「patterned」を含む例文一覧(3854)
＜前へ 1 2 .... 52 53 54 55 56 57 58 59 60 .... 77 78 次へ＞- Subsequently, by removing the resist film 13 from the exposed upper surfaces 13A, the thin film pattern 15 consisting of parts 12C, which adhere to side surfaces 13C of the resist film 13 in the film 12 to be patterned, is formed.
次いで、レジスト膜１３を露出した上面１３Ａから除去することによって、被パターニング膜１２の、レジスト膜１３の側面１３Ｃに付着した部分１２Ｃからなる薄膜パターン１５を形成する。 - 特許庁 - Accessory information like user information is extracted from inputted PDL data by a job information collection part 101 and is patterned, after being enciphered in an information encryption part 104, as necessary.
ジョブ情報収集部１０１において、入力されたＰＤＬデータからユーザ情報等の付属情報を抽出し、該付属情報は必要に応じて情報暗号化部１０４で暗号化された後にパターン化される。 - 特許庁 - So, color filters 6a', 6b', and 6c' are patterned on a semiconductor substrate 1 so as to have a specified interval C in adjoining color filter materials of other color, which is heated for flowing and curing.
このように、カラーフィルタ６ａ’、６ｂ’および６ｃ’を、隣接する他の色のカラーフィルタ材料との間に所定の間隔Ｃが開くように半導体基板１上にパターンニングし、これを加熱処理して流動および硬化させる。 - 特許庁 - A wiring pattern 20 containing the first layer 12 and the second layer 14 which are patterned is formed by etching the metal layer 16, and a part of the first layer 12 is left outside the second layer 14 of the wiring pattern 20.
金属層１６をエッチングして、パターニングされた第１の層１２及び第２の層１４を含む配線パターン２０を形成し、第１の層１２の一部を配線パターン２０の第２の層１４の外に取り残す。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a solar cell by which the loss of life time of a carrier can be suppressed and a high-concentration p-doping area and a high-concentration n-doping area can be easily patterned in precision.
キャリアのライフタイムの損失を抑制できるとともに高濃度ｐドーピング領域および高濃度ｎドーピング領域の精密なパターンニングを簡易に行なうことができる太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for manufacturing patterned tempered glass, in which the temperature difference between inner and outer parts of a glass substrate subjected to heating and surface pattern formation is increased to the maximum, and thereby tempering is more thoroughly performed through rapid cooling.
表面のパターン形成と共に加熱されたガラス基板の内外部の温度差を最大に大きくし、急冷却を通じて強化がより完全になされるようにするパターンド強化ガラスの製造装置を提供する。 - 特許庁 - A pad layer 20 and a barrier layer 30 are formed on a substrate, these pad layers are patterned so as to form a trench opening and are etched through the trench opening and a trench 12 is formed on the substrate 10.
基板上にパッド層２０及びバリア層３０を形成し、これらパッド層２０等をトレンチ開口部を形成するようにパターン化し、トレンチ開口部を通じてエッチング処理し、基板１０にトレンチ１２を形成する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition capable of forming a patterned cured material film by a photoresist method and giving a cured film having excellent flexibility and hot press resistance in addition to excellent flame retardancy.
フォトレジスト法によりパターン化された硬化物膜を形成することができ、優れた難燃性に加え、優れた可撓性及び熱プレス耐性を有する硬化膜が得られる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - The automatic photograph vending machine accepts a selected result on the pattern and the coloring from the user 9 and controls a take-up device 25 so that the patterned curtain 24 and the colored curtain 24 are installed in a housing 3.
そして写真自動販売機は、ユーザ９から、模様と色彩との選択を受付け、該当する模様のカーテン２４と色彩のカーテン２４とが筐体３内に設置されるように巻取装置２５を制御する。 - 特許庁 - The photograph vending machine accepts a selected result on the pattern and the coloring from the user 9 and controls a take-up device 25 so that the patterned curtain 24 and the colored curtain 24 are installed in a housing 3.
そして写真自動販売機は、ユーザ９から、模様と色彩との選択を受付け、該当する模様のカーテン２４と色彩のカーテン２４とが筐体３内に設置されるように巻取装置２５を制御する。 - 特許庁 - To provide the connection structure of a printed circuit board including a patterned grounding contact matched with cost saving and mass production, by making it unnecessary to provide any separate shield case or ground bar for grounding, and simplifying a manufacturing process.
接地のための別途のシールドケースとグラウンドバーが不要となり、作製工程が簡素化し、費用節減と、大量生産に適合した、パターン化した接地部を備えた印刷回路基板の接続構造体を提供する。 - 特許庁 - Then second masking layers 40 are formed in such a way that the layers 40 lie on the first masking layers 20 and patterned to form at least second openings 42 on the first openings 22.
第２マスキング層（４０）は、第１マスキング層（２０）の上部に横たわるように形成され、第２マスキング層（４０）はパターン化されて、少なくとも第１開口部（２２）の部分の上部に横たわる第２開口部（４２）が形成される。 - 特許庁 - To provide a patterned stretchable cloth having little difference of the aesthetic look of the pattern before and after wearing to prevent the misunderstanding trouble by a consumer on the pattern of the cloth in worn state.
本発明の目的は、伸縮性布帛における柄の着用前と着用中の間の審美性低下が小さく、着用時の柄について消費者の誤認が生じにくい柄付き伸縮性布帛を提供することにある。 - 特許庁 - Successively, based on information of the transfer error quantity, in the same way as the steps A and B, a compensation magnetic pattern 65 in which a magnetic layer is patterned so as to cancel the transfer error quantity is generated, and a true master body 64 is obtained.
次いで、転写誤差量の情報に基づいて、ステップＡ及びステップＢと同様にして、転写誤差量を相殺するように磁性層をパターニングした補正磁気パターン６５を生成し、真のマスター体６４を得る。 - 特許庁 - The base material 1 can be patterned 2 with a design and the decorative material with a sharper three-dimensional feeling is obtained especially by forming a designed pattern 2 including a tuned designed pattern 3 which tunes with a pattern formed by the lustrous resin layer 6.
基材には所望の柄模様２を設けることができ、特に、艶出樹脂層６による模様と同調する同調柄模様３を含む柄模様２を設けると、更に立体感に優れた化粧材が得られる。 - 特許庁 - The magnetic recording medium is provided with a substrate 2a, the magnetic recording layer 2b provided on the substrate 2a and magnetic flux guide materials 2c, 2c.. formed on the magnetic recording layer 2b to be patterned in a prescribed pattern and including at least a soft magnetic body.
基体２ａと、基体２ａ上に設けられた磁気記録層２ｂと、磁気記録層２ｂ上に、所定パターンにパターニングされて形成された、少なくとも軟磁性体を含む磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・とを備える。 - 特許庁 - In this pattern forming method, materials to be etched are patterned by using a resist mask 3 as an etching mask in the manufacturing process of a semiconductor device, and then the volume of this resist mask is expanded by swelling or the like so that this resist mask can be changed into another etching mask 5.
半導体装置の製造工程の中でレジストマスクをエッチングマスクに使用し被エッチング材料をパターニングした後、このレジストマスクを膨潤等により体積膨張させて別のエッチングマスクに変える。 - 特許庁 - To provide an ombre-patterned plush fabric enabling any desired pattern and tint to be adopted, high in ombre effect, having favorable soft touch and bulky touch, and also advantageous in terms of cost, and to provide a method for producing the same.
任意の模様および色彩を採用することができ、ぼかし効果が高く、良好なソフト感および嵩高感を有し、なおかつコスト的に有利であるぼかし柄立毛布帛およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - By sticking the adhesive layer of the irregularity-patterned adhesive sheet thus prepared to the various base surfaces, the irregularity pattern of a hairline tone or the like can be given thereto readily and stably and an ornamental body being very excellent in ornamental properties can be brought about.
このシートの粘着層を種々の基材表面に貼着することにより、ヘアライン調等の凹凸模様を即座に安定して付与でき、非常に装飾性に優れた装飾体となすことができる。 - 特許庁 - In this case, the resist 5 for KrF/ArF is first patterned, the SOG film 4 and the resist 3 for i-beam are dry-etched using the resist 5 for KrF/ArF as a mask, and the first insulating film 2 is dry-etched using the resist 3 as a mask.
その際は、まずＫｒＦ／ＡｒＦ用レジスト５をパターニングし、それをマスクにしてＳＯＧ膜４、ｉ線用レジスト３をドライエッチングし、そのｉ線用レジスト３をマスクにして第１の絶縁膜２をウェットエッチングする。 - 特許庁 - Thick resist 10 is applied in a thickness of about 200 μm on a wiring board 2 to serve as a base, and it is exposed to an ultraviolet ray using a photomask 11 where the section corresponding to the section to form the interlayer connecting electrode 6 is patterned.
下地となる配線基板２に厚膜レジスト１０を２００μｍ程度の膜厚で塗布し、層間接続電極６を形成する部分をパターニングしたフォトマスク１１を用いて紫外線露光する。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive resin composition which ensures high adhesion of a substrate after heat curing, has high adhesion to a metal layer and is suitable for producing a patterned cured film, such as, an interlayer insulating film in a semiconductor device.
加熱硬化後に基板の密着性が高く、また、金属層との密着性が高く、半導体装置の層間絶縁膜等のパターン硬化膜の製造に好適なポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - By removing the multilayered film 16 other than in the recessed section 15 through chemical and mechanical polishing, the ferromagnetic tunnel junction element constituted of the multiplayer film 16 patterned, without being subjected to damages can be formed in the recessed section 15.
そこで、化学的機械的研磨によって、凹所１５外の多層膜１６を除去すると、凹所１５内には、損傷を受けることなくパターニングされた多層膜１６からなる強磁性トンネル接合素子が形成される。 - 特許庁 - In the magnetic assembly in which the magnetic thin film is formed and patterned on the surface of the flexible resin base member, the resin member, having the water absorption of ≤1% and more preferably ≤0.4%, is used as the base member.
可撓性樹脂基材の表面に磁性薄膜がパターン形成された磁性組立体において、基材として使用する樹脂材の吸水率が１％以下、より好ましくは０．４％以下のものを使用する。 - 特許庁 - To prevent the variation in head characteristics, and the geometric dimensions of the pattern on the medium, the degradation in head yield due to a defect etc., of the medium, and the degradation in device yield, in a magnetic recording and playback device mounted with a patterned medium.
パターンド媒体を搭載する磁気記録再生装置において、ヘッド特性や媒体上のパターンの幾何寸法のばらつき、媒体の欠陥等によるヘッド歩留まり低下および装置歩留まり低下を防ぐ。 - 特許庁 - In a chip 3 of a semiconductor wafer, a second PI film 16 is patterned on a first PI film 14 so that an electrode takeout port 15 of the first PI film can be covered and the central part of a pad 11 can be exposed.
半導体ウエハのチップ部３において、第二ＰＩ膜１６が第一ＰＩ膜１４の上に第一ＰＩ膜の電極取出口１５を被覆しパッド１１の中央部を露出させるようにパターニングされる。 - 特許庁 - A transparent ornament substrate 22, formed of at least one type of precious stones, shells, or ceramic, is made to adhere and fixed onto a transparent plastic substrate 21 with a plurality of patterned protruded parts 21a.
模様状に複数の凸部２１ａを有する透明なプラスチック基板２１の上に、貴石，貝，セラミック等の少なくとも一種類からなる透過性装飾基板２２を接着剤２４を介して接着固定する。 - 特許庁 - The system for inspecting a patterned structure formed on a semiconductor wafer using an optical metrology model comprises a first manufacturing cluster, a metrology cluster, an optical metrology model optimizing device, and a real-time profile estimating device.
光計測モデルを用いて半導体ウエハ上に形成されたパターニングされた構造を検査するシステムは、第１製造クラスタ、計測クラスタ、光計測モデル最適化装置、及びリアルタイムプロファイル推定装置を有する。 - 特許庁 - To provide a polymerizable liquid crystal composition which has an NI point in a temperature range suitable for producing patterned optical elements in two or more phase difference parts and two or more isotropic parts, and in which a precipitate or the like is not generated.
複数の位相差部と複数の等方部にパターニングされた光学素子を生産する上で好適な温度範囲にＮＩ点を有し析出物等が発生しない重合性液晶組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a plasma display panel holding the shape of a raised dielectric layer patterned in a baking process, and sufficiently displaying a function suppressing the spreading of discharge on a bus electrode.
焼成工程におけるパターニングされた嵩上げ誘電体層の形状を保持することができ、バス電極上への放電の広がりを抑制する機能を十分発揮できるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A photoresist 17 is formed on a polysilicon film 16 and the photoresist 17 is patterned to exist in a shape that covers a select transistor from the top of a memory cell transistor or in a shape that extends to the select transistor STr.
ポリシリコン膜１６上にフォトレジスト１７を形成し、このフォトレジスト１７をメモリセルトランジスタ上からセレクトトランジスタを覆う形状又はセレクトトランジスタＳＴｒまでかかる形状に残存するようにパターニングする。 - 特許庁 - To provide an electrochromic composition which has favorable handleability and can be patterned by various coating methods, and an electrochromic element using the composition which is superior in printability and productivity and free from liquid leakage.
ハンドリング性が良好であり、様々な塗布法によるパターン形成が可能なエレクトロクロミック組成物及びこの組成物を用いた印刷性と生産性に優れた漏液の少ないエレクトロクロミック素子を提供する。 - 特許庁 - A transparent first ITO film is attachedly formed on a transparent substrate, and it is patterned in a shape of a plurality of striped electrode parts and a plurality of wiring parts that are lead wiring lines thereof to form a first electrode layer.
透明な基板上に透明な第１ＩＴＯ膜を着膜し、これをストライプ状の複数の電極部とそれらそれぞれの引出配線である複数の配線部の形状にパターニングし第１電極層を形成する。 - 特許庁 - After that, a patterned photoresist 7 is formed, the rodhium thin film 6 is taper-etched using the photoresist 7 as a mask and the photoresist 7 is removed, thereby forming the conical trapezoidal reflection member 5 made of rhodium (Fig.2(b)).
この後、パターニングされたフォトレジスト７を形成し、それをマスクとしてロジウム薄膜６をテーパーエッチングし、フォトレジスト７を除去することで、ロジウムから成る円錐台状の反射部材５を形成する（図２（ｂ））。 - 特許庁 - To provide a sputtering system where, by using sputtered neutral atoms at respective tilted multicathodes, the satisfactory coverage of a side wall and a bottom part can be formed in a patterned hole or groove on the surface of a wafer.
傾斜したマルチカソードの各々でスパッタされた中性原子を用いることでウェハー表面のパターン化された孔または溝でより良い側壁および底部のカバレッジを形成できるスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁 - On a flexible printed wiring board 30, a wiring copper foil 33 is so patterned in a resin film 31 as to extend from the circuit board 10 in the contacting/parting direction, and the bump 21 is jointed to a land 36.
フレキシブルプリント配線板３０は、樹脂フィルム３１内に配線用銅箔３３が回路基板１０から接離する方向に延びるようにパターニングされるとともにランド３６にはバンプ２１が接合されている。 - 特許庁 - Image data in PDL data are held in a first image memory 103, after being interleaved in a PDL rasterizer 102 and is combined with patterned accessory information by an output image data generation part 107 and is outputted.
ＰＤＬデータ内の画像データはＰＤＬラスタライザー１０２でインタープリトされた後に第１の画像メモリ１０３に保持され、出力画像データ形成部１０７でパターン化された付属情報と合成されて出力される。 - 特許庁 - A vacuum film forming device forms a 1st conductive film on an insulating substrate 121 and this 1st conductive film is patterned as specified by, for example, a photoetching method to form a gate wire 103.
真空成膜装置によって、絶縁性基板１２１上に第１導電膜を形成し、この第１導電膜をたとえばフォトエッチング法によって、所定パターンにパターン形成してゲート配線１０３を形成する。 - 特許庁 - Inverting the PXLED to expose the pattern of the masking layer or using the Talbot effect to create an aligned second patterned masking layer allows the formation of PXLEDs with low defect density.
マスク層のパターンを露出させるためにＰＸＬＥＤを逆にするか、又は、「タルボット」効果を用いて整列した第２のパターン化マスク層を作り出すことにより、欠陥密度の低いＰＸＬＥＤを形成することができる。 - 特許庁 - To provide a method of fabricating a semiconductor device in which a tunnel insulating layer formed below a charge storage layer is not damaged when the charge storage layer is patterned.
本発明は、電荷貯蔵膜をパターニングする時に下部に形成されたトンネル絶縁膜が損傷するのを防止することができる半導体素子の製造方法を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁 - To provide a surface-treated copper foil which has a low hygroscopicity and can be laminated with a liquid crystal polymer film excellent in heat resistance to form a composite material for a substrate which has a large peel strength and can be finely patterned.
吸湿性が低く、優れた耐熱性を有する液晶ポリマーフィルムとラミネートして、ピール強度が大きく、ファインパターン化が可能な基板用複合材とすることのできる表面処理銅箔を提供すること。 - 特許庁 - The color filter layer 28B is patterned to form a B color filter layer 13B and a transparent film 14 on the semiconductor substrate 18 and also to form an area 18a where an R color filter layer 13R is formed.
カラーフィルタ層２８Ｂをパターニングして、半導体基板１８上にＢ色カラーフィルタ層１３Ｂ、透明膜１４を形成するとともに、Ｒ色カラーフィルタ層１３Ｒを形成する領域１８ａを形成する。 - 特許庁 - To provide a blind using slats which are manufactured from Japanese cedar plates as a natural wooden material having warm feeling and which can be variously colored and patterned by utilizing the characteristic of the natural Japanese ceder plate material.
温かみのある天然の木質材である杉の板材により製作したスラットを用い、なおかつ、天然の杉の板材の特性を生かした様々な色彩や模様を楽しむことができるブラインドを提供する。 - 特許庁 - A material film forming a TFT is laminated on an insulating film substrate, a resist mask having a plurality of areas of different thicknesses is provided on an uppermost layer and then patterned.
ＴＦＴを構成する材料膜を絶縁膜基板上に積層して成膜してから、膜厚が互いに異なる複数の領域を有するレジストマスクを上記材料膜の最上層にパターニングして形成する。 - 特許庁 - To form a nano-structure layer through a mask comprising a block copolymer finely patterned in a temperature atmosphere lower than the glass transition temperature of a workpiece, and to contribute to the fine patterning technique field.
加工対象物のガラス転移温度よりも低い温度雰囲気下にて微細パターン化されたブロック共重合体から成るマスクを介してナノ構造層を形成することができ、微細パターン化技術分野に貢献する。 - 特許庁 - A polycrystalline silicon film 6, a tungsten nitride film 7, and a tungsten film 8 are laminated on a gate insulating film 5 formed on a semiconductor substrate 1, and the laminate is patterned for the formation of gate electrodes 10a, 10b, 10c.
半導体基板１上のゲート絶縁膜５上に、多結晶シリコン膜６、窒化タングステン膜７およびタングステン膜８を積層してパターニングすることにより、ゲート電極１０ａ，１０ｂ，１０ｃを形成する。 - 特許庁 - Then, a green emission layer and a blue emission layer having electron transportation property are sequentially patterned by a transfer method, on the heat-treated surface above the lower electrode 3, of the other pixel in those pixels.
その後、各画素のうちの他の画素における下部電極３の上方の加熱処理された面上に、電子輸送性の緑色発光層および青色発光層を、転写法によって順次パターン形成する。 - 特許庁 - A butterfly electrode patterned by an electric conductive film is attached at the rear shaft 8 through a hub 13 and a four-part split electrode 16 is faced to the butterfly electrode with a gap extremely closed to the butterfly electrode.
後部シャフト８には導電性の薄膜でパターニングしたバタフライ電極がハブ１３を介して取付けられ、バタフライ電極に極めて接近した空隙をとって４分割電極が対面させられている。 - 特許庁 - A silicon oxide film 2 is formed on a silicon semiconductor substrate 3, a polysilicon film is formed on the silicon oxide film, and a polysilicon film 6a is patterned in parallel at an appropriate interval using a resist film 5a as a mask.
シリコン半導体基板３上にシリコン酸化膜２を形成し、シリコン酸化膜上にポリシリコン膜を形成し、レジスト膜５ａをマスクとしてポリシリコン膜６ａを平行且つ適長間隔でパターン形成する。 - 特許庁 - After a resist film is formed on the upper electrode, the resist film is patterned and used as a mask to etching the ferroelectric film and first conductive film together, thereby forming a lower electrode of the first conductive film.
上部電極上にレジスト膜を形成した後、レジスト膜をパターニングし、レジスト膜をマスクとして、記強誘電体膜及び前記第１の導電膜を一括エッチングし第１の導電膜より下部電極を形成する。 - 特許庁
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