「patterned」を含む例文一覧(3853)
＜前へ 1 2 .... 50 51 52 53 54 55 56 57 58 .... 77 78 次へ＞- To obtain an etched product which retains flexibility fit for conveyance by a reel-to-reel system and has stabilized etching sizes and shapes of holes, etc., without impairing the flexibility a patterned resin layer mask when a photosensitive resin layer formed on the surface of a polyimide film is irradiated with UV through a photomask and developed to form the patterned resin layer mask and the polyimide film is etched with an alkaline solution.
ポリイミドフィルム面上に形成された感光性樹脂層に、フォトマスクを用いて紫外線を照射し、かつ、現像して樹脂層パターンマスクを形成した後、アルカリ性液でポリイミドフィルムをエッチングする場合において、樹脂層パターンマスクの可撓性を損わないでリールツーリール方式の搬送等に適した可撓性を保持し、しかも、穴等のエッチング寸法及び形状が安定化したエッチング製品を得ることができるようにする。 - 特許庁 - This lithography system projects a patterned radiation beam on the target of a substrate containing a radiation photosensitive layer by a radiation source, a patterning structure and a projection system is provided with a gas flashing system for supplying air from a region between the projection system and the substrate in order to remove gas spread from the target section while the target section is exposed by the patterned radiation beam.
放射線源、パターニング構造、投影システムによって放射線感光層を含む基板の標的部分上にパターン化放射線ビームを投影するリソグラフィシステムにおいて、投影システムと基板の間の領域から空気を供給することによって、標的部分をパターン化放射ビームで露光する間に標的部分から発散するガスを除去するためのガス・フラッシング・システムを備えたことを特徴とする。 - 特許庁 - The method for fabricating a photomask includes the steps of: providing a film stack having a molybdenum layer and a light-shielding layer in a processing chamber; pattering a first resist layer on the light-shielding layer; etching the light-shielding layer using the first resist layer as an etch mask; and etching the molybdenum layer using the patterned light-shielding layer and the patterned first resist layer as a composite mask.
フォトマスクを製作するための方法は、モリブデン層と光遮断層とを有するフィルムスタックをプロセスチャンバに提供するステップと、該光遮断層上に第１のレジスト層をパターニングするステップと、該第１のレジスト層をエッチングマスクとして使用して該光遮断層をエッチングするステップと、該パターニングされた光遮断層および該パターニングされた第１のレジスト層を複合マスクとして使用して該モリブデン層をエッチングするステップとを含む。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition developable with an alkaline aqueous solution, having high sensitivity and capable of easily forming a patterned thin film excellent in various characteristics such as insulating property, flatness, heat and solvent resistances, a photosensitive resin composition capable of easily forming a patterned thin film excellent in low dielectric property as well as in the above various characteristics and a processing method for each of the compositions.
アルカリ性水溶液で現像でき、高感度であり、しかも、絶縁性、平坦性、耐熱性、耐溶剤性等の諸特性の優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物、更には、上記諸特性と同時に低誘電特性の優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物及びその処理方法を提供すること。 - 特許庁 - The apparatus also includes a control unit arranged to receive information regarding the extent to which a patterned beam of radiation would extend across a periphery of the substrate when being projected onto the target region of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームが基板の目標部分に投影される際、パターン付与された当該放射ビームが基板周縁を超えて広がる程度に関する情報を受ける制御装置をさらに備える。 - 特許庁 - Then a polysilicon is embedded to form the bit line contact and a capacitor contact 6 at the same time before a bit line 7a is patterned, and further a side wall insulating film comprising a nitride film is formed on the side surface of the bit line.
そして、ポリシリコンを埋め込み、ビット線コンタクトとキャパシタコンタクト６を同時に形成すると共に、ビット線７ａをパターニングし、更にビット線の側面に窒化膜からなる側壁絶縁膜９を形成する。 - 特許庁 - To inhibit the variation of resistance ratio between resistive films by each sensor as little as possible in a flow sensor of thin film type having a thin film structure in which a plurality of patterned resistive films are sandwiched by a pair of insulating films.
パターニングされた複数の抵抗膜を一対の絶縁膜で挟んでなる薄膜構造部を有する薄膜式フローセンサにおいて、各抵抗膜間の抵抗比が、センサ毎にばらつくのを極力抑制する。 - 特許庁 - In this charged particle beam exposure system, a reticle 1 on which a pattern is formed is illuminated with a charged particle beam, the charged partical beam which passes the reticle and is patterned is made to form an image on a sensitive substrate, and a pattern is transferred.
本荷電粒子ビーム露光装置は、パターンを形成したレチクル１を荷電ビームで照明し、レチクルを通過してパターン化された荷電ビームを感応基板上に結像させてパターンを転写する装置である。 - 特許庁 - A semi-insulating film 13 is patterned so as not to enter parasitic resistance by a semi-insulation film 13 between a gate and a source of a MOSFET 14, and between the gate of the MOSFET 14 and a cathode of a thyrister 30.
ＭＯＳＦＥＴ１４のゲートとソース、およびＭＯＳＦＥＴ１４のゲートとサイリスタ３０のカソードとの間に半絶縁膜１３による寄生抵抗が入らないように半絶縁膜１３をパターンニングする。 - 特許庁 - To protect a contact hole against a connection failure, by a method wherein a barrier metal layer is prevented from being corroded in an after treatment process where resist is removed after a wiring layer is patterned.
配線層のパターニングを行った後、レジストの除去等の後処理工程においてバリアメタル層が腐食されず、コンタクトホールの接続不良が防止された半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a ceramic multilayered board and a manufacturing method therefor that make connection between an external terminal and an inside patterned layer more stable and usually maintain the connection even when an error in a manufacturing process occurs.
本発明は、外部端子と内部パターン層との接続をより安定にさせ、製造工程上の誤差があっても常に接続が維持されるようにするセラミック多層基板及びその製造方法に関するものである。 - 特許庁 - A copper foil 1 (main conductor layer) has a nickel plating layer 3 on the whole surface of one side and a patterned nickel plating layer 2 on the surface of the opposite side, and has a copper plating layer 5 (base layer conductor layer) on the surface of the nickel plating layer 3.
銅箔１（主導体層）の片面全面にニッケルめっき３を施すとともにその反対面にパターン付きのニッケルめっき２を施し，ニッケルめっき３の表面に銅めっき５（基層導体層）を形成する。 - 特許庁 - By using the composition, stress of a patterned film is minimized in baking to minimize deformation by shrinkage, whereby a phenomenon such as twist, short (breaking) or falling (rising) of the pattern can be suppressed or prevented.
これにより、焼成時にパターン膜の応力を最小化することによって、収縮による変形を最小化してパターンのねじれ、短絡（切れ）または脱落（浮き上がり）などの現象を抑制または根本的に防止できる。 - 特許庁 - After the contact holes 15 are filled with an antireflection film 16b and the resist 17, the resist 17 is so patterned that it may be left over on the contact holes 15 in a larger area than that of an opening of each contact hole 15.
コンタクトホール１５が反射防止膜１６ｂ及びレジスト１７で埋め込まれた後、コンタクトホール１５上にこのコンタクトホール形成部１５の開口より大きな面積が残るように、レジスト１７がパターニングされる。 - 特許庁 - A plurality of wires are patterned in parallel at an equal interval on a universal substrate, and the universal substrate is cut to obtain the number of wires according to the number of pads in the LSI chip 5 to form the contact probe 4.
汎用基板には複数の配線が等間隔で並列にパターニングされており、同汎用基板をＬＳＩチップ５におけるパッド数に応じた配線数となるよう切断することでコンタクトプローブ４が形成される。 - 特許庁 - To provide a patterned medium which has a satisfactory embedded shape and low surface roughness Ra and wherein irregularity of a magnetic body is embedded in a non-magnetic embedding layer in which production of process dust can be suppressed during film-deposition.
埋め込み形状が良好で、表面粗さＲａが小さく、成膜時にプロセスダストの発生を抑えることができる非磁性埋め込み層で磁性体の凹凸が埋め込まれたパターンド媒体を提供する。 - 特許庁 - To mount a metal mask and a substrate excellently in operability with respect to a heating base plate by using a metal mask of simple structure in a method for ejecting ultrafine particles from a nozzle and forming fine- patterned article on the substrate.
超微粒子をノズルから噴射し、基板上に微細形状の造形物を形成する方法において、加熱基盤に対しメタルマスク及び基板を簡単な構造のメタルマスクを用いて作業性よく装着する。 - 特許庁 - This patterned filter layer (908) contains both filter material area (910) which filters out a part of light received from the narrow band filter and filterless area (912) which filters out all the light received from the narrow band filter.
パターン化フィルタ層（９０８）は、狭帯域フィルタから受ける光の一部を透過するフィルタ材料領域（９１０）と、狭帯域フィルタから受ける光のすべてを透過するフィルタ無し領域（９１２）を含む。 - 特許庁 - A copper foil 1 (main conductor layer) has a nickel plating layer 3 on the whole surface of one side and a thicker patterned tin plating layer 2 on the surface of the opposite side, and has a copper plating layer 5 (base layer conductor layer) on the surface of the nickel plating layer 3.
銅箔１（主導体層）の片面全面にニッケルめっき３を施すとともにその反対面にパターン付きのスズめっき２を施し，ニッケルめっき３の表面に銅めっき５（基層導体層）を形成する。 - 特許庁 - A ferroelectric substance PZT layer 110 and a rare metal electrode 120 are laminated on a silicon substrate 100, and a TiO2 hard mask 130 is formed thereon, and then it is patterned by a resist 140 so as to form a hard mask 131.
シリコン基板１００上に強誘電体ＰＺＴ層１１０、貴金属電極１２０を積層した構造上にTiO_2ハードマスク１３０を成膜し、レジスト１４０でパターニングしてハードマスク１３１を形成する。 - 特許庁 - The channel protective film 15a comprises a plurality of insulation layers whose etching rate increases going toward the lower layers, and is patterned by a photolithographic method to be formed into an inverted tapered shape, which is wider at the upper side and narrower at the lower side.
チャネル保護膜１５ａは、例えば下側の層ほどエッチングレートが大きい複数の絶縁層により形成し、フォトリソグラフィ法によりパターニングすることにより、上側が広く下側が狭い逆テーパ状に形成する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a decorative board having excellent durability, by which a patterned coating film layer excellent in design property can easily be plotted efficiently on the uneven surface of a base material with high precision.
表面に凹凸を有する基材表面に意匠性に優れた模様塗膜層を容易に、能率よく且つ精度よく描画でき、しかも耐久性に優れた化粧板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The plastic sheet is provided with the embossing patterns which are molded in a sheet-thickness direction and composed of a group of small projections on the surface of the sheet, and the folding ruled lines arranged through embossing patterned places.
シート厚み方向に成形してシート面に小突起群からなる凹凸模様を形成し、かつ、凹凸模様形成個所を通して折り曲げ罫線を付設してプラスチックシートを構成し、これによって課題を解決した。 - 特許庁 - To provide a system and method of determining parameters, such as a critical dimension of a patterned structure and a best focus state of a lithographic apparatus and the like, based on strength measurement of nonzero degree of diffracted light from an experimental structure.
実験構造からの回折光の非ゼロ次数の強度の測定に基づいて、パターニングされた構造のクリティカルディメンションおよびリソグラフィ装置のベストフォーカス状態などのパラメータを決定するためのシステムおよび方法。 - 特許庁 - In a press machine wherein a surface is patterned while a wet sheet having hydraulic cement 8 as a main component is pressure-dehydrated, a mold-releasing tape 5 is arranged in an end part flow-stopping part 22 of a press upper board 2.
水硬性セメントを主成分とする湿潤シート（８）を加圧脱水しながら表面模様付けするプレス装置において、プレス上盤（２）の端部流れ止め部（２２）に離型テープ（５）が配設されるようにする。 - 特許庁 - The lithographic apparatus comprises: a radiation source for generating a radiation beam; a support structure for supporting a patterning device; a substrate table for supporting a substrate; and a projection system for projecting a patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを生成する放射源と、パターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an organic semiconductor element in which the active layer can be formed which is patterned to have an excellent pattern shape while being prevented from decreasing in electric characteristics thereof.
活性層の電気的特性の低下を防止でき、しかも良好なパターン形状を有するようにパターニングされた活性層を形成することができる有機半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - Then on a patterned SiO2 film 63 at 970°C, an I layer 64 comprising I-type GaN of film-thickness 1.0 μm is formed by supplying H2 2.5 liter/minute, NH3 at 1.5 liter/minute, TMG at 100 cc/minute, and DEZ at 500 cc/minute.
その後、パターン形成されたＳｉ０_2 膜６３の上に、温度を 970℃とし、Ｈ_2 を 2.5liter ／分、ＮＨ_3 を 1.5liter ／分、ＴＭＧを 100cc／分、ＤＥＺを 500cc／分で供給して、Ｉ型のＧａＮから成るＩ層６４を膜厚 1.0μｍに形成した。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive membrane which is of an amorphous membrane and can be patterned comparatively easily by weak acid etching, and which has a low resistance and a high light transmittance, and furthermore, can be easily crystallized, and its manufacturing method.
アモルファス膜で弱酸エッチングにより比較的容易にパターニングでき、さらに低抵抗で且つ透過率が高く、またさらに容易に結晶化できる透明導電膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A groove made patterned is formed on a main surface of a Si substrate 11 being a base object as the master disk for magnetic transfer, and conductive thine films 14 are formed on the main surface of the Si substrate 11 and the surface of the groove part.
磁気転写用マスタディスクの基体であるＳｉ基板１１の主表面上にパターン化された溝を形成し、Ｓｉ基板１１の主表面および溝部表面に導電性薄膜１４を形成する。 - 特許庁 - One or more lower level BEOL metal wiring layers are designed so as to be patterned symmetrically, aligned, so as to operate on the light-shielding layer which balances the amount of incident light arriving at a photosensitive region.
一つ以上の下部レベルＢＥＯＬ金属配線層が対称的にパターンされ配列されて感光領域に到達する入射光の量の均衡を合わせる光遮蔽層に動作するようにデザインされる。 - 特許庁 - The hard magnet layer is patterned to form a first pattern 43A covering the MR elements 42C, 42D and second and third patterns 43B, 43C holding the MR elements 42A, 42B therebetween in the in-plane direction.
ハードマグネット層をパターニングし、ＭＲ素子４２Ｃ，４２Ｄを覆う第１のパターン４３Ａと、面内方向においてＭＲ素子４２Ａ，４２Ｂを挟むように第２および第３のパターン４３Ｂ，４３Ｃとを形成する。 - 特許庁 - Further, whether a speech is received is checked by speech packets of the speech stream and patterned and it is decided whether the speech stream is an automatic answering telephone voice or talkie voice based upon the obtained patterns and patterns previously stored in the storage section.
また、音声ストリームの音声パケット毎に音声の有無を調べてパターン化し、得られたパターンおよび予め記憶部に記憶されてるパターンに基づいて留守電であるか否かおよびトーキーであるか否かを判定する。 - 特許庁 - A pattern is formed for a reflective film layer 101, a protective film layer 102, and a mask layer 103 by using a patterned resist layer 104 as a mask, and then the resist layer 104 and the mask layer 103 for masking are removed.
パターン形成したレジスト層１０４をマスクとして、反射膜層１０１、保護膜層１０２、マスク層１０３に対してパターンを形成し、その後、レジスト層１０４、マスク加工用マスク層１０３を剥離する。 - 特許庁 - To inspect a surface defect of a magnetic disk using continuous recording system, as well as a surface defect of a magnetic disk using discrete track recording system and patterned media recording system, with only one inspection apparatus.
一台の検査装置で従来の連続記録磁性媒体の磁気ディスクの表面欠陥の検査とディスクリートトラック方式、パターンドメディア方式の磁気ディスクの表面欠陥の検査を行うことを可能にする。 - 特許庁 - To create an SiO_2 film and/or an SiN film satisfying diffusion control properties and passivation properties in a deposition method that creates the SiO_2 film and/or the SiN film patterned on a semiconductor substrate.
半導体基板上にパターニングされたＳｉＯ_2膜および／もしくはＳｉN膜を生成する製膜方法において、拡散制御性能、またはパッシベーション性能を満たすＳｉＯ_2膜および／もしくはＳｉN膜を生成する。 - 特許庁 - Next, a gate insulating film, a semiconductor layer and a resistant contact layer are successively formed and thereafter a conductive film is laminated thereon and is patterned to form a data line having a source electrode, a drain electrode and an alignment key for color filters.
次に、ゲート絶縁膜、半導体層、及び抵抗性接触層を順に形成した後、導電膜を積層しパターニングして、ソース電極を有するデータ線、ドレーン電極、及び色フィルター用整列キーを形成する。 - 特許庁 - The patterned surface of the figured glass 1 is printed by using the screen print and ultraviolet-curing type organic ink, thereafter, curing treatment of the ink is performed by means of ultraviolet irradiation process and the ornamental figured glass 10 is obtained.
このスクリーン印刷版と紫外線硬化型有機インクを用いて型板ガラス１の模様面に印刷した後、紫外線照射処理によりインクの硬化処理を施して装飾型板ガラス１０とする。 - 特許庁 - After a patterned insulation film 11 is formed on a semiconductor wafer, a Cu film 13 is formed on the insulation film 11 and a wiring forming part 12, i.e., a part where the insulation film 11 is not formed.
まず、パターニングされた絶縁膜１１を半導体ウエハ上に形成した後、絶縁膜１１及び絶縁膜１１が形成されていない部分である配線形成部１２の上にＣｕ膜１３を形成する。 - 特許庁 - The parallelogram barrier ribs 4 can be easily obtained by exposing a photosensitive material to light from a diagonal direction, and any photosensitive material is usable, so the cathodes 6 can be patterned at low cost through simple processes.
平行四辺形の隔壁４は、感光性材料に斜め方向から露光することで、容易に得られ、また、感光性材料は任意のものが使用できるので、簡易な工程でかつ低コストに、陰極６がパターニングできる。 - 特許庁 - Then the organic film 605 is patterned by etching the film 605 by using a second resist pattern 609 and the mask pattern 608 as a mask and, at the same time, the second resist pattern 609 is removed.
有機絶縁膜６０５に対して第２のレジストパターン６０９及びマスクパターン６０８をマスクとしてエッチングを行なって、第２の有機膜６０５をパターン化すると共に第２のレジストパターン６０９を除去する。 - 特許庁 - A transparent conductive film is patterned by laminating a conductive film as a thin wire less than 1 mm using optical processes such as laser, without shielding or isolating surface of the transparent conductive film using a masking material.
透明導電膜面をマスキング材で遮蔽隔離させることなく、レーザー等の光加工で１ｍｍ幅以下の細線状に、導電膜を剥離することでパターニングした、透明導電性フィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide an electroconductive base material for plating, from which a conductor layer pattern being patterned and free from plating burning and a base material with the conductor layer pattern can be manufactured with good productivity and which itself can be easily produced.
パターニングされ、めっき焼けのない導体層パターン及び導体層パターン付き基材を生産性よく製造することができ、しかも、それ自体作製が容易であるめっき用導電性基材を提供する。 - 特許庁 - An amorphous silicon layer is patterned to form a filtering channel 63 for connecting an active layer region containing a crystallization source region 60, a source region 64, a channel region under a gate electrode 65, and a drain region 66.
アモルファスシリコン層をパターニングし、結晶化ソース領域６０とソース領域６４、ゲート電極６５下部のチヤネル領域、及びドレイン領域６６を含む活性層領域を連結するフィルタリングチャンネル６３を形成する。 - 特許庁 - To effectively prevent the formation of an acute angle or a thin portion where an electric field concentration easily occurs on the side edge of an electrode to be patterned on a substrate surface in a method of manufacturing an electrode plate.
電極板の製造方法において、基板表面にパターニングされる電極の側縁に、電界集中を生じ易い鋭角部分や薄肉部分が形成されることを効果的に防止できるようにする。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device in which a film can be embedded with favorable characteristics in a fine trench patterned by etching and thereby a finer embedding pattern can be attained.
エッチングによってパターン形成された微細な溝パターン内に特性良好に埋め込み膜を埋め込むことが可能で、これによりさらなる埋め込みパターンの微細化が可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The patterned resin layer 1 expressing a marble pattern is formed by spraying a paint 14 to the inner surface of a casting mold 3 by together using an air spray system and an airless spray system.
エアー方式のスプレー噴射とエアーレス方式のスプレー噴射とを併用して注型用金型３内の内面に塗料１４を噴射することにより大理石柄を表現する柄付き樹脂層１を形成する。 - 特許庁 - The semiconductor device 1 has an insulating substrate 10 where a patterned insulating layer 40 and a conductive layer 50 are formed, and the two semiconductor elements (semiconductor chips) 21 and 22 stacked on the insulating substrate 10.
半導体装置１は、パターニングされた絶縁層４０および導電層５０とを成膜した絶縁基板１０と、この絶縁基板１０上に積層された２枚の半導体素子（半導体チップ）２１、２２とを有している。 - 特許庁 - A first conductive layer is patterned in preparation for a subsequent patterning step which includes a step of patterning both the first conductive layer and the second conductive layer in both the NVM region and the capacitor region.
第１導電体層は後のパターニングステップの準備にパターニングされ、これが、ＮＶＭ領域およびキャパシタ領域の両方に第１導電体層および第２導電体層の両方をパターニングするステップを含む。 - 特許庁 - This decorative molding has a structure in which a transparent or translucent surface resin layer, a patterned ink layer, a transparent or translucent resin layer containing spherical bodies, and a reinforcing layer are superposed in this order from the surface side.
表面側より、透明または半透明表面樹脂層、模様インク層、球状体を含有する透明または半透明樹脂層、補強層を、この順序で積層した構成の加飾成形体とする。 - 特許庁
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