, each of the second light-transmissive electrodes 4 arrayed in a direction orthogonal to the surface of paper is coupled via connections parts 5 patterned integrally with the second light-transmissive electrodes 4.
一方、紙面と直交する方向に整列する第２の透光性電極４の各々は、第２の透光性電極４と一体的にパターニングされる接続部５を介して連結されている。 - 特許庁 - In this detection chip, a liquid-permeable spacer 2 with molecules 1 having a molecule recognizing function fixed thereto is patterned on a substrate 3 so as to serve as a flow path 6 for a liquid sample.
分子認識機能を有する分子１が固定された液浸透性スペーサ２が、液体試料用の流路６となるように基板３上にパターニングされていることを特徴とする検出チップ - 特許庁 - The result is a superconducting wire rod which includes a magnesium diboride-containing superconducting core and a metal tube covering the superconducting core, the superconducting core in its cross section having mesh-patterned voids extending in the lengthwise direction.
二ホウ化マグネシウムを含む超電導芯と、前記超電導芯を覆う金属管とを有し、超電導芯は断面に長手方向に伸びる網目状のボイドを有する超電導線材となる。 - 特許庁 - This method of manufacturing electrical machines which comprises geometrically patterned arrays of permanent magnets, soft magnetic materials, and electrical conductors deposited by kinetic spraying methods directly on a carrier 24.
運動噴霧法によりキャリアー24の上に直接堆積させられる、永久磁石、軟質磁性材料及び導電体の、幾何学的にパターン印刷された配列からなる、電気機械を製造する方法である。 - 特許庁 - A patterned first polycrystalline silicon 102 is formed on a first silicon oxide film 101 formed on a semiconductor substrate 100, and the surface thereof is covered by a second silicon oxide film 103.
半導体基板１００上に形成された第１のシリコン酸化膜１０１上に、パターニングされた第１の多結晶シリコン１０２が形成され、表面を第２のシリコン酸化膜１０３により覆われている。 - 特許庁 - Then the second polycrystal semiconductor film 33 is patterned to form a collector leadout electrode 34, an emitter electrode 35, a gate electrode 36, and LDD source / drain regions 37, 38, 40, 41.
次に第２多結晶半導体膜３３をパターニングしてコレクタ引出し電極３４、エミッタ電極３５及びゲート電極部３６を形成し、ＬＤＤソース／ドレイン領域３７、３８、４０、４１を形成。 - 特許庁 - This patterned knitted fabric characterized by having a pattern comprising loop length-different portions obtained by changing a feeding tension applied to a knitting yarn Y fed from a yarn guide 5 to a knitting needle 3.
本発明の柄付き編地は、糸ガイド５から編針３に供給される編糸Ｙにかける給糸張力を変動させて得られたループ長の異なる部分からなる柄を有するものである。 - 特許庁 - In the second etching process, a resist film is formed to cover the upper and the side surfaces of the second and the third conductive wiring layers which have already been patterned in the first etching process.
第２のエッチング工程では、第１のエッチング工程においてすでにパターニングされた第２及び第３の導電性配線層の上面及び側面を被覆するようにレジスト膜が形成される。 - 特許庁
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